一种多层金属氧化物多孔薄膜纳米气敏材料的制备方法

    公开(公告)号:CN103529081A

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201310491742.4

    申请日:2013-10-21

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种多层金属氧化物多孔薄膜纳米气敏材料的制备方法,将微球水溶液自组装在覆盖有绝缘层的基底上,形成致密的单层阵列模板,用等离子刻蚀的方法刻蚀微球的表面,减小微球的间距,然后用物理沉积的方法沉积金属氧化物薄膜,之后用溶剂超声处理,去除模板,制备出多孔阵列金属氧化物薄膜,在空气气氛下退火处理即得到金属氧化物多孔薄膜气敏材料。本发明制备出规整的多孔阵列薄膜气敏材料,制得的多孔薄膜材料的孔径大小均一,材料的组合可控,孔径大小可控。

    成膜方法和成膜装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1265016C

    公开(公告)日:2006-07-19

    申请号:CN02804474.6

    申请日:2002-02-05

    CPC classification number: C23C14/225 C23C14/087 C23C14/28 C23C14/505

    Abstract: 本发明公开了一种可以在大面积的基板上形成膜的成膜方法和成膜装置。在该成膜方法中,从靶材(14)的表面使成膜材料飞散,通过使该飞散的成膜材料堆积在基板(12)上而形成膜。该成膜方法包括:使基板(12)的表面相对靶材(14)的表面成一定的角度而配置基板(12)和靶材(14)的工序,和使基板(12)相对靶材(14)移动到相对的位置处,同时在二维方向上连续地增加薄膜表面的面积,从而在基板(12)上形成膜的成膜工序。

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