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公开(公告)号:CN109622343A
公开(公告)日:2019-04-16
申请号:CN201811558516.2
申请日:2018-12-19
申请人: 宁波瑞凌节能环保创新与产业研究院
发明人: 徐绍禹 , 其他发明人请求不公开姓名
CPC分类号: B05D7/24 , A47H23/08 , B05D5/00 , B05D7/58 , B05D2506/10 , B05D2518/10 , B60J1/2011 , C23C14/0641 , C23C14/0652 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/10
摘要: 本发明公开了一种辐射制冷帘及其制备方法。该辐射制冷帘包括依次设置的面料层、胶合层、反射层以及辐射制冷层,胶合层用于连接面料层和反射层,反射层适于反射红外光线和可见光,辐射制冷层包括辐射制冷颗粒,辐射制冷颗粒在8~13μm波段具有高发射率,以使得辐射制冷层适于将热量以红外辐射的方式通过“大气窗口”发射出。本发明的辐射制冷帘同时具有反射太阳光和被动制冷的效果,节能环保。
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公开(公告)号:CN109576647A
公开(公告)日:2019-04-05
申请号:CN201811581474.4
申请日:2018-12-24
申请人: 深圳正和捷思科技有限公司
CPC分类号: C23C14/24 , C23C14/028 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/5806
摘要: 本发明属于光学薄膜技术领域,具体涉及一种超薄滤光片薄膜制备方法。所述超薄滤光片薄膜制作方法,包括如下步骤:S1、玻璃基板预处理;S2、清洗烘干处理;S3、基片装夹;S4、镀膜;S5、冷却及卸载;其中所述新型膜系结构采用特别的结构设计。采用本技术方案的制作方法,通过膜系结构的全新厚度结构设计,使薄膜结构的应力得到有效释放,明显改善产品变形量,镀制的超薄滤光片薄膜基片破碎现象大大减少,有效提高了玻璃基片的可用面积。
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公开(公告)号:CN109338298A
公开(公告)日:2019-02-15
申请号:CN201811244880.1
申请日:2018-10-24
申请人: 中国科学院兰州化学物理研究所
CPC分类号: C23C14/352 , C23C14/067 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/165
摘要: 本发明提供了一种二硼化钛-二氧化钛基高温太阳能吸收涂层及其制备方法。所述的高温太阳能吸收涂层沉积在太阳能集热元件基底上,从基底表面向上依次包括红外反射层、吸收层和减反射层,红外反射层由金属钨薄膜组成,吸收层由二硼化钛和二氧化钛的复合陶瓷薄膜组成,减反射层由氧化铝组成。本发明的涂层具有优异的光学性能和良好的热稳定性能,制备工艺简单,适合于工业化生产与应用。
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公开(公告)号:CN109338296A
公开(公告)日:2019-02-15
申请号:CN201811244865.7
申请日:2018-10-24
申请人: 中国科学院兰州化学物理研究所
CPC分类号: C23C14/352 , C23C14/067 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/165
摘要: 本发明一种二硼化锆-氧化锆基高温太阳能吸收涂层及其制备方法,涉及新型高温太阳能光谱选择性吸收材料及其真空镀膜技术领域。二硼化锆-氧化锆基高温太阳能吸收涂层采用三层复合结构,自基底表面向上依次为红外反射层、吸收层和减反射层,所述红外反射层为金属钼Mo,所述吸收层为二硼化锆ZrB2和氧化锆ZrO2的复合陶瓷,所述复合陶瓷中二硼化锆ZrB2和氧化锆ZrO2均为非晶态,所述二硼化锆ZrB2和氧化锆ZrO2的复合陶瓷吸收层是由直流磁控溅射二硼化锆所得,氧化锆ZrO2由二硼化锆ZrB2部分氧化得到,所述减反射层为氧化铝Al2O3。本发明的涂层具有高的吸收率、低的发射率和良好的热稳定性能,适合于工业化生产与应用。
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公开(公告)号:CN109130798A
公开(公告)日:2019-01-04
申请号:CN201810785211.9
申请日:2018-07-17
申请人: 海安浩驰科技有限公司
发明人: 余兴亮
CPC分类号: B60J1/20 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/35
摘要: 本发明涉及汽车贴膜技术领域,涉及一种镀TiO2/SiO2纳米多层薄膜的PET汽车贴膜及制备方法和应用。本发明的材料包括TiO2薄膜材料和SiO2薄膜材料,二者通过磁控溅射法进行纳米量级的交替叠加。本发明的材料的结构通式为[TiO2(a)nm/SiO2(b)nm]x,式中a、b分别表示所述的单层TiO2薄膜和单层SiO2薄膜的厚度,10≤a≤90nm,10≤b≤90nm,x表示单层SiO2和单层TiO2薄膜的交替周期数或者交替层数,且x为正整数。薄膜的总厚度可由x与所述单层SiO2和单层TiO2薄膜的厚度计算所得,即[(a+b)*x](nm)。本发明的TiO2/SiO2多层复合薄膜的总厚度约为700nm,此时(a+b)*x≈700(nm)。本发明的TiO2/SiO2多层复合薄膜具有较高的隔热率、较好的紫外线反射率、较低的雾度及较高的可见光透过率,适合于汽车隔热贴膜,极具市场开发前景。
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公开(公告)号:CN109023273A
公开(公告)日:2018-12-18
申请号:CN201810884395.4
申请日:2018-08-06
申请人: 信阳舜宇光学有限公司
CPC分类号: C23C14/352 , C23C14/0036 , C23C14/0652 , C23C14/083 , C23C14/46
摘要: 本发明涉及一种镀膜设备及镀膜方法,其中镀膜设备包括真空室(1),设置在所述真空室(1)中的靶材基座(11)和基底夹具(12),所述靶材基座(11)设置于所述基底夹具(12)的上方;还包括电极切换装置(13);所述电极切换装置(13)与所述靶材基座(11)相互连接,且所述靶材基座(11)为偶数个。通过交替变换溅射靶材的电极性,从而实现本发明在镀膜过程中,使带正电荷的等离子体轮流轰击电极性为阴极的溅射靶材,从而避免的长时间轰击同一个溅射靶材而导致溅射靶材“中毒”,进而避免了在镀膜过程中,溅射靶材的失效,有效提高了溅射靶材的使用寿命,并且进一步提高了镀膜设备的镀膜效率。
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公开(公告)号:CN108962592A
公开(公告)日:2018-12-07
申请号:CN201810788742.3
申请日:2018-07-18
申请人: 清华大学
CPC分类号: H01G4/33 , C23C14/0647 , C23C14/083 , C23C14/35 , H01G4/06 , H01G4/08 , H01G4/10 , H01G4/18
摘要: 本发明公开了一种高温下高储能密度和高充放电效率的电容器薄膜制备方法,通过真空射频磁控溅射技术在聚合物电容器薄膜表面先后沉积高介电常数层和高绝缘性能薄层。利用高介电常数层具有高介电常数的特点,以提高薄膜的等效介电常数,从而提高其能量密度。利用高绝缘性能薄层的宽能带隙,将其作为电荷阻挡层,从而有效抑制高温高电场作用下由于电极处的电荷注入而形成的泄漏电流,进而提高聚合物电容器薄膜在高温高电场作用下的充放电效率,达到同时提高聚合物电容器薄膜在高温下的储能密度和充放电效率的目的。
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公开(公告)号:CN108546917A
公开(公告)日:2018-09-18
申请号:CN201810238279.5
申请日:2018-03-22
申请人: 江苏蔚联机械股份有限公司
CPC分类号: C23C14/083 , B05D7/14 , C23C14/028 , C23C14/086 , C23C14/10 , C23C14/12
摘要: 本发明公开了一种铝合金的表面处理方法,此表面处理方法按如下步骤进行:选取合格的铝合金基底材料并进行打磨或清洗;将打磨后的铝合金基底材料进行喷砂或磁力抛光处理;采用PVD镀膜工艺在表面外观一致性处理后的上方镀射一层一定厚度的金属陶瓷化层;在金属陶瓷化层的上方涂布一层防指纹涂层。本发明的表面处理方法环保,能有效避免阳极氧化处理中酸、碱及重金属的水污染,处理后的铝合金表面具有与阳极氧化处理后一致的耐候性及手感,且对于阳极氧化难以处理的高硅含量的压铸铝材表面,本方法同样易对其进行表面陶瓷化处理。
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公开(公告)号:CN108511141A
公开(公告)日:2018-09-07
申请号:CN201710101934.8
申请日:2017-02-24
申请人: 清华大学
CPC分类号: H01B19/00 , C23C14/083 , C23C14/24 , C23C14/35 , H01B19/04
摘要: 一种电介质复合材料电荷注入抑制方法,包括镀膜步骤、固定步骤,所述镀膜步骤、固定步骤依次进行,其特征在于,所述镀膜步骤中,在高压设备载流体、绝缘材料其中至少一个表面进行镀膜,所述固定步骤中,将所述高压设备载流体与绝缘材料进行固定。其有益效果是:在电力传输及供配电设备中,涉及到导体同绝缘密切接触的电力配件,能够应用该方法作为电荷注入抑制方法,起到延长提高绝缘寿命,达到设备安全运行的效果。
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公开(公告)号:CN103290361B
公开(公告)日:2018-09-07
申请号:CN201310056696.5
申请日:2013-02-22
申请人: 于利奇研究中心有限公司 , 苏舍美特科公司
CPC分类号: C23C4/127 , B01D53/22 , C23C4/134 , C23C14/027 , C23C14/083 , C23C14/228 , C23C28/30 , Y10T428/24174
摘要: 为了施涂热障涂层(10),由等离子炬在工作腔(2)中产生等离子体射流(5)并将其导向引入工作腔内的基体(3)的表面,通过PS‑PVD在基体表面上施涂陶瓷涂料,其中将涂料作为粉末注入等离子体射流中并在其中部分或完全气化。在施涂热障涂层时,在第一工作步骤中,注入粉末的进料速率设定为使得大部分的注入粉末气化,其中涂料从气相中凝结到基体表面上,并与基体表面的材料形成混合相。在第二工作步骤中,将注入粉末的进料速率提高至少5倍,从而气化的注入粉末的相对比例降低,且涂料以细长柱的形式沉积,所述细长柱形成了各向异性的微观结构,且取向为基本上垂直于基体表面。
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