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公开(公告)号：CN103290361A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310056696.5
申请日：2013-02-22
申请人： 于利奇研究中心有限公司 , 苏舍美特科公司
CPC分类号： C23C4/127 , B01D53/22 , C23C4/134 , C23C14/027 , C23C14/083 , C23C14/228 , C23C28/30 , Y10T428/24174
摘要： 为了施涂热障涂层（10），由等离子炬在工作腔（2）中产生等离子体射流（5）并将其导向引入工作腔内的基体（3）的表面，通过PS-PVD在基体表面上施涂陶瓷涂料，其中将涂料作为粉末注入等离子体射流中并在其中部分或完全气化。在施涂热障涂层时，在第一工作步骤中，注入粉末的进料速率设定为使得大部分的注入粉末气化，其中涂料从气相中凝结到基体表面上，并与基体表面的材料形成混合相。在第二工作步骤中，将注入粉末的进料速率提高至少5倍，从而气化的注入粉末的相对比例降低，且涂料以细长柱的形式沉积，所述细长柱形成了各向异性的微观结构，且取向为基本上垂直于基体表面。
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公开(公告)号：CN103290361B
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201310056696.5
申请日：2013-02-22
申请人： 于利奇研究中心有限公司 , 苏舍美特科公司
CPC分类号： C23C4/127 , B01D53/22 , C23C4/134 , C23C14/027 , C23C14/083 , C23C14/228 , C23C28/30 , Y10T428/24174
摘要： 为了施涂热障涂层（10），由等离子炬在工作腔（2）中产生等离子体射流（5）并将其导向引入工作腔内的基体（3）的表面，通过PS‑PVD在基体表面上施涂陶瓷涂料，其中将涂料作为粉末注入等离子体射流中并在其中部分或完全气化。在施涂热障涂层时，在第一工作步骤中，注入粉末的进料速率设定为使得大部分的注入粉末气化，其中涂料从气相中凝结到基体表面上，并与基体表面的材料形成混合相。在第二工作步骤中，将注入粉末的进料速率提高至少5倍，从而气化的注入粉末的相对比例降低，且涂料以细长柱的形式沉积，所述细长柱形成了各向异性的微观结构，且取向为基本上垂直于基体表面。
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公开(公告)号：CN102844461A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201180019325.9
申请日：2011-04-05
申请人： 于利奇研究中心有限公司
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/40 , C23C16/455 , F01D5/28 , H01L21/768
CPC分类号： B28B19/00 , C23C16/045 , C23C16/403 , C23C16/45525 , C23C16/45555 , F01D5/288 , Y10T428/249969 , Y10T428/24997
摘要： 本发明提供一种用调质材料内涂覆由基础材料制成的多孔功能层的孔的方法，该调质材料降低了基础材料的扩散和/或该基础材料与其周围介质的反应性。按本发明，该调质材料由气相沉积到孔的内表面上。已认识到，与根据至今的现有技术可实现的相比，通过气相沉积可将调质材料明显更深地引入功能层的孔体系中。特别适用的是，如果不将调质材料本身引入孔体系中，而引入一种或两种该调质材料前体，由前体在孔的内表面上形成有效的调质材料。
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