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公开(公告)号：CN119935955A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202510130144.7
申请日：2025-02-05
Applicant: 广东工业大学
IPC: G01N21/41 , B01L3/00 , G01N21/01 , C25D5/10 , C25D5/54 , C25D11/04 , C23C14/18 , C23C14/30 , C23C14/35
Abstract: 本发明涉及微流控的技术领域，更具体地，涉及一种环境污染物检测装置、制备方法及其使用方法，制备方法包括：选取玻璃基底；印制纳米孔薄膜传感器阵列、第一入口单元、第一毛细管阵列、阻断单元和流出单元；将纳米孔薄膜传感器阵列进行功能化得到检测单元。使用方法包括：待检测样品在检测单元处进行充分反应；使用宽带光源照射检测单元，反射的光信号发生偏移，根据光信号偏移结果能够确定样品中是否含有目标重金属离子。装置包括玻璃基底以及在其上顺次连通设置的第一入口单元、第一毛细管阵列、检测单元、阻断单元、第二毛细管阵列。本发明能够快速实现环境污染物检测，具有良好的可重复使用性以及便携性，应用场景广泛。
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公开(公告)号：CN116426884B
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202310299746.6
申请日：2023-03-25
Applicant: 中国航发北京航空材料研究院
Abstract: 本发明是一种镁硅铈氧双陶瓷层结构热障涂层的制备方法，该方法是采用电子束物理气相沉积工艺，以单一组分的Mg3(Si0.8Ce0.2)2O7陶瓷靶材为原料，在镍基高温合金表面制备出具有双陶瓷层结构的Mg2SiO4/Mg(Si0.6Ce0.4)2O6热障涂层，该方法通过控制电子束物理气相沉积设备的电子枪能量密度、灯丝电流、加速高压、占空比、真空度、靶材进给速率、O2气体流量、Ar气体流量、沉积时间等因素，在高温合金表面上制备出以Mg2SiO4为陶瓷底层，Mg(Si0.6Ce0.4)2O6为陶瓷顶层的双层结构热障涂层。该热障涂层具有高温物相稳定、抗烧结、低热导、高热膨胀系数以及与金属粘结层的界面化学相容性匹配，适合于1300℃以上的高温氧化腐蚀环境下使用，能提高航空发动机涡轮叶片材料的工作承载温度。
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公开(公告)号：CN116377375B
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202310387182.1
申请日：2023-04-12
Applicant: 江苏大学
Abstract: 本发明提供一种激光复合预烧结处理热障涂层抗环境腐蚀方法，包括以下步骤：步骤S1、确定热障涂层表面开始熔化所需的临界功率密度Pm，确定热障涂层表面开始气化所需的临界功率密度Pv；步骤S2、高能脉冲激光以功率密度P1：1/2(Pm+Pv)对热障涂层表面进行第一次釉化；步骤S3、高能脉冲激光以功率密度P2：1/2(Pm+P1)对热障涂层表面进行第二次釉化；步骤S4、高能脉冲激光以功率密度Pn：1/2(Pm+Pn‑1)，其中n＝2,3,4……，对热障涂层表面进行第n次釉化，直到表面微裂纹宽度
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公开(公告)号：CN119913509A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510099572.8
申请日：2025-01-22
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种宽波段透明涂层及其制备方法和应用，属于材料制备技术领域。该涂层自基体向外依次包括ITO薄层、光子晶体多层、ITO薄层、介电‑金属‑介电型的介电多层、ITO薄层和SiO2红外发射层。本发明旨在提供一种宽波段透明涂层及其制备方法和应用，该涂层能有效覆盖从可见光至近红外的宽波段范围，防护不同波长的激光威胁。涂层在可见光波段实现了超过90％的高透射率，保证了光学设备的清晰视野，同时在近红外及远红外波段展现出超过85％的高反射率，有效避免了激光对设备的伤害。
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公开(公告)号：CN119913458A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202311434274.7
申请日：2023-10-31
Applicant: 北京北方华创真空技术有限公司
IPC: C23C14/30
Abstract: 本申请涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种电子束蒸发设备消除散射电子及二次电子的装置及方法，电子束蒸发设备消除散射电子及二次电子的装置包括设置在主鼓和坩埚之间的阳极板，阳极板围设在坩埚的周边，阳极板设置有至少一个、至多三个，阳极板避开电子束设置。电子束蒸发设备消除散射电子及二次电子的方法包括将水冷挡板作为阳极板使用，在水冷挡板上施加正电压；在水冷挡板靠近坩埚的一侧增设辅助阳极板；对辅助阳极板进行位置设计或者表面结构设计；在坩埚的上方、主鼓的下方设置电子屏蔽网；将坩埚进行电绝缘处理，在坩埚上施加正电位。本申请具有降低散射电子和二次电子反射到基材上的可能性，以提高基材的成膜质量的效果。
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公开(公告)号：CN119902320A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202510057897.X
申请日：2025-01-14
Applicant: 北京创思镀膜有限公司
Inventor： 曾强
Abstract: 本发明提供一种二向色镜光学薄膜及其镀制方法，该二向色镜光学薄膜，改用三种薄膜材料，低折射率材料选用具有极好抗激光性能的SiO2，高折射率材料选用具有很高折射率的Ta2O5和深紫外低吸收的金属Hf。在整个膜层结构的内侧，即反射吸收较小的部分采用Ta2O5‑SiO2膜堆，利用其折射率比值大的优势通过较少的膜层数达到高反射率的要求；在Ta2O5‑SiO2膜堆的最外部分叠加Hf‑SiO2膜堆，不仅可以保证深紫外波段的反射率达标，还对Ta2O5‑SiO2起到提高其激光损伤能力的半波保护作用。
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公开(公告)号：CN119876880A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510216319.6
申请日：2025-02-26
Applicant: 延边大学
Abstract: 本发明涉及薄膜加工技术领域，尤其涉及一种基于磁控溅射加工的氧化锌掺杂薄膜加工设备，包括放卷室、处理室、磁控溅射室、蒸发室、冷却室和收卷室，所述磁控溅射室包括第一磁控镀膜辊、溅射靶座、溅射导向轮、第二磁控镀膜辊和溅射变向轮，所述溅射导向轮沿所述薄膜的输送方向设置在所述磁控溅射室内，所述溅射变向轮引导所述薄膜先通过第一磁控镀膜辊进行正面镀膜，以及后通过所述第二磁控镀膜辊进行反面镀膜。该设备无需对完成镀膜后的薄膜进行二次装卸，避免对镀好的薄膜造成损坏，有利于提高产品的质量，镀膜时无需开腔及二次抽真空，能够简化工艺，节约时间，有利于提高生产效率，降低生产成本。
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公开(公告)号：CN119876850A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510225392.X
申请日：2025-02-27
Applicant: 成都信息工程大学
Abstract: 本发明涉及高损伤阈值光学薄膜技术领域，特别是涉及一种近红外长波下高激光损伤阈值氧化钽薄膜及其制备方法，包括以下步骤，使用强氧化无机溶剂对衬底材料进行清洗，去离子水洗净后使用有机溶剂清洗，氮气吹干后烘干，得到干净的衬底；在干净的衬底上沉积氧化钽，得到沉积氧化钽的衬底；对沉积氧化钽的衬底进行快速退火，得到镀氧化钽的衬底。本发明采用上述步骤的一种近红外长波下高激光损伤阈值氧化钽薄膜及其制备方法，采用快速退火有效提高了氧化钽薄膜在近红外长波处的激光损伤阈值，相对于未退火的膜层，激光损伤阈值提高了约190%，并大大缩短制备时间。
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公开(公告)号：CN119866107A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411953033.8
申请日：2024-12-27
Applicant: 西安电子科技大学芜湖研究院 , 西安电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种自减反结构SiC基紫外光电二极管及其制备方法，涉及半导体技术领域，包括：依次层叠设置的阴极、欧姆接触层、衬底、外延层和钝化层；隔离层，包括多个阵列排布在钝化层上表面的隔离单元，隔离单元呈现鼓包状；肖特基接触层，位于钝化层的上表面，且位于相邻隔离单元之间；阳极，位于肖特基接触层的上表面；保护层，位于部分阳极的上表面，以及位于暴露出的隔离单元的上表面。本发明能够提高器件的光电探测性能。
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公开(公告)号：CN119859059A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202311360749.2
申请日：2023-10-19
Applicant: 清华大学
IPC: C04B35/488 , C23C4/10 , C23C4/134 , C23C14/08 , C23C14/30 , C23C14/34 , C23C4/129 , C04B35/622 , C04B35/626
Abstract: 本申请提供一种热障陶瓷材料及其制备方法、热障涂层材料，其中，热障陶瓷材料具有以下组成：xA2O3·yBO2·zZrO2；其中，A为三价稀土金属离子；B为四价稀土金属离子；x的取值范围为5％～8％；y的取值范围为0％～70％；2x+y+z＝1；所述热障陶瓷材料包括立方相结构。本申请中的热障陶瓷材料以ZrO2为基础，通过调控稀土掺杂元素的总量和种类，使热障陶瓷材料具有稳定的立方相和部分立方相，在改善相稳定性的同时，保证热障陶瓷材料具有高断裂韧性和低热导率。
