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公开(公告)号：CN113841023A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202080018726.1
申请日：2020-03-02
Applicant: FOGALE 纳米技术公司
IPC: G01B9/02 , G01B11/14 , G01B11/27 , G01M11/02 , G01B11/00 , G01B11/06 , G06T7/00 , G02B27/62 , G02B21/00
Abstract: 一种用于测量形成包括称为“参考”光学元件的至少一个光学元件的多个类似光学元件的一部分的待测量光学元件(5)的界面的设备和方法(100)，该方法(100)包括以下步骤：所述参考光学元件和测量光束(11)的相对定位(102)；获取(104)“参考”图像；相对于视场定位(106)待测量光学元件(5)，以允许获取“测量”图像；确定(107)所述待测量光学元件(5)相对于参考光学元件的位置差别；调整(110)所述待测量光学元件(5)的位置，以消除所述位置差别；以及，借助于所述测量光束(11)来测量(112)待测量光学元件(5)的界面。
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公开(公告)号：CN105829971B
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201480066168.0
申请日：2014-11-28
Applicant: FOGALE 纳米技术公司
IPC: G03F9/00
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F9/703 , G03F9/7038 , G03F9/7088
Abstract: 本发明涉及用于相对于晶片(11)的表面定位掩模(10)以暴露所述晶片(11)的装置。所述装置包括：(i)第一定位单元(20)，其能够使所述掩模(10)和所述晶片(11)相对于彼此保持和移动；(ii)成像单元(20、22、23、30)，其能够沿着至少一个视场(14)生成掩模(10)的和晶片(11)的表面的至少一个图像，以在所述视场(14)内对所述掩模(10)和所述晶片(11)的定位标记(12、13)同时成像；和(iii)至少一个光学距离传感器(26)，其能够利用至少部分穿过成像单元的测量光束(15、28)在所述视场(一个或更多个)(14)内产生晶片(11)的表面和掩模(10)之间的距离测量。本发明还涉及在所述装置中实施的方法和一种设备。
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公开(公告)号：CN104620072A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201380044286.7
申请日：2013-08-16
Applicant: FOGALE纳米技术公司
CPC classification number: G06T7/0012 , B24B37/005 , B24B49/12 , G01B9/02091 , G01B11/06 , G01B11/0633 , G01B11/0683 , G01B11/14 , G01N21/9501 , G06T7/0008 , G06T7/001 , G06T2207/10004 , G06T2207/10152 , G06T2207/30148 , H04N5/2256 , H04N7/18
Abstract: 本发明涉及一种用于透过对象(20)、如晶片的表面来定位结构以相对于所述结构布置测量传感器(45、46、47)的成像装置，其包括：(i)成像传感器(22)；(ii)能够在所述成像传感器(22)上产生在视场中的对象(20)的图像的光学成像单元(34)；和(iii)用于产生照明光束(25、30)并以反射方式照亮所述视场的照明单元(23、27)，其中所述照明单元能够产生照明光束(25、30)，所述照明光束(25、30)的光谱成分适合于所述对象(20)的性质以使得所述光束(25、30)的光基本能够射入到所述对象(20)中。本发明还涉及用于在对象(20)、如晶片上进行尺寸测量的系统和方法。
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公开(公告)号：CN114746713A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202080083407.9
申请日：2020-09-21
Applicant: FOGALE 纳米技术公司
IPC: G01B9/02 , G01B9/02015 , G01B9/0209 , G01B11/24 , G01H9/00 , G03H1/04 , G03H1/08
Abstract: 本发明涉及一种用于测量物体(100)的表面的设备(1000、2000、3000、4000、5000、6000)，该设备包括：‑至少一个光源(112、212、320、520)；‑至少一个光学传感器(102、202、624)；以及‑干涉测量装置，其具有测量臂和参考臂，该测量臂被配置成通过光学聚焦系统(107、207)将来自至少一个光源(112、212、320、520)的光朝向物体的待测量表面引导，并将来自待测量表面的光朝向至少一个光学传感器(102、202、624)引导；根据被称为干涉测量配置的第一配置，测量设备被配置为用至少一个光源(112、212、320、520)照射参考臂和测量臂，并将来自测量臂和参考臂的光朝向至少一个光学传感器(102、202、624)引导，以便形成干涉信号；根据被称为成像配置的第二配置，测量设备被配置为至少照射测量臂，并仅将来自测量臂的光朝向至少一个光学传感器(102、202、624)引导，以便形成待测量表面的图像；测量设备还包括数字处理单元，所述数字处理单元被配置为根据干涉信号和图像产生关于待测量表面的信息。本发明还涉及一种测量物体(100)的表面的方法(10)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106796099A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580052115.8
申请日：2015-09-18
Applicant: FOGALE 纳米技术公司
Inventor： 吉莱斯·弗莱斯阔特
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B9/0203 , G01B11/303 , G01B21/30 , G01B2210/56 , G01N21/9501 , G01N2021/8841 , H01L22/12
Abstract: 本发明涉及一种用于相对于存在于晶片(12)的第一表面(13)下方的结构(14)对所述第一表面(13)进行形状测量的设备或仪器，其包括(i)轮廓测定装置(10)，其被布置为根据至少一个测量区域对晶片(12)的所述第一表面(13)进行形状测量；(ii)成像装置(11)，其面对所述轮廓测定装置(10)，并且被布置为根据至少一个成像区域在晶片(12)的与所述第一表面(13)相对的第二表面上或通过所述第二表面获取所述结构(14)的参考图像；所述轮廓测定装置(10)和所述成像装置(11)被布置成使得测量区域和成像区域在公共参考系(15)内参照就位。本发明还涉及在所述设备或仪器中实施的方法。
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公开(公告)号：CN114746713B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202080083407.9
申请日：2020-09-21
Applicant: FOGALE 纳米技术公司
IPC: G01B9/02 , G01B9/02015 , G01B9/0209 , G01B11/24 , G01H9/00 , G03H1/04 , G03H1/08
Abstract: 本发明涉及一种用于测量物体(100)的表面的设备(1000、2000、3000、4000、5000、6000)，该设备包括：‑至少一个光源(112、212、320、520)；‑至少一个光学传感器(102、202、624)；以及‑干涉测量装置，其具有测量臂和参考臂，该测量臂被配置成通过光学聚焦系统(107、207)将来自至少一个光源(112、212、320、520)的光朝向物体的待测量表面引导，并将来自待测量表面的光朝向至少一个光学传感器(102、202、624)引导；根据被称为干涉测量配置的第一配置，测量设备被配置为用至少一个光源(112、212、320、520)照射参考臂和测量臂，并将来自测量臂和参考臂的光朝向至少一个光学传感器(102、202、624)引导，以便形成干涉信号；根据被称为成像配置的第二配置，测量设备被配置为至少照射测量臂，并仅将来自测量臂的光朝向至少一个光学传感器(102、202、624)引导，以便形成待测量表面的图像；测量设备还包括数字处理单元，所述数字处理单元被配置为根据干涉信号和图像产生关于待测量表面的信息。本发明还涉及一种测量物体(100)的表面的方法(10)。
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公开(公告)号：CN113841023B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202080018726.1
申请日：2020-03-02
Applicant: FOGALE 纳米技术公司
IPC: G01B9/02015 , G01B11/14 , G01B11/27 , G01B9/0209 , G01M11/02 , G01B11/00 , G01B11/06 , G06T7/00 , G02B27/62 , G02B21/00
Abstract: 一种用于测量形成包括称为“参考”光学元件的至少一个光学元件的多个类似光学元件的一部分的待测量光学元件(5)的界面的设备和方法(100)，该方法(100)包括以下步骤：所述参考光学元件和测量光束(11)的相对定位(102)；获取(104)“参考”图像；相对于视场定位(106)待测量光学元件(5)，以允许获取“测量”图像；确定(107)所述待测量光学元件(5)相对于参考光学元件的位置差别；调整(110)所述待测量光学元件(5)的位置，以消除所述位置差别；以及，借助于所述测量光束(11)来测量(112)待测量光学元件(5)的界面。
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公开(公告)号：CN105829971A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201480066168.0
申请日：2014-11-28
Applicant: FOGALE纳米技术公司
IPC: G03F9/00
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F9/703 , G03F9/7038 , G03F9/7088
Abstract: 本发明涉及用于相对于晶片(11)的表面定位掩模(10)以暴露所述晶片(11)的装置。所述装置包括：(i)第一定位单元(20)，其能够使所述掩模(10)和所述晶片(11)相对于彼此保持和移动；(ii)成像单元(20、22、23、30)，其能够沿着至少一个视场(14)生成掩模(10)的和晶片(11)的表面的至少一个图像，以在所述视场(14)内对所述掩模(10)和所述晶片(11)的定位标记(12、13)同时成像；和(iii)至少一个光学距离传感器(26)，其能够利用至少部分穿过成像单元的测量光束(15、28)在所述视场(一个或更多个)(14)内产生晶片(11)的表面和掩模(10)之间的距离测量。本发明还涉及在所述装置中实施的方法和一种设备。
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公开(公告)号：CN104620071A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201380043727.1
申请日：2013-08-20
Applicant: FOGALE纳米技术公司
CPC classification number: G06T7/0012 , B24B37/005 , B24B49/12 , G01B9/02091 , G01B11/06 , G01B11/0633 , G01B11/0683 , G01B11/14 , G01N21/9501 , G06T7/0008 , G06T7/001 , G06T2207/10004 , G06T2207/10152 , G06T2207/30148 , H04N5/2256 , H04N7/18
Abstract: 本发明涉及用于在对象(20)、如晶片的区域中检查包围在所述对象(20)中的结构(70a、70b、70c)、如通孔的存在的成像方法和装置，其采用：成像传感器(22)；能够在所述成像传感器(22)上产生在视场中的对象(20)的图像(73、74)的光学成像单元(34)；和用于产生照明光束(25、30)并以反射方式照亮所述视场的照明单元(23、27)，其特征在于其包括以下步骤：通过用第一照明光束(25、30)照明所述对象(20)来获取第一图像(73)，所述第一照明光束(25、30)的光谱成分适合于对象(20)的性质以使得所述光束(25、30)的光基本能够射入到所述对象(20)中；通过用第二照明光束(25、30)照明所述对象(20)来获取第二图像(74)，所述第二照明光束(25、30)的光谱成分适合于对象(20)的性质以使得所述光束(25、30)的光基本上被对象(20)的表面反射；和比较所述第一图像(73)和第二图像(74)以识别出现在第一图像(73)中但不出现在第二图像(74)中的结构(71a)。
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