用于通过无接触式光学法定位光刻掩模的装置和方法

    公开(公告)号:CN105829971B

    公开(公告)日:2017-09-08

    申请号:CN201480066168.0

    申请日:2014-11-28

    CPC classification number: G03F7/70733 G03F9/703 G03F9/7038 G03F9/7088

    Abstract: 本发明涉及用于相对于晶片(11)的表面定位掩模(10)以暴露所述晶片(11)的装置。所述装置包括:(i)第一定位单元(20),其能够使所述掩模(10)和所述晶片(11)相对于彼此保持和移动;(ii)成像单元(20、22、23、30),其能够沿着至少一个视场(14)生成掩模(10)的和晶片(11)的表面的至少一个图像,以在所述视场(14)内对所述掩模(10)和所述晶片(11)的定位标记(12、13)同时成像;和(iii)至少一个光学距离传感器(26),其能够利用至少部分穿过成像单元的测量光束(15、28)在所述视场(一个或更多个)(14)内产生晶片(11)的表面和掩模(10)之间的距离测量。本发明还涉及在所述装置中实施的方法和一种设备。

    用于通过无接触式光学法定位光刻掩模的装置和方法

    公开(公告)号:CN105829971A

    公开(公告)日:2016-08-03

    申请号:CN201480066168.0

    申请日:2014-11-28

    CPC classification number: G03F7/70733 G03F9/703 G03F9/7038 G03F9/7088

    Abstract: 本发明涉及用于相对于晶片(11)的表面定位掩模(10)以暴露所述晶片(11)的装置。所述装置包括:(i)第一定位单元(20),其能够使所述掩模(10)和所述晶片(11)相对于彼此保持和移动;(ii)成像单元(20、22、23、30),其能够沿着至少一个视场(14)生成掩模(10)的和晶片(11)的表面的至少一个图像,以在所述视场(14)内对所述掩模(10)和所述晶片(11)的定位标记(12、13)同时成像;和(iii)至少一个光学距离传感器(26),其能够利用至少部分穿过成像单元的测量光束(15、28)在所述视场(一个或更多个)(14)内产生晶片(11)的表面和掩模(10)之间的距离测量。本发明还涉及在所述装置中实施的方法和一种设备。

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