发光器件的制作方法,以及制造装置

    公开(公告)号:CN1507304A

    公开(公告)日:2004-06-23

    申请号:CN200310120283.5

    申请日:2003-12-12

    CPC classification number: H01L51/524 H01L51/5259 H01L51/56

    Abstract: 本发明的目的是提供一种发光器件及其制造方法,该发光器件具有防止氧和潮气到达发光元件的结构。而且,本发明用少的工艺步骤将发光元件用塑料衬底密封而无须封入干燥剂。本发明在粘合提供有发光元件的柔性衬底11和柔性衬底12时,像素区13被其中包含用来维持两个衬底之间间隙的间隙材料(填充剂,细小颗粒等)的第一密封材料16(其粘度大于第二密封材料)环绕着,扩展滴注的几滴透明的第二密封材料17a并使其填充像素区,用第一密封材料和第二密封材料来密封两个衬底。

    转移叠层的方法以及制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN102867736B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201210352567.6

    申请日:2003-05-16

    Abstract: 本发明的名称为转移叠层的方法以及制造半导体器件的方法,其目的是提供一种在短时间内将待要剥离的物体转移到转移部件上而不对叠层中待要剥离的物体造成损伤的方法。而且,本发明的另一目的是提供一种制造半导体器件的方法,其中,制造在衬底上的半导体元件被转移到转移部件,典型地说是塑料衬底上。此方法的特征在于包括:在衬底上形成剥离层和待要剥离的物体;通过双面胶带键合待要剥离的物体和支座;用物理方法从剥离层剥离待要剥离的物体,然后将待要剥离的物体键合到转移部件上;以及从待要剥离的物体剥离支座和双面胶带。

    剥离方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100392797C

    公开(公告)日:2008-06-04

    申请号:CN03147669.4

    申请日:2003-07-16

    CPC classification number: H01L27/1266 H01L21/76251 H01L27/1214

    Abstract: 提供了一种不损伤待要剥离的层的剥离方法,且此方法不仅能够剥离面积小的待要剥离的层,而且能够以高的成品率剥离面积大的整个待要剥离的层。而且,提供了一种通过将待要剥离的层粘合到各种基底材料而降低了重量的半导体器件及其制造方法。确切地说,提供了一种通过将典型为TFT的各种元件粘合到柔性膜而降低了重量的半导体器件及其制造方法。金属层或氮化物层被提供在衬底上;氧化物层被提供成与金属层或氮化物层相接触;然后形成基底绝缘膜和含有氢的待要剥离的层;并在410℃或更高的温度下执行热处理,以便扩散氢。结果,能够用物理方法在氧化物层中或在其界面处获得完全的剥离。

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