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公开(公告)号：CN1577082A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410062569.7
申请日：2004-06-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F1/08 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70683 , G03F7/40
Abstract: 本发明的温度校正方法可以抑制因装置间的温度不同而使得感光性树脂膜所得到的实效性的曝光量在装置间变动。包括：准备多个加热处理装置的工序；用所准备的各个加热处理装置，用多个设定温度，对已形成了曝光量监视图形的衬底进行加热处理的工序；在上述加热处理后进行冷却处理的工序；在上述冷却处理后进行显影处理的工序；在上述冷却处理后或上述显影处理后的任何一者中，测定曝光量监视图形的状态的工序；根据多个设定温度和所测定的曝光量监视图形的状态，对各个加热处理装置求设定温度与实效曝光量的关系的工序；根据所求得的关系，对各个加热处理装置进行修正，使得能够得到规定的实效性的曝光量的工序。
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公开(公告)号：CN1573548A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410042367.6
申请日：2004-05-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/039 , H01L21/027 , H01L21/47
CPC classification number: G03F7/70608
Abstract: 提供高精度的光刻胶灵敏度的评价方法。包括：在检查对象光刻胶膜上借助于曝光装置用检查曝光量使曝光量监控标记曝光的步骤，根据已复制到检查对象光刻胶膜上的曝光量监控标记的检查复制像测定要变动的检查特征量的步骤，根据检查特征量用灵敏度校正数据计算检查对象光刻胶膜的检查光刻胶灵敏度的步骤。
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公开(公告)号：CN1841213B
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN200610076499.X
申请日：2003-01-28
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/32 , G03F7/26 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种进行曝光有所希望的图案的感光性抗蚀剂膜的显影的显影方法，包括：对曝光的上述感光性抗蚀剂膜进行第1显影处理；对进行了第1显影处理的感光性抗蚀剂膜，提供对该抗蚀剂膜表面具有氧化性的，或者是碱性的洗净液，进行第1洗净处理；对完成了第1洗净处理的上述感光性抗蚀剂膜进行第2显影处理；对进行了第2显影处理的上述感光性抗蚀剂膜进行第2洗净处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100437895C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200510005081.5
申请日：2005-01-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/00 , H01L21/66 , H01L21/027 , G03F7/00 , G01B11/00
CPC classification number: G03F7/70625 , G01N21/956
Abstract: 本发明据以下所确定的各物质的构成比确定被评价物的结构：测定设于预定环境中被评价物的反射光强度的波长色散；准备构成上述被评价物及上述波长色散测定的上述环境各物质的复折射率；设定假定构成上述被评价物的物质与构成上述环境的物质的混合率的多个设想构成比；相对于各设想构成比，通过应用上述各物质的复折射率的多重干涉计算从而算出设想反射率波长色散；从上述多个设想反射率波长色散中，提取多个与上述反射率波长色散测定值误差小的类似反射率波长色散计算值；将提取的类似反射率波长色散的计算中所用的设想构成比按上述误差越小权重越大进行加权平均以确定上述各物质的构成比。
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公开(公告)号：CN1292457C
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200410062569.7
申请日：2004-06-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70683 , G03F7/40
Abstract: 本发明的温度校正方法可以抑制因装置间的温度不同而使得感光性树脂膜所得到的实效性的曝光量在装置间变动。包括：准备多个加热处理装置的工序；用所准备的各个加热处理装置，用多个设定温度，对已形成了曝光量监视图形的衬底进行加热处理的工序；在上述加热处理后进行冷却处理的工序；在上述冷却处理后进行显影处理的工序；在上述冷却处理后或上述显影处理后的任何一者中，测定曝光量监视图形的状态的工序；根据多个设定温度和所测定的曝光量监视图形的状态，对各个加热处理装置求设定温度与实效曝光量的关系的工序；根据所求得的关系，对各个加热处理装置进行修正，使得能够得到规定的实效性的曝光量的工序。
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公开(公告)号：CN1649086A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200510005081.5
申请日：2005-01-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/00 , H01L21/66 , H01L21/027 , G03F7/00 , G01B11/00
CPC classification number: G03F7/70625 , G01N21/956
Abstract: 本发明据以下所确定的各物质的构成比确定被评价物的结构：测定设于预定环境中被评价物的反射光强度的波长色散；准备构成上述被评价物及上述波长色散测定的上述环境各物质的复折射率；设定假定构成上述被评价物的物质与构成上述环境的物质的混合率的多个设想构成比；相对于各设想构成比，通过应用上述各物质的复折射率的多重干涉计算从而算出设想反射率波长色散；从上述多个设想反射率波长色散中，提取多个与上述反射率波长色散测定值误差小的类似反射率波长色散计算值；将提取的类似反射率波长色散的计算中所用的设想构成比按上述误差越小权重越大进行加权平均以确定上述各物质的构成比。
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公开(公告)号：CN1435863A
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：CN03102108.5
申请日：2003-01-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027 , B05C9/12 , G03F7/16
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/02126 , H01L21/02164 , H01L21/022 , H01L21/02282 , H01L21/288 , H01L21/31633
Abstract: 在一边从设于喷嘴的排出口，对衬底连续地排出调整后的溶液使其在上述衬底上蔓延规定量，一边相对移动上述喷嘴和衬底，在上述衬底上留下供给的溶液，并在上述衬底上形成液膜的成膜方法中，设定上述喷嘴的排出口与上述衬底的距离h为2mm以上，而且对于上述溶液表面张力γ(N/m)、从上述排出口连续地排出的溶液排出速度q(m/sec)、和常数5×10－5(m·sec/N)，为不足5×10－5qγ(mm)的范围内。
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公开(公告)号：CN100573326C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200410042367.6
申请日：2004-05-20
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/039 , H01L21/027 , H01L21/47
CPC classification number: G03F7/70608
Abstract: 提供高精度的光刻胶灵敏度的评价方法。包括：在检查对象光刻胶膜上借助于曝光装置用检查曝光量使曝光量监控标记曝光的步骤，根据已复制到检查对象光刻胶膜上的曝光量监控标记的检查复制像测定要变动的检查特征量的步骤，根据检查特征量用灵敏度校正数据计算检查对象光刻胶膜的检查光刻胶灵敏度的步骤。
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