半导体结构及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114975351A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210135898.8

    申请日:2022-02-15

    Abstract: 本发明实施例涉及一种半导体结构及制造半导体结构的方法。所述半导体结构包含封装结构。所述封装结构包含:钝化层,其形成在互连结构上方;导电结构,其形成在所述钝化层上且延伸穿过所述钝化层以电接触所述互连结构;电介质结构,其形成在所述钝化层上方且包围所述导电结构以暴露所述导电结构的顶面的至少一部分;及金属保护结构,其形成在从所述电介质结构暴露的所述导电结构的所述顶面上。所述金属保护结构的顶面与所述电介质结构的顶面对准或低于所述电介质结构的顶面。

    集成电路及其形成方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113363235A

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202110579205.X

    申请日:2021-05-26

    Abstract: 公开了具有贯穿电路通孔(TCV)的集成电路(IC)及其形成方法。IC包括:半导体器件;分别设置在半导体器件的第一和第二表面上的第一和第二互连结构;分别设置在衬底的前表面和后表面上的第一和第二层间电介质(ILD)层;以及设置在第一和第二互连结构、第一和第二ILD层以及衬底内的TCV。TCV通过衬底的部分以及第一和第二ILD层的部分与半导体器件间隔开。布置在衬底的前表面上的TCV的第一端连接到第一互连结构的导线,布置在衬底的后表面上的TCV的第二端连接到第二互连结构的导线。

    集成电路及其形成方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113363235B

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202110579205.X

    申请日:2021-05-26

    Abstract: 公开了具有贯穿电路通孔(TCV)的集成电路(IC)及其形成方法。IC包括:半导体器件;分别设置在半导体器件的第一和第二表面上的第一和第二互连结构;分别设置在衬底的前表面和后表面上的第一和第二层间电介质(ILD)层;以及设置在第一和第二互连结构、第一和第二ILD层以及衬底内的TCV。TCV通过衬底的部分以及第一和第二ILD层的部分与半导体器件间隔开。布置在衬底的前表面上的TCV的第一端连接到第一互连结构的导线,布置在衬底的后表面上的TCV的第二端连接到第二互连结构的导线。

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