-
公开(公告)号：CN113257732B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202110152066.2
申请日：2021-02-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供使基板的定位精度提高的基板定位装置、基板定位方法以及接合装置。本公开的基板定位装置具备保持部和旋转机构。保持部保持基板。旋转机构使保持部旋转。另外，旋转机构具备旋转轴部、轴承部、基座部、驱动部、以及阻尼机构。旋转轴部固定于保持部。轴承部以未接触状态支承旋转轴部。基座部固定轴承部。驱动部使旋转轴部旋转。阻尼机构包括与基座部连接的轨道和与旋转轴部连接的滑动件，利用在轨道与滑动件之间产生的阻力产生针对旋转轴部与基座部之间的相对动作的阻尼力。
-
公开(公告)号：CN115769341A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202180048136.8
申请日：2021-07-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02
Abstract: 基于本公开的接合装置(41、41A、41B)用于将基板之间进行接合，所述接合装置具备第一保持部(110)、第二保持部(120)、移动部(130)、壳体(100)、干涉仪(160、170)、第一气体供给部(140、140B)以及第二气体供给部(180、180A)。第一保持部(110)用于从第一基板(W1)的上方吸附保持第一基板(W1)。第二保持部(120)用于从第二基板(W2)的下方吸附保持第二基板(W2)。移动部(130)用于使第一保持部(110)和第二保持部(120)中的一方的保持部相对于另一方的保持部沿水平方向移动。壳体(100)收容第一保持部(110)、第二保持部(120)以及移动部(130)。干涉仪(160、170)配置于壳体(100)的内部，干涉仪(160、170)通过对上述一方的保持部或与上述一方的保持部一同移动的物体照射光来测定到上述一方的保持部或物体的水平距离。第一气体供给部(140、140B)用于对壳体(100)的内部供给被清洁化后的第一气体。第二气体供给部(180、180A)用于对被照射光的上述一方的保持部或上述物体与干涉仪(160、170)之间的空间供给第二气体。
-
公开(公告)号：CN102674699B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201210071525.5
申请日：2012-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种浮起式涂敷装置，在浮起台加大划分浮起台组块的边界(接缝)的台阶的容许度，能够简便并且短时间进行浮起面的高度位置调整作业。在浮起台(10)中，左端的搬入用浮起台组块(SBA)搭载配置多个仅有喷出口(12)的第一粗略浮起区域(MIN)。在中间的浮起台组块(SBB)局部搭载在输送方向(X方向)的两端部设置多个仅有喷出口(12)的上推浮起区域(MP、MQ)，并且在这些之间搭载混合多个配置喷出口(12)和吸引口(14)的精密浮起区域(MCT)。此外，在右端的搬出用浮起台组块(SBC)搭载配置多个仅有喷出口(12)的第二粗略浮起区域(MOUT)。
-
公开(公告)号：CN100594584C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200710160567.5
申请日：2007-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , B65G49/00 , B65G49/06
Abstract: 本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看，在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上，基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中，同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动，在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。
-
公开(公告)号：CN107611060B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN201710566289.7
申请日：2017-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够谋求基板的处理时间的缩短的接合系统。实施方式的一形态的接合系统具备基板输送装置、表面改性装置、加载互锁室、表面亲水化装置以及接合装置。基板输送装置在常压气氛下输送第1基板以及第2基板。表面改性装置在减压气氛下对第1基板以及第2基板的要接合的表面进行改性。加载互锁室在室内中进行基板输送装置与表面改性装置之间的第1基板以及第2基板的交接，并且能够将室内的气氛在大气气氛与减压气氛之间切换。表面亲水化装置对改性后的第1基板以及第2基板的表面进行亲水化。接合装置利用分子间力对亲水化后的第1基板和第2基板进行接合。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102674004B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201210061866.4
申请日：2012-03-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板浮起搬送方法，使浮起台中的基板的浮起高度和姿势最优化，并改善浮起用高压气体的消耗效率。该抗蚀剂涂敷装置中的浮起台(10)，在搬送方向上将在涂敷区域(MCT)的前后延伸的搬入区域(MIN)和搬出区域(MOUT)的浮起面各自划分为多个浮起区域。在这些浮起面配置有多个喷出口(12)。各个浮起区域中的高压气体的喷出压力通过喷出压力控制部能够进行独立地变化或者开启·关闭控制。
-
公开(公告)号：CN102671821A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210050161.2
申请日：2012-02-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供悬浮式涂敷装置。本发明的课题是以短时间简便地进行可分解的悬浮台的再组装作业中的高度调整。在该抗蚀剂涂敷装置的悬浮台(10)，出口侧的工作台块(SBa)通过多个支柱(18)和调节器(20)被安装在能够独立输送的台座(FLA)上。中间的三个工作台块(SBb)、(SBc)、(SBd)通过多个支柱(22)、(24)、(26)和调节器(28)、(30)、(32)被分别安装在能够独立输送的台座(FLB)上。出口侧的工作台块(SBe)通过多个支柱(34)和调节器(36)被安装在能够独立输送的台座(FLC)上。
-
公开(公告)号：CN101495244B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200780028398.8
申请日：2007-07-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 在上浮输送方式中有效地降低或抑制在形成于被处理基板上的处理液的涂敷膜上产生条纹状的涂敷不均。在涂敷区域中，沿X方向延伸的多条喷出线(C1、C3、C5、...)和沿X方向延伸的多条吸引线(C2、C4、C6、...)在Y方向上以一定的间距(W)交替地排列，在各喷出线(C2n-1)上隔开一定间隔(3D)地配置喷出口(88)，并且，在各吸引线(C2n)上隔开一定间隔(3D)地配置吸引口(90)，在相邻的喷出线(C2n-1)和吸引线(C2n)之间，喷出口(88)和吸引口(90)在X方向上偏移一定距离(D)。进而，长槽(88a、90a)从喷出口(88)、吸引口(90)的上端部向顺着输送方向(X方向)的方向和与其相反的方向笔直地延伸成两路。
-
公开(公告)号：CN1940537A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610159929.4
申请日：2006-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能以良好的灵敏度检测平面状基板的异常状态的光学式异物检测装置和搭载有该装置的处理液涂布装置。使以水平状态被载置在载物台上的被处理基板与具有沿上述基板的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口的处理液供给喷嘴相对移动，将从处理液供给喷嘴呈带状喷出的处理液涂布在基板的表面。在相对于上述基板相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方，搭载有由投光部和受光部构成的光透过型传感器单元。上述传感器单元构成为：具有检测受光部的光束的受光输出是否为规定值以上的第一检测单元、和检测上述受光输出的单位时间的变化量是否为规定值以上的第二检测单元，根据上述第一检测单元和第二检测单元的检测输出的逻辑和，探测异物的存在。
-
公开(公告)号：CN111627852B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202010105262.X
申请日：2020-02-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 稻益寿史
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及接合方法，能够恰当地检测附着于吸盘的异物。基板处理装置具有：吸盘，其对基板进行吸附保持；观察部，其对被所述吸盘吸附保持的基板的、与接触所述吸盘的第一面相反一侧的第二面内的多个部位进行观察；以及分析部，其对所述多个部位的观察结果进行分析，其中，在所述第二面存在与相对于所述吸盘的吸附保持所述基板的面的高度有关的奇点的情况下，所述分析部确定该奇点在所述吸盘上的位置。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
35
records
(took 0.023 seconds)
