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公开(公告)号：CN113909041A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202110726624.1
申请日：2021-06-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05B15/68
Abstract: 本发明涉及液滴释放装置和位置调整方法，其在液滴释放装置中进行头部的位置调整。本发明的液滴释放装置包括释放单元、运送单元和调整单元。释放单元具有：形成有多个开口部的承载器；多个头部，其以覆盖开口部的方式设置在承载器，能够释放功能液的液滴；和能够相对于承载器对头部进行固定和固定解除的多个固定部。运送单元配置在释放单元的下方，沿水平方向运送基片。调整单元从释放单元的下方访问以调整头部的位置。
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公开(公告)号：CN102161027B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201110041215.4
申请日：2011-02-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种在抑制颗粒的产生的同时、自动且有效率地清扫狭缝喷嘴的狭缝内部的狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置。狭缝喷嘴清扫装置(70)包括：喷嘴清扫单元(56)、用于使整个启动加注处理部在基板输送方向(X方向)上移动的X方向移动部(54)以及用于在壳体(44)中使喷嘴清扫单元在喷嘴长度方向(Y方向)移动的Y方向移动部(60)。喷嘴清扫单元(56)包括：能够自外部向狭缝喷嘴(32)的狭缝(32a)内插入或者从狭缝(32a)内拔出的薄板状的刮板(74)、用于保持该刮板的保持部(76)、用于使刮板与保持部(76)一体地在狭缝喷嘴的喷出方向上移动的升降机构(78)以及用于使刮板旋转的旋转机构(82)。
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公开(公告)号：CN113926615A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202110691128.7
申请日：2021-06-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05B13/02
Abstract: 本发明提供能够使基片输送的误差减少的基片处理装置和基片处理方法。本发明的实施方式的基片处理装置包括引导部、输送装置和加工部。引导部沿着基片的输送方向延伸。输送装置用于沿着输送方向输送基片。加工部用于对沿着输送方向被输送的基片实施加工处理。输送装置包括保持部、移动部和调整部。保持部用于保持基片。移动部能够支承保持部、并且沿着引导部移动。调整部用于对移动部的在与输送方向正交的方向上的位置进行调整，调整部的至少一部分与移动部设置在同一水平面上。
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公开(公告)号：CN107193185A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201710149843.1
申请日：2017-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种能够提高曝光解像度的辅助曝光装置。本实施方式的辅助曝光装置配置在对被处理基板进行曝光处理的曝光装置的前级侧或者后级侧，对被处理基板进行局部曝光处理，包括搬送部和光源单元。搬送部将被处理基板在扫描方向上搬送。光源单元对在扫描方向上被搬送的被处理基板，照射以与扫描方向交叉的方向为长边方向的线状的光。另外，光源单元构成为包含将多个可动式微反射镜排列而成的数字微反射镜器件。
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公开(公告)号：CN100594584C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200710160567.5
申请日：2007-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , B65G49/00 , B65G49/06
Abstract: 本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看，在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上，基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中，同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动，在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107871827A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710863834.9
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 太田义治
CPC classification number: H01L51/0005 , H01L27/3246
Abstract: 提供能够缓和扫描方向上的液滴的着陆位置的允许误差的涂敷装置。其包括：具有多个在第一方向上排列设置有多个喷嘴的头部件的排出组件；保持基板的基板保持部；和在与上述第一方向交叉的第二方向上使上述排出组件和上述基板保持部相对移动的移动机构，上述排出组件从上述喷嘴向隔堤的开口部排出发光材料的液滴，上述隔堤作为上述开口部包括在上述第二方向上以规定的顺序排列的第一开口部、第二开口部和第三开口部，上述第一开口部与上述第二开口部和上述第三开口部相比，上述第二方向的尺寸较小，将彼此相邻的上述第二开口部和上述第三开口部在上述第二方向上隔开的隔壁部的厚度小于在上述第二方向上夹着上述第一开口部的2个隔壁部各自的厚度。
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公开(公告)号：CN102314093B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201110184492.0
申请日：2011-06-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70291 , H01L27/1288
Abstract: 本发明提供能够提高在基板面内的显影处理后的抗蚀剂残膜的均匀性、并对布线图案的线宽以及间距的偏差进行抑制的局部曝光装置和局部曝光方法。局部曝光装置包括：基板输送部件；腔室，其用于形成对被处理基板进行曝光处理的空间；光源，其具有沿与基板输送方向交叉的方向线状排列的多个发光元件，能够利用发光元件的发光对在下方输送的被处理基板上的感光膜照射光；发光驱动部，能够将构成光源的多个发光元件中的一个或者多个发光元件作为发光控制单元而选择性地进行发光驱动；基板检测部件，其对被基板输送部件输送的被处理基板进行检测；控制部，其被供给基板检测部件的基板检测信号，并且控制由发光驱动部进行的发光元件的驱动。
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公开(公告)号：CN101710564B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200910168563.0
申请日：2009-08-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G03F7/16 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统，在能够沿着以直线延伸的往返路径的生产流水线按照工艺流程的顺序排列配置多个处理单元的串联型基板处理系统中，有效地实现整体长度尺寸的缩短化以及节拍时间的缩短化。在该涂敷显影处理系统(10)中，形成有被盒台(C/S)(14)、去程生产流水线(A)、界面台(I/F)(18)以及回程生产流水线(B)所包围并沿X方向笔直延伸的中庭空间(NS)。在该中庭空间(NS)中，两台减压干燥单元(66L)、(66R)作为第三组的单元互相相对分别被设置在规定位置，并且在两单元(66L)、(66R)之间设置有一台搬送装置(68)。
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公开(公告)号：CN101710564A
公开(公告)日：2010-05-19
申请号：CN200910168563.0
申请日：2009-08-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G03F7/16 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统，在能够沿着以直线延伸的往返路径的生产流水线按照工艺流程的顺序排列配置多个处理单元的串联型基板处理系统中，有效地实现整体长度尺寸的缩短化以及节拍时间的缩短化。在该涂敷显影处理系统(10)中，形成有被盒台(C/S)(14)、去程生产流水线(A)、界面台(I/F)(18)以及去程生产流水线(B)所包围并沿X方向笔直延伸的中庭空间(NS)。在该中庭空间(NS)中，两台减压干燥单元(66L)、(66R)作为第三组的单元互相相对分别被设置在规定位置，并且在两单元(66L)、(66R)之间设置有一台搬送装置(68)。
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