启动加注处理方法以及启动加注处理装置

    公开(公告)号:CN101927231B

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201010212346.X

    申请日:2010-06-28

    Abstract: 本发明提供一种能够更大程度地减少在启动加注处理中使用的清洗液、缩短干燥处理时间以及延长清洗处理用工具和/或干燥处理用工具的使用寿命的启动加注处理方法以及启动加注处理装置。该启动加注处理装置在启动加注辊(14)的周围沿旋转方向配置有具有清洗垫(20)的粗清洗处理部(18)、具有双流体喷嘴(42)的精清洗处理部(38)、具有擦拭垫(52)的液滴去除部(48)、和包括间隙(58)以及气体喷嘴(60)的干燥送风部(50)。利用清洗垫移动机构(24)以及擦拭垫移动机构(56)在清洗垫(20)以及擦拭垫(52)与启动加注辊(14)的外周面接触的第1位置、和清洗垫(20)以及擦拭垫(52)自启动加注辊(14)退避的第2位置之间切换清洗垫(20)以及擦拭垫(52)的位置。

    基板处理装置以及清洗方法

    公开(公告)号:CN1505099A

    公开(公告)日:2004-06-16

    申请号:CN200310119537.1

    申请日:2003-11-28

    Inventor: 山崎刚

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及清洗方法,通过旋转杯以规定的旋转速度旋转,储存在储存槽中的清洗液在离心力的作用下向外侧流动,通过该流动的力,清洗液从孔中向上方喷出而飞散。由于孔是倾斜地形成的,所以清洗液的喷出方向为该倾斜的方向。因此,清洗液能够遍及到盖体上基板外侧附近的区域(符号M所示的虚线右侧的区域)。

    启动加注处理方法以及启动加注处理装置

    公开(公告)号:CN103466956B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201310376565.5

    申请日:2010-06-28

    Abstract: 本发明提供一种能够更大程度地减少在启动加注处理中使用的清洗液、缩短干燥处理时间以及延长清洗处理用工具和/或干燥处理用工具的使用寿命的启动加注处理方法以及启动加注处理装置。该启动加注处理装置在启动加注辊(14)的周围沿旋转方向配置有具有清洗垫(20)的粗清洗处理部(18)、具有双流体喷嘴(42)的精清洗处理部(38)、具有擦拭垫(52)的液滴去除部(48)、和包括间隙(58)以及气体喷嘴(60)的干燥送风部(50)。利用清洗垫移动机构(24)以及擦拭垫移动机构(56)在清洗垫(20)以及擦拭垫(52)与启动加注辊(14)的外周面接触的第1位置、和清洗垫(20)以及擦拭垫(52)自启动加注辊(14)退避的第2位置之间切换清洗垫(20)以及擦拭垫(52)的位置。

    启动加注处理方法以及启动加注处理装置

    公开(公告)号:CN101927231A

    公开(公告)日:2010-12-29

    申请号:CN201010212346.X

    申请日:2010-06-28

    Abstract: 本发明提供一种能够更大程度地减少在启动加注处理中使用的清洗液、缩短干燥处理时间以及延长清洗处理用工具和/或干燥处理用工具的使用寿命的启动加注处理方法以及启动加注处理装置。该启动加注处理装置在启动加注辊(14)的周围沿旋转方向配置有具有清洗垫(20)的粗清洗处理部(18)、具有双流体喷嘴(42)的精清洗处理部(38)、具有擦拭垫(52)的液滴去除部(48)、和包括间隙(58)以及气体喷嘴(60)的干燥送风部(50)。利用清洗垫移动机构(24)以及擦拭垫移动机构(56)在清洗垫(20)以及擦拭垫(52)与启动加注辊(14)的外周面接触的第1位置、和清洗垫(20)以及擦拭垫(52)自启动加注辊(14)退避的第2位置之间切换清洗垫(20)以及擦拭垫(52)的位置。

    基板处理装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100594584C

    公开(公告)日:2010-03-17

    申请号:CN200710160567.5

    申请日:2007-12-25

    Abstract: 本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看,在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上,基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中,同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动,在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。

    载物台装置及涂敷处理装置

    公开(公告)号:CN102358516A

    公开(公告)日:2012-02-22

    申请号:CN201110164551.8

    申请日:2006-01-19

    Abstract: 本发明是以矩形基板的一对边实际上与输送方向平行而另一对边实际上与输送方向垂直的方式输送悬浮在载物台上方的矩形基板的载物台装置,载物台,具有用于喷射气体的多个气体喷射口、和用于利用吸气吸引矩形基板的多个吸气口,利用基于吸气机构的经由多个吸气口的吸引、和基于气体喷射机构的经由多个气体喷射口的气体喷射,使矩形基板实际上以水平姿势从载物台的表面悬浮一定高度,多个吸气口,为了在载物台上方输送矩形基板时,使吸气口的吸气压力变动在允许范围内,以基板的输送方向前端不会同时覆盖既定数量以上的吸气口,且矩形基板的输送方向后端不会同时敞开既定数量以上的吸气口的状态配置在载物台上。

    基板处理装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101211756A

    公开(公告)日:2008-07-02

    申请号:CN200710160567.5

    申请日:2007-12-25

    Abstract: 本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看,在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上,基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中,同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动,在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。

    基板处理装置以及清洗方法

    公开(公告)号:CN100392799C

    公开(公告)日:2008-06-04

    申请号:CN200310119537.1

    申请日:2003-11-28

    Inventor: 山崎刚

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及清洗方法,通过旋转杯以规定的旋转速度旋转,储存在储存槽中的清洗液在离心力的作用下向外侧流动,通过该流动的力,清洗液从孔中向上方喷出而飞散。由于孔是倾斜地形成的,所以清洗液的喷出方向为该倾斜的方向。因此,清洗液能够遍及到盖体上基板外侧附近的区域(符号M所示的虚线右侧的区域)。

    载物台装置及涂敷处理装置

    公开(公告)号:CN101107186A

    公开(公告)日:2008-01-16

    申请号:CN200680002991.0

    申请日:2006-01-19

    Abstract: 本发明是以矩形基板的一对边实际上与输送方向平行而另一对边实际上与输送方向垂直的方式输送悬浮在载物台上方的矩形基板的载物台装置,载物台,具有用于喷射气体的多个气体喷射口、和用于利用吸气吸引矩形基板的多个吸气口,利用基于吸气机构的经由多个吸气口的吸引、和基于气体喷射机构的经由多个气体喷射口的气体喷射,使矩形基板实际上以水平姿势从载物台的表面悬浮一定高度,多个吸气口,为了在载物台上方输送矩形基板时,使吸气口的吸气压力变动在允许范围内,以基板的输送方向前端不会同时覆盖既定数量以上的吸气口,且矩形基板的输送方向后端不会同时敞开既定数量以上的吸气口的状态配置在载物台上。

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