公开(公告)号：CN114556537B

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202080070229.6

申请日：2020-09-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大塚庆崇 ,  鹤田茂登 ,  三村勇之 ,  前田浩史 ,  真锅英二 ,  日诘久则 ,  篠塚真一 ,  田上裕宪

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  H01L21/18 ,  H01L21/68 ,  H01L21/50

Abstract: 本公开的接合系统(1)具备接合装置(41)、检查装置(80)以及控制部(70)。接合装置通过将第一基板(W1)与第二基板(W2)接合来形成重合基板(T)。检查装置进行重合基板的检查。控制部控制检查装置。另外，控制部具备测定控制部(71a)、比较部(71c)以及再测定控制部(71e)。测定控制部使检查装置以第一测定点数量进行重合基板的测定。比较部将包括根据测定的结果导出的重合基板中的第一基板与第二基板之间的偏移量的检查结果(72a)与参考(72b)进行比较。再测定控制部基于比较部的比较结果，使检查装置以比第一测定点数量多的第二测定点数量进行重合基板的再测定。

公开(公告)号：CN111630627A

公开(公告)日：2020-09-04

申请号：CN201980008859.8

申请日：2019-01-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大塚庆崇

IPC: H01L21/02 ,  B23K20/00 ,  H01L21/68 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种接合系统，具备：在铅垂方向上分离地配置的第一保持部和第二保持部；对位部，其通过使所述第一保持部与所述第二保持部相对地移动来进行被所述第一保持部保持的第一基板与被所述第二保持部保持的第二基板的水平方向对位；按压部，其将被所述第一保持部保持的所述第一基板和被所述第二保持部保持的所述第二基板进行压合；测定部，其测定通过所述按压部被进行了接合的所述第一基板的对准标记与所述第二基板的对准标记的位置偏离；以及对位控制部，其基于在过去的接合中产生的所述位置偏离来控制本次的接合中的所述水平方向对位。

公开(公告)号：CN102192915B

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：CN201110061107.3

申请日：2011-03-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大塚庆崇 ,  稻益寿史 ,  高木贵生

IPC: G01N21/89 ,  B05C5/00 ,  B05C11/00

Abstract: 本发明提供一种背面异物检测方法、背面异物检测装置以及涂布装置，在浮动方式的无旋转涂布法中高精度地可靠检测有可能使基板上表面与狭缝喷嘴摩擦而造成损伤的有害背面异物。该抗蚀剂涂布装置具备背面异物检测装置，该背面异物检测装置能够在比狭缝喷嘴更靠基板输送方向即X方向上游侧可靠地检测有害即有可能使基板G上表面与狭缝喷嘴摩擦而造成损伤的背面异物Q。并且，响应于背面异物检测装置检测到这种有害背面异物Q时产生的警报信号WS，主控制部通过喷嘴升降机构使狭缝喷嘴立即上升移动，由此狭缝喷嘴能够躲避即避免摩擦或者碰撞基板G的凸起部分GQ，从而防止狭缝喷嘴受损伤。

公开(公告)号：CN101431008A

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN200810174786.3

申请日：2008-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 筱崎贤哉 ,  大塚庆崇 ,  中满孝志 ,  池本大辅 ,  三根阳介

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  B65G49/06 ,  G03F7/16 ,  B05C13/02 ,  B05C5/00 ,  B05D1/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法，其特征在于：在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R)，具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R)；沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R)；使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。

公开(公告)号：CN101211756A

公开(公告)日：2008-07-02

申请号：CN200710160567.5

申请日：2007-12-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻益寿史 ,  太田义治 ,  池田文彦 ,  山崎刚 ,  大塚庆崇

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  B65G49/00 ,  B65G49/06

Abstract: 本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看，在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上，基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中，同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动，在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。

公开(公告)号：CN115039199A

公开(公告)日：2022-09-09

申请号：CN202180010351.9

申请日：2021-01-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 林德太郎 ,  大塚庆崇 ,  沟本康隆 ,  池上和哉 ,  児玉宗久

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/304 ,  H01L21/68

Abstract: 接合装置将第一基板与第二基板进行接合来得到重合基板。所述第一基板包括基底基板和器件层，该器件层形成于所述基底基板的与所述第二基板相向的相向面。所述接合装置具有：第一保持部，其保持所述第一基板；第二保持部，其保持所述第二基板；移动部，其使所述第一保持部和所述第二保持部相对地移动；以及总厚度测定控制部，其控制用于测定所述重合基板的总厚度的厚度检测器，来在多个点处测定所述总厚度。

公开(公告)号：CN102693901B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201210076863.8

申请日：2012-03-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 宫崎文宏 ,  元田公男 ,  大塚庆崇

IPC: H01L21/027 ,  B05D1/28 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明提供涂敷膜形成装置和涂敷膜形成方法。通过使用两个喷嘴提高基板的涂敷处理的生产节拍时间并抑制成本。涂敷膜形成装置包括：喷嘴保持部件(12)，其保持沿基板输送方向前后配置的第1喷嘴(16)和第2喷嘴(17)；喷嘴移动部件(11)，其使喷嘴保持部件沿基板输送方向移动；控制部件(40)，其进行第1喷嘴及上述第2喷嘴的驱动控制、上述喷嘴移动部件的驱动控制，上述控制部件控制上述喷嘴移动部件以便将上述第1喷嘴和上述第2喷嘴配置在基板输送路径上的同一个涂敷位置，并进行控制以便利用该喷嘴移动部件使上述喷嘴保持部件移动，利用配置在上述同一个涂敷位置的上述第1喷嘴和第2喷嘴中的任一个喷嘴向上述基板喷出处理液。

公开(公告)号：CN101685070A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200910176670.8

申请日：2009-09-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大塚庆崇 ,  高木贵生 ,  中满孝志

IPC: G01N21/88 ,  B05C5/00 ,  B05C11/10

Abstract: 本发明提供一种能够高灵敏度地检测异物的光学式异物检测装置以及搭载它的处理液涂布装置。构成为使以水平状态载置在载物台(2)上的被处理基板(1)和具有沿上述基板(1)的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口(11b)的处理液供给喷嘴(11)相对地移动，从而将从处理液供给喷嘴(11)带状地喷出的处理液涂布到基板(1)的表面。在上述处理液供给喷嘴(11)的相对移动方向的前方搭载有由光投射部(5)和受光部(6)构成的光透过型传感器单元。提供一种光学式异物检测装置，在沿着上述传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域，通过追溯异物的移动方向的历史记录而对由传感器单元得到的受光数据进行统计，来提高对异物的反应灵敏度。

公开(公告)号：CN101495244A

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200780028398.8

申请日：2007-07-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻益寿史 ,  池田文彦 ,  篠崎贤哉 ,  大塚庆崇

IPC: B05C5/02 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26 ,  B05D1/42 ,  B65G49/05 ,  B65G51/03 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 在上浮输送方式中有效地降低或抑制在形成于被处理基板上的处理液的涂敷膜上产生条纹状的涂敷不均。在涂敷区域中，沿X方向延伸的多条喷出线(C1、C3、C5、...)和沿X方向延伸的多条吸引线(C2、C4、C6、...)在Y方向上以一定的间距(W)交替地排列，在各喷出线(C2n－1)上隔开一定间隔(3D)地配置喷出口(88)，并且，在各吸引线(C2n)上隔开一定间隔(3D)地配置吸引口(90)，在相邻的喷出线(C2n－1)和吸引线(C2n)之间，喷出口(88)和吸引口(90)在X方向上偏移一定距离(D)。进而，长槽(88a、90a)从喷出口(88)、吸引口(90)的上端部向顺着输送方向(X方向)的方向和与其相反的方向笔直地延伸成两路。

公开(公告)号：CN100341113C

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200410068461.9

申请日：2004-07-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河野幸弘 ,  田中志信 ,  大塚庆崇

IPC: H01L21/027 ,  B05C5/00 ,  B05C13/00 ,  G03F7/16

Abstract: 喷嘴障碍监视器(168)具有：射出激光束LB以便在规定高度位置沿Y方向大致水平地横穿台(132)上载置的衬底(G)上面附近的激光射出部(222)；隔着台(132)上的衬底(G)并配置在沿Y方向与激光射出部(222)对置的位置的受光部(224)。在涂布处理部(136)中施行抗蚀剂涂布处理时，喷嘴障碍监视器(168)的激光束LB也随着扫描部(212)的扫描驱动而和抗蚀剂喷嘴(134)一起在其前方沿X方向扫描衬底(G)的上方，检查衬底(G)的上面附近是否有障碍物。所以，能够在被处理衬底上面或接近被处理面的高度位置安全地执行使喷嘴扫描的涂布动作。