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公开(公告)号：CN102693901B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201210076863.8
申请日：2012-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05D1/28 , G03F7/16
Abstract: 本发明提供涂敷膜形成装置和涂敷膜形成方法。通过使用两个喷嘴提高基板的涂敷处理的生产节拍时间并抑制成本。涂敷膜形成装置包括：喷嘴保持部件(12)，其保持沿基板输送方向前后配置的第1喷嘴(16)和第2喷嘴(17)；喷嘴移动部件(11)，其使喷嘴保持部件沿基板输送方向移动；控制部件(40)，其进行第1喷嘴及上述第2喷嘴的驱动控制、上述喷嘴移动部件的驱动控制，上述控制部件控制上述喷嘴移动部件以便将上述第1喷嘴和上述第2喷嘴配置在基板输送路径上的同一个涂敷位置，并进行控制以便利用该喷嘴移动部件使上述喷嘴保持部件移动，利用配置在上述同一个涂敷位置的上述第1喷嘴和第2喷嘴中的任一个喷嘴向上述基板喷出处理液。
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公开(公告)号：CN102674004A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210061866.4
申请日：2012-03-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板浮起搬送方法，使浮起台中的基板的浮起高度和姿势最优化，并改善浮起用高压气体的消耗效率。该抗蚀剂涂敷装置中的浮起台(10)，在搬送方向上将在涂敷区域(MCT)的前后延伸的搬入区域(MIN)和搬出区域(MOUT)的浮起面各自划分为多个浮起区域。在这些浮起面配置有多个喷出口(12)。各个浮起区域中的高压气体的喷出压力通过喷出压力控制部能够进行独立地变化或者开启·关闭控制。
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公开(公告)号：CN102161027A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110041215.4
申请日：2011-02-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种在抑制颗粒的产生的同时、自动且有效率地清扫狭缝喷嘴的狭缝内部的狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置。狭缝喷嘴清扫装置(70)包括：喷嘴清扫单元(56)、用于使整个启动加注处理部在基板输送方向(X方向)上移动的X方向移动部(54)以及用于在壳体(44)中使喷嘴清扫单元在喷嘴长度方向(Y方向)移动的Y方向移动部(60)。喷嘴清扫单元(56)包括：能够自外部向狭缝喷嘴(32)的狭缝(32a)内插入或者从狭缝(32a)内拔出的薄板状的刮板(74)、用于保持该刮板的保持部(76)、用于使刮板与保持部(76)一体地在狭缝喷嘴的喷出方向上移动的升降机构(78)以及用于使刮板旋转的旋转机构(82)。
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公开(公告)号：CN116422496A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310002022.0
申请日：2023-01-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供能够高精度地检测涂敷处理的不良的涂敷处理装置、涂敷处理方法和存储介质。本发明的一个方式的涂敷处理装置包括支承件、基片保持部、线传感器和光源。支承件具有能够向基片释放功能液的多个释放头。基片保持部能够保持基片，并使基片相对于支承件相对移动。线传感器能够对基片进行拍摄，且宽度比基片的宽度宽。光源为长条形状，能够对线传感器的拍摄区域照射光。而且，线传感器的光轴与基片的正面所成的角度小于光源的光轴与基片的正面所成的角度。
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公开(公告)号：CN102674004B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201210061866.4
申请日：2012-03-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板浮起搬送方法，使浮起台中的基板的浮起高度和姿势最优化，并改善浮起用高压气体的消耗效率。该抗蚀剂涂敷装置中的浮起台(10)，在搬送方向上将在涂敷区域(MCT)的前后延伸的搬入区域(MIN)和搬出区域(MOUT)的浮起面各自划分为多个浮起区域。在这些浮起面配置有多个喷出口(12)。各个浮起区域中的高压气体的喷出压力通过喷出压力控制部能够进行独立地变化或者开启·关闭控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102157424B
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201110025022.X
申请日：2011-01-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/677 , B65G49/06
Abstract: 本发明提供基板输送装置及基板输送方法，在以张的形式1张1张地水平输送被处理基板的基板处理装置中缩短了从基板搬入到输送开始的生产节拍时间并提高了生产率。该基板输送装置具有：悬浮用载物台，其使被处理基板悬浮；一对导轨，其平行配置在悬浮用载物台的左右侧方；多个基板载持件，其能分别沿着一对导轨移动，能从下方吸附保持基板的边缘部；对准部件，其相对于被搬入到悬浮用载物台的基板搬入位置的基板从待机位置到规定位置自由进退，与基板接触而将该基板配置在规定位置；基板支承部件，其在悬浮用载物台的基板搬入位置处从该基板的下方支承被对准部件配置在规定位置的基板；控制部，其控制基板载持件、对准部件及基板支承部件的动作。
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公开(公告)号：CN101927231B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201010212346.X
申请日：2010-06-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 平田机工株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够更大程度地减少在启动加注处理中使用的清洗液、缩短干燥处理时间以及延长清洗处理用工具和/或干燥处理用工具的使用寿命的启动加注处理方法以及启动加注处理装置。该启动加注处理装置在启动加注辊(14)的周围沿旋转方向配置有具有清洗垫(20)的粗清洗处理部(18)、具有双流体喷嘴(42)的精清洗处理部(38)、具有擦拭垫(52)的液滴去除部(48)、和包括间隙(58)以及气体喷嘴(60)的干燥送风部(50)。利用清洗垫移动机构(24)以及擦拭垫移动机构(56)在清洗垫(20)以及擦拭垫(52)与启动加注辊(14)的外周面接触的第1位置、和清洗垫(20)以及擦拭垫(52)自启动加注辊(14)退避的第2位置之间切换清洗垫(20)以及擦拭垫(52)的位置。
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公开(公告)号：CN102671821A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210050161.2
申请日：2012-02-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供悬浮式涂敷装置。本发明的课题是以短时间简便地进行可分解的悬浮台的再组装作业中的高度调整。在该抗蚀剂涂敷装置的悬浮台(10)，出口侧的工作台块(SBa)通过多个支柱(18)和调节器(20)被安装在能够独立输送的台座(FLA)上。中间的三个工作台块(SBb)、(SBc)、(SBd)通过多个支柱(22)、(24)、(26)和调节器(28)、(30)、(32)被分别安装在能够独立输送的台座(FLB)上。出口侧的工作台块(SBe)通过多个支柱(34)和调节器(36)被安装在能够独立输送的台座(FLC)上。
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公开(公告)号：CN108568382A
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201810181769.6
申请日：2018-03-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: B05C5/0208 , B05C11/00 , B05C13/00 , B05D1/26 , H01L21/6715 , H01L21/67259 , H01L21/681 , B05C5/027 , B05C5/0291 , B05C11/1039 , B05C13/02
Abstract: 本发明提供液滴排出装置、液滴排出方法、程序和计算机存储介质。在向工件排出功能液的液滴来进行描绘的液滴排出装置中，使从液滴排出头向工件去的液滴的着液精度提高。液滴排出装置(1)包括：载置工件(W)的工作台(40)；向载置于工作台(40)的工件(W)排出液滴的液滴排出头(24)；使工作台(40)在主扫描方向Y轴方向上移动的Y轴直线电动机(13)；检测托架标记(25)的位置的位置检测器(72)；和控制部(150)，其计算由位置检测器(7)检测的检测位置和托架标记(25)的基准位置的在主扫描方向的位置偏离量，基于该位置偏离量，对液滴排出头(24)的液滴的排出时机进行修正。
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公开(公告)号：CN103466956B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310376565.5
申请日：2010-06-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 平田机工株式会社
IPC: C03C17/00
Abstract: 本发明提供一种能够更大程度地减少在启动加注处理中使用的清洗液、缩短干燥处理时间以及延长清洗处理用工具和/或干燥处理用工具的使用寿命的启动加注处理方法以及启动加注处理装置。该启动加注处理装置在启动加注辊（14）的周围沿旋转方向配置有具有清洗垫（20）的粗清洗处理部（18）、具有双流体喷嘴（42）的精清洗处理部（38）、具有擦拭垫（52）的液滴去除部（48）、和包括间隙（58）以及气体喷嘴（60）的干燥送风部（50）。利用清洗垫移动机构（24）以及擦拭垫移动机构（56）在清洗垫（20）以及擦拭垫（52）与启动加注辊（14）的外周面接触的第1位置、和清洗垫（20）以及擦拭垫（52）自启动加注辊（14）退避的第2位置之间切换清洗垫（20）以及擦拭垫（52）的位置。
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