公开(公告)号：CN101219427A

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200710159745.2

申请日：2007-12-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂井光广 ,  八寻俊一 ,  川内拓男 ,  小宫洋司

IPC: B08B3/00 ,  B08B11/04 ,  B65G49/00 ,  B65G49/06 ,  B65G13/00 ,  G03F7/30 ,  G03F7/26 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，在被处理基板的洗净处理中，防止异物向洗净处理后的基板再附着，有效地进行洗净处理，同时实现提高生产量和低成本化。在使用洗净液进行被处理基板的洗净处理的基板处理装置中，具有：形成有以仰面朝上的姿势搬送被处理基板的搬送路径，通过搬送路径搬送基板的搬送单元；和向搬送的基板的上面供给洗净液的洗净喷嘴，其中搬送路径具有以水平状态搬送基板的水平部、和从所述水平部形成规定角度的向上倾斜的倾斜部，洗净喷嘴配置在倾斜部的上方，洗净液的喷出方向为相对于水平方向向下方倾斜规定角度的方向、并且为搬送路径的上游方向，向在倾斜部上搬送的基板的倾斜面喷出洗净液。

公开(公告)号：CN101329994A

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200810110231.2

申请日：2008-06-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川内拓男

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种处理装置，对被连续搬送的柔韧性薄膜(1)依次实施多个处理，其包括：连续搬送柔韧性薄膜(1)的搬送机构(13)；对柔韧性薄膜(1)实施第一处理的第一处理单元(11)；对柔韧性薄膜(1)实施第二处理的第二处理单元(12)；和根据在第一处理单元(11)与第二处理单元(12)之间产生的柔韧性薄膜(1)的搬送速度差来缓冲柔韧性薄膜(1)的缓冲机构(14)。

公开(公告)号：CN102161027A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN201110041215.4

申请日：2011-02-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 元田公男 ,  宫崎文宏 ,  太田义治 ,  川内拓男

IPC: B05B15/02 ,  B05C5/02

Abstract: 本发明提供一种在抑制颗粒的产生的同时、自动且有效率地清扫狭缝喷嘴的狭缝内部的狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置。狭缝喷嘴清扫装置(70)包括：喷嘴清扫单元(56)、用于使整个启动加注处理部在基板输送方向(X方向)上移动的X方向移动部(54)以及用于在壳体(44)中使喷嘴清扫单元在喷嘴长度方向(Y方向)移动的Y方向移动部(60)。喷嘴清扫单元(56)包括：能够自外部向狭缝喷嘴(32)的狭缝(32a)内插入或者从狭缝(32a)内拔出的薄板状的刮板(74)、用于保持该刮板的保持部(76)、用于使刮板与保持部(76)一体地在狭缝喷嘴的喷出方向上移动的升降机构(78)以及用于使刮板旋转的旋转机构(82)。

公开(公告)号：CN115428121A

公开(公告)日：2022-12-02

申请号：CN202180026341.4

申请日：2021-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川内拓男 ,  松永正隆 ,  坂本亮一 ,  本田胜 ,  西村理志

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/677

Abstract: 第1输送装置(22)和第2输送装置(32)在常压气氛下输送第1基板(W1)和第2基板(W2)。第3输送装置(34)在减压气氛下输送第1基板(W1)和第2基板(W2)。加载互锁室(31d)具有能够收纳第1基板(W1)和第2基板(W2)的收纳部(311、312)，并能够将收纳部(311、312)在常压气氛与减压气氛之间切换。多个闸门(101～104)分别设于加载互锁室(31d)的不同的三个侧面，并能够开闭加载互锁室(31d)。另外，第1输送装置(22)、第2输送装置(32)以及第3输送装置(34)经由多个闸门(101～104)中的各不相同的闸门(101～104)来相对于加载互锁室(31d)进行第1基板(W1)和第2基板(W2)的送入送出。

公开(公告)号：CN102161027B

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN201110041215.4

申请日：2011-02-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 元田公男 ,  宫崎文宏 ,  太田义治 ,  川内拓男

IPC: B05B15/02 ,  B05C5/02

Abstract: 本发明提供一种在抑制颗粒的产生的同时、自动且有效率地清扫狭缝喷嘴的狭缝内部的狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置。狭缝喷嘴清扫装置(70)包括：喷嘴清扫单元(56)、用于使整个启动加注处理部在基板输送方向(X方向)上移动的X方向移动部(54)以及用于在壳体(44)中使喷嘴清扫单元在喷嘴长度方向(Y方向)移动的Y方向移动部(60)。喷嘴清扫单元(56)包括：能够自外部向狭缝喷嘴(32)的狭缝(32a)内插入或者从狭缝(32a)内拔出的薄板状的刮板(74)、用于保持该刮板的保持部(76)、用于使刮板与保持部(76)一体地在狭缝喷嘴的喷出方向上移动的升降机构(78)以及用于使刮板旋转的旋转机构(82)。

公开(公告)号：CN101329994B

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN200810110231.2

申请日：2008-06-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川内拓男

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种处理装置，对被连续搬送的柔韧性薄膜(1)依次实施多个处理，其包括：连续搬送柔韧性薄膜(1)的搬送机构(13)；对柔韧性薄膜(1)实施第一处理的第一处理单元(11)；对柔韧性薄膜(1)实施第二处理的第二处理单元(12)；和根据在第一处理单元(11)与第二处理单元(12)之间产生的柔韧性薄膜(1)的搬送速度差来缓冲柔韧性薄膜(1)的缓冲机构(14)。