公开(公告)号：CN110504189A

公开(公告)日：2019-11-26

申请号：CN201910395773.7

申请日：2019-05-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 久保诚人 ,  井本直树 ,  八寻俊一

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种能够抑制在基片处理中发生不均的技术。实施方式的基片处理装置包括腔室、多个供气部和控制部。腔室用于收纳基片，能够在减压气氛在内部保持基片。供气部用于对腔室内供给气体。控制部分别控制多个供气部进行的气体的供给。控制部在使腔室内回到常压时，开始从多个供气部中的一个以上的供气部供给气体后，增加供给气体的供气部的数量。

公开(公告)号：CN1892423B

公开(公告)日：2010-05-12

申请号：CN200610094248.4

申请日：2006-06-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小宫洋司 ,  西村德彦 ,  八寻俊一

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，基板(G)利用其挠性在基板全长的一部分上形成类似输送线路(120)的隆起部(120a)的突筋的基板隆起部(Ga)，以与输送速度相等的速度使隆起部(Ga)从基板的前端到后端沿与输送方向相反方向一边相对移动，一边通过输送线路的隆起部(120a)。在向上倾斜路径(M2)中，在基板上显影液利用重力向基板后方流，显影液(R)的液膜从基板前端向后端以大致等于输送速度的速度从盛满液体状态变化到薄膜(R’)的状态。基板若移动到向下倾斜路径(M3)，则从上方洗涤喷嘴(138)以带状喷射流供给洗涤液，在附着基板上的洗涤液(S)的线路附近呈薄膜状态的显影液R'被置换成洗涤液，显影完全停止。

公开(公告)号：CN101219427A

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200710159745.2

申请日：2007-12-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂井光广 ,  八寻俊一 ,  川内拓男 ,  小宫洋司

IPC: B08B3/00 ,  B08B11/04 ,  B65G49/00 ,  B65G49/06 ,  B65G13/00 ,  G03F7/30 ,  G03F7/26 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，在被处理基板的洗净处理中，防止异物向洗净处理后的基板再附着，有效地进行洗净处理，同时实现提高生产量和低成本化。在使用洗净液进行被处理基板的洗净处理的基板处理装置中，具有：形成有以仰面朝上的姿势搬送被处理基板的搬送路径，通过搬送路径搬送基板的搬送单元；和向搬送的基板的上面供给洗净液的洗净喷嘴，其中搬送路径具有以水平状态搬送基板的水平部、和从所述水平部形成规定角度的向上倾斜的倾斜部，洗净喷嘴配置在倾斜部的上方，洗净液的喷出方向为相对于水平方向向下方倾斜规定角度的方向、并且为搬送路径的上游方向，向在倾斜部上搬送的基板的倾斜面喷出洗净液。

公开(公告)号：CN101183224B

公开(公告)日：2011-04-27

申请号：CN200710170254.8

申请日：2007-11-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂本贵浩 ,  坂井光广 ,  八寻俊一

IPC: G03F7/38 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，其能够高效安全且平稳地进行被处理基板的搬入搬出并最小限度抑制附着在基板的涂敷膜上的基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(VD)(46)通过在搬入侧滚动搬送通路(104a)和内部滚动搬送通路(104b)上进行的滚动搬送，以滚动搬送方式将应接受减压干燥处理的基板G搬入到腔室(106)内，通过内部滚动搬送通路(104b)和搬出侧滚动搬送通路(104c)上进行的滚动搬送，将腔室(106)内完成减压干燥处理的基板G搬出腔室(106)外。在减压干燥处理中，多个升降销(128)使基板G保持水平姿势将其从滚动搬送通路(104b)向上方提起，以极细销尖部支撑基板G。

公开(公告)号：CN101206412B

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN200710159744.8

申请日：2007-12-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 八寻俊一 ,  坂井光广 ,  坂本贵浩

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  F26B5/04 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，其能够高效安全且平稳地进行被处理基板的搬入搬出并防止转印痕迹附着在基板上的涂敷膜上。该减压干燥单元(VD)(46)通过搬入侧滚轴搬送路(104)的滚轴搬送和台(122)上的浮起式辊搬送，将应接受减压干燥处理的基板G搬入腔室(106)中，通过台(122)上的浮起式辊搬送路的浮起式辊搬送和搬出侧滚轴搬送路(110)的滚轴搬送，将在腔室(106)内完成减压干燥处理的基板G向腔室(106)外搬出。在减压干燥处理中，基板G以面接触状态载置在台(122)的上面。

公开(公告)号：CN1979765A

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：CN200610165602.8

申请日：2006-12-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 相马康孝 ,  和田宪雄 ,  八寻俊一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种即使是大型的基板，也可以抑制产生基板弯曲或破损等，同时实现使收纳基板的壳体小型化的加热处理装置。加热处理装置(28)具有：作为在一个方向搬送基板(G)的搬送通路的辊搬送机构(5)；围绕搬送通路而设置的壳体(6)；在壳体(6)内，以接近基板(G)的方式在搬送通路中被搬送的基板(G)的两面侧分别设置的沿着搬送通路的第一和第二面状加热器(71a～71r、72a～72r)。

公开(公告)号：CN1913101A

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN200610115720.8

申请日：2006-08-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂本贵浩 ,  坂井光广 ,  八寻俊一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  G03F7/38 ,  G03F7/16 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，即使基板为大型、安全性也优异，并能抑制振动的产生，且能可靠地防止涂敷在基板上的涂敷液发生转印。该减压干燥装置具备：在侧壁部具有搬入基板的搬入口和搬出基板的搬出口，将从搬入口搬入的基板以大致水平状态收容的腔室；对搬入口和搬出口进行开关的门部件；在利用门部件关闭搬入口和搬出口的状态下，对腔室内进行减压的减压机构；大致水平地搬送基板，将其从搬入口搬入到腔室内，并且，在利用减压机构进行减压干燥处理后，大致水平地搬送该基板，将其从搬出口搬出到腔室之外的搬送机构；和在腔室内，不是局部地支撑、而是能够均匀地支撑基板的带。

公开(公告)号：CN107179287B

公开(公告)日：2020-12-08

申请号：CN201610132646.4

申请日：2016-03-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 尾上幸太朗 ,  八寻俊一

IPC: G01N21/33 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供一种适当检查被排出到被排出体的液滴的液滴检查装置。液滴检查装置(1)包括：将紫外线照射到存在液滴(21)的检查片(20)上的照射区域(22)的照射部(10)；对液滴(21)(或检查片(20))发光的照射区域(22)进行拍摄的拍摄部(11)；设置在拍摄部(11)的光轴上、用于屏蔽在检查片(20)上反射的紫外线(31)的紫外线屏蔽滤光器(12)；和基于由拍摄部(11)拍摄的拍摄图像，计测液滴(21)的大小和检查片(20)上的液滴(21)的位置的计测部(13a)。

公开(公告)号：CN102270563A

公开(公告)日：2011-12-07

申请号：CN201110153706.8

申请日：2011-06-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川口义广 ,  佐竹政纪 ,  八寻俊一

IPC: H01L21/00

Abstract: 本发明提供热处理装置、热处理方法和存储介质。包括：基板搬送机构(20)；形成对在基板搬送路搬送的被处理基板(G)的热处理空间的第一腔室(8)；能够变更加热或冷却温度的设定温度，能够将上述第一腔室内加热或冷却的第一加热·冷却机构(17、18)；设置于上述第一腔室的前段，对在上述基板搬送路搬送的上述被处理基板进行检测的基板检测机构(45)；和被供给上述基板检测机构的检测信号，并能够进行上述第一加热·冷却机构的控制的控制机构(40)，上述控制机构，在向着上述第一腔室搬送的多个被处理基板中最前头的被处理基板被上述基板检测机构检测到时，将上述第一加热·冷却机构的设定温度从第一温度变更到第二温度。

公开(公告)号：CN102024678A

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：CN201010276303.8

申请日：2010-09-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 八寻俊一 ,  佐田彻也 ,  久保诚人

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种能够抑制基板间的热处理温度产生偏差、并且使基板间以及基板面内的布线图案的线宽均匀化的热处理装置。该热处理装置包括：基板输送部件，形成基板输送路径，沿基板输送路径连续地平流输送多个基板；第1腔室，覆盖基板输送路径的规定区间，形成对由基板输送路径输送来的基板进行热处理的热处理空间；加热部件，其加热第1腔室的内部；清洁空气供给部件，其配置在上述第1腔室的前方，向上述基板输送路径吹送清洁空气；控制部件，其至少控制上述清洁空气供给部件的清洁空气的吹送量；上述第1腔室具有用于输入上述基板输送路径上的上述基板的输入口，由上述清洁空气供给部件吹送的清洁空气自上述输入口被供给到上述第1腔室内。