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公开(公告)号：CN110891697A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201880047157.6
申请日：2018-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 西村德彦
Abstract: 本发明提供一种对基片涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其具有：用于保持基片的保持部；对保持在所述保持部上的基片排出所述涂敷液的涂敷喷嘴；使所述保持部和所述涂敷喷嘴在正交方向上相对地移动的移动机构；和受液部，其设置在所述保持部所保持的基片的俯视时外侧的两侧，用于接收从所述涂敷喷嘴排出的所述涂敷液。
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公开(公告)号：CN1892423A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200610094248.4
申请日：2006-06-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，基板(G)利用其挠性在基板全长的一部分上形成类似输送线路(120)的隆起部(120a)的突筋的基板隆起部(Ga)，以与输送速度相等的速度使隆起部(Ga)从基板的前端到后端沿与输送方向相反方向一边相对移动，一边通过输送线路的隆起部(120a)。在向上倾斜路径(M2)中，在基板上显影液利用重力向基板后方流，显影液(R)的液膜从基板前端向后端以大致等于输送速度的速度从盛满液体状态变化到薄膜(R’)的状态。基板若移动到向下倾斜路径(M3)，则从上方洗涤喷嘴(138)以带状喷射流供给洗涤液，在附着基板上的洗涤液(S)的线路附近呈薄膜状态的显影液R’被置换成洗涤液，显影完全停止。
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公开(公告)号：CN1892423B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200610094248.4
申请日：2006-06-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，基板(G)利用其挠性在基板全长的一部分上形成类似输送线路(120)的隆起部(120a)的突筋的基板隆起部(Ga)，以与输送速度相等的速度使隆起部(Ga)从基板的前端到后端沿与输送方向相反方向一边相对移动，一边通过输送线路的隆起部(120a)。在向上倾斜路径(M2)中，在基板上显影液利用重力向基板后方流，显影液(R)的液膜从基板前端向后端以大致等于输送速度的速度从盛满液体状态变化到薄膜(R’)的状态。基板若移动到向下倾斜路径(M3)，则从上方洗涤喷嘴(138)以带状喷射流供给洗涤液，在附着基板上的洗涤液(S)的线路附近呈薄膜状态的显影液R'被置换成洗涤液，显影完全停止。
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