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公开(公告)号：CN101685070A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200910176670.8
申请日：2009-09-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够高灵敏度地检测异物的光学式异物检测装置以及搭载它的处理液涂布装置。构成为使以水平状态载置在载物台(2)上的被处理基板(1)和具有沿上述基板(1)的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口(11b)的处理液供给喷嘴(11)相对地移动，从而将从处理液供给喷嘴(11)带状地喷出的处理液涂布到基板(1)的表面。在上述处理液供给喷嘴(11)的相对移动方向的前方搭载有由光投射部(5)和受光部(6)构成的光透过型传感器单元。提供一种光学式异物检测装置，在沿着上述传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域，通过追溯异物的移动方向的历史记录而对由传感器单元得到的受光数据进行统计，来提高对异物的反应灵敏度。
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公开(公告)号：CN1940537A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610159929.4
申请日：2006-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能以良好的灵敏度检测平面状基板的异常状态的光学式异物检测装置和搭载有该装置的处理液涂布装置。使以水平状态被载置在载物台上的被处理基板与具有沿上述基板的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口的处理液供给喷嘴相对移动，将从处理液供给喷嘴呈带状喷出的处理液涂布在基板的表面。在相对于上述基板相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方，搭载有由投光部和受光部构成的光透过型传感器单元。上述传感器单元构成为：具有检测受光部的光束的受光输出是否为规定值以上的第一检测单元、和检测上述受光输出的单位时间的变化量是否为规定值以上的第二检测单元，根据上述第一检测单元和第二检测单元的检测输出的逻辑和，探测异物的存在。
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公开(公告)号：CN102005402B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201010268514.7
申请日：2010-08-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种基板输送装置以及基板输送方法，不用停止基板的输送而将其从浮起台运出，抑制产生对基板的被处理面的转印痕，能够提高生产能力。该基板输送装置具有将基板(G)以浮起的状态输送的浮起输送部(2A)以及配置在所述浮起输送部的后段，从所述浮起输送部取得所述基板，由输送滚体输送的滚动输送部(2B)。所述浮起输送部具有：使所述基板浮起的浮起台(3)；与所述浮起台的左右侧方平行配置并延伸到所述滚动输送部的左右侧方的导轨(5)；以及、沿所述导轨分别能够移动地设置，能够从下方吸附保持所述基板的缘部的基板载体(6)，所述基板由所述基板载体吸附保持，沿所述导轨输送，所述基板的前端到达所述滚动输送部的规定位置时，解除基板载体的吸附。
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公开(公告)号：CN101685070B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN200910176670.8
申请日：2009-09-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够高灵敏度地检测异物的光学式异物检测装置以及搭载它的处理液涂布装置。构成为使以水平状态载置在载物台(2)上的被处理基板(1)和具有沿上述基板(1)的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口(11b)的处理液供给喷嘴(11)相对地移动，从而将从处理液供给喷嘴(11)带状地喷出的处理液涂布到基板(1)的表面。在上述处理液供给喷嘴(11)的相对移动方向的前方搭载有由光投射部(5)和受光部(6)构成的光透过型传感器单元。提供一种光学式异物检测装置，在沿着上述传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域，通过追溯异物的移动方向的历史记录而对由传感器单元得到的受光数据进行统计，来提高对异物的反应灵敏度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102192915B
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201110061107.3
申请日：2011-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种背面异物检测方法、背面异物检测装置以及涂布装置，在浮动方式的无旋转涂布法中高精度地可靠检测有可能使基板上表面与狭缝喷嘴摩擦而造成损伤的有害背面异物。该抗蚀剂涂布装置具备背面异物检测装置，该背面异物检测装置能够在比狭缝喷嘴更靠基板输送方向即X方向上游侧可靠地检测有害即有可能使基板G上表面与狭缝喷嘴摩擦而造成损伤的背面异物Q。并且，响应于背面异物检测装置检测到这种有害背面异物Q时产生的警报信号WS，主控制部通过喷嘴升降机构使狭缝喷嘴立即上升移动，由此狭缝喷嘴能够躲避即避免摩擦或者碰撞基板G的凸起部分GQ，从而防止狭缝喷嘴受损伤。
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公开(公告)号：CN102161026A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110044887.0
申请日：2011-02-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及一种基板输送装置。其中，涂覆装置能够在装置内随时或适时地、自动且有效率地去除上浮工作台上的吸引口的堵塞。在上浮工作台吸引口扫除动作中，控制器在将与涂覆处理相关的动作暂时全部设为停止状态后使第2供气部工作。通过使第2供气部工作，从而将来自正压气体供应源的空气(压缩空气)经由第1供气管线和第2歧管(64)而送入到涂覆区域内的各吸引口(18)。在发生了堵塞的吸引口(18)中，利用来自第2歧管(64)侧的空气压力而将夹入在气体通路(18a)中的异物(Q)以挤出的方式朝上方排出。这时，由于第1供气部(44)也工作，因此不必担心由吸引口(18)排出的异物(Q)进入到附近的喷出口(16)中。
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公开(公告)号：CN102192915A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110061107.3
申请日：2011-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种背面异物检测方法、背面异物检测装置以及涂布装置，在浮动方式的无旋转涂布法中高精度地可靠检测有可能使基板上表面与狭缝喷嘴摩擦而造成损伤的有害背面异物。该抗蚀剂涂布装置具备背面异物检测装置，该背面异物检测装置能够在比狭缝喷嘴更靠基板输送方向即X方向上游侧可靠地检测有害即有可能使基板G上表面与狭缝喷嘴摩擦而造成损伤的背面异物Q。并且，响应于背面异物检测装置检测到这种有害背面异物Q时产生的警报信号WS，主控制部通过喷嘴升降机构使狭缝喷嘴立即上升移动，由此狭缝喷嘴能够躲避即避免摩擦或者碰撞基板G的凸起部分GQ，从而防止狭缝喷嘴受损伤。
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公开(公告)号：CN102005402A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010268514.7
申请日：2010-08-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种基板输送装置以及基板输送方法，不用停止基板的输送而将其从浮起台运出，抑制产生对基板的被处理面的转印痕，能够提高生产能力。该基板输送装置具有将基板(G)以浮起的状态输送的浮起输送部(2A)以及配置在所述浮起输送部的后段，从所述浮起输送部取得所述基板，由输送滚体输送的滚动输送部(2B)。所述浮起输送部具有：使所述基板浮起的浮起台(3)；与所述浮起台的左右侧方平行配置并延伸到所述滚动输送部的左右侧方的导轨(5)；以及、沿所述导轨分别能够移动地设置，能够从下方吸附保持所述基板的缘部的基板载体(6)，所述基板由所述基板载体吸附保持，沿所述导轨输送，所述基板的前端到达所述滚动输送部的规定位置时，解除基板载体的吸附。
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公开(公告)号：CN100587479C
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200610159929.4
申请日：2006-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能以良好的灵敏度检测平面状基板的异常状态的光学式异物检测装置和搭载有该装置的处理液涂布装置。使以水平状态被载置在载物台上的被处理基板与具有沿上述基板的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口的处理液供给喷嘴相对移动，将从处理液供给喷嘴呈带状喷出的处理液涂布在基板的表面。在相对于上述基板相对移动的处理液供给喷嘴的移动方向的前方，搭载有由投光部和受光部构成的光透过型传感器单元。上述传感器单元构成为：具有检测受光部的光束的受光输出是否为规定值以上的第一检测单元、和检测上述受光输出的单位时间的变化量是否为规定值以上的第二检测单元，根据上述第一检测单元和第二检测单元的检测输出的逻辑和，探测异物的存在。
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