涂敷装置和涂敷方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108417712A

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201810116963.6

    申请日:2018-02-06

    Abstract: 本发明提供一种能够提高基片的位置控制性的涂敷装置。该涂敷装置,其使功能液的液滴在基片的着液位置在主扫描方向和副扫描方向上移动,在基片上描绘功能液的描绘图案,包括:利用气体的风压使基片浮起在规定的高度的台部;液滴排出部,其向浮起在距台部规定的高度的基片滴注功能液的液滴;主扫描方向移动部,其保持浮起在距台部规定的高度的基片并且使该基片在主扫描方向上移动;和副扫描方向移动部,其使液滴排出部相对于浮起在距台部规定的高度的基片在副扫描方向上移动,在反复进行主扫描方向移动部使基片在主扫描方向上移动并且液滴排出部滴注液滴的处理期间,副扫描方向移动部使液滴排出部在副扫描方向上移动。

    基板处理装置和涂敷装置以及涂敷方法

    公开(公告)号:CN101431008A

    公开(公告)日:2009-05-13

    申请号:CN200810174786.3

    申请日:2008-11-05

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法,其特征在于:在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R),具有:分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R);沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R);使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。

    基片处理装置和基片处理方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113926615A

    公开(公告)日:2022-01-14

    申请号:CN202110691128.7

    申请日:2021-06-22

    Abstract: 本发明提供能够使基片输送的误差减少的基片处理装置和基片处理方法。本发明的实施方式的基片处理装置包括引导部、输送装置和加工部。引导部沿着基片的输送方向延伸。输送装置用于沿着输送方向输送基片。加工部用于对沿着输送方向被输送的基片实施加工处理。输送装置包括保持部、移动部和调整部。保持部用于保持基片。移动部能够支承保持部、并且沿着引导部移动。调整部用于对移动部的在与输送方向正交的方向上的位置进行调整,调整部的至少一部分与移动部设置在同一水平面上。

    绘制装置和绘制方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113363179A

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202110200405.X

    申请日:2021-02-23

    Inventor: 三根阳介

    Abstract: 本发明提供一种绘制装置和绘制方法。实施方式的绘制装置包括绘制部和维护部。绘制部从多个释放头对沿运送方向移动的工件释放功能液,来对工件进行绘制。维护部具有在沿运送方向移动到绘制部的下方的状态下进行多个释放头的检查的检查部。根据本发明,能够减小绘制装置的装置面积。

    液滴释放装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112138896A

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN202010552402.8

    申请日:2020-06-17

    Inventor: 三根阳介

    Abstract: 本发明提供一种液滴释放装置。实施方式的液滴释放装置包括输送机构、释放头、第1介质输送部、第2介质输送部和摄像部。输送机构沿输送方向输送工件。释放头对工件释放功能液的液滴。第1介质输送部在与输送方向正交的方向上输送能够接收从释放头释放的检查用的液滴的第1检查用介质。第2介质输送部在正交的方向上输送第2检查用介质,该第2检查用介质能够接收从释放头释放的检查用的液滴,并与第1检查用介质在输送方向上并排配置。摄像部拍摄释放到第1检查用介质的液滴和释放到第2检查用介质的液滴。本发明能够高效地进行液滴的释放状态的调整。

    减压干燥装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102074456B

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201010516316.8

    申请日:2010-10-18

    Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置,通过滚轮搬送高效、安全且顺畅地进行基板的搬入、搬出,在减压干燥处理中通过任意粗度的销对基板进行支承,并尽可能抑制在基板上的涂敷膜附着基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(12)将进行被处理基板(G)的平流搬送的滚轮搬送路径(38B)引入到腔室(40)内,利用基板升降机构(60)在腔室(40)内使基板(G)通过升降销(62)进行上下。而且,在比升降销(62)的销前部稍低(通常10mm以下)的位置上水平设置有遮蔽板(100),能够通过遮蔽板升降机构(102)使该遮蔽板(100)的高度位置可变。

    涂敷装置和涂敷方法
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108372079B

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN201810100699.7

    申请日:2018-02-01

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制质量测量器的破损的涂敷装置。在基片上描绘功能液的描绘图案的涂敷装置,其包括:保持上述基片的基片保持部;液滴排出部,其向保持于上述基片保持部的上述基片排出上述功能液的液滴;移动部,其使上述基片保持部与上述液滴排出部在主扫描方向和副扫描方向相对地移动,质量测量部,其包含接收由上述液滴排出部排出的液滴的杯和对存积在上述杯的内部的上述功能液的质量进行测量的质量测量器;和排液部,其将存积在上述杯的内部的上述功能液从上述杯排出。

    液滴释放装置和位置调整方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113909041A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202110726624.1

    申请日:2021-06-29

    Abstract: 本发明涉及液滴释放装置和位置调整方法,其在液滴释放装置中进行头部的位置调整。本发明的液滴释放装置包括释放单元、运送单元和调整单元。释放单元具有:形成有多个开口部的承载器;多个头部,其以覆盖开口部的方式设置在承载器,能够释放功能液的液滴;和能够相对于承载器对头部进行固定和固定解除的多个固定部。运送单元配置在释放单元的下方,沿水平方向运送基片。调整单元从释放单元的下方访问以调整头部的位置。

    减压干燥装置和减压干燥方法

    公开(公告)号:CN102012643A

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN201010277683.7

    申请日:2010-09-07

    Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置和减压干燥方法,能够在对被处理基板上的涂敷膜迅速地进行减压干燥处理的工艺和缓慢地进行减压干燥处理的工艺之间有选择性地进行切换。在该减压干燥单元(214)中,气流控制部(260)包括:位于下部腔室(224)的沿Y方向相对的侧壁224(2)、224(4)的内侧、并配置在载置台(230)的两侧的第一分隔板(262A、262B);使该第一分隔板(262A、262B)在第一高度位置和第二高度位置之间升降移动的第一升降机构(264)。而且,气流控制部(260)包括:配置在载置台(230)的周围或旁边的、横截面呈コ字状的第二分隔板(276);使该第二分隔板(276)在第三高度位置和第四高度位置之间升降移动的第二升降机构(278)。

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