公开(公告)号：CN110634766A

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201910530951.2

申请日：2019-06-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永田广 ,  西山淳 ,  藤原慎 ,  藤原真树

IPC: H01L21/67 ,  G03F7/30 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种能够缩短基片处理装置在基片输送方向的长度的技术。实施方式的基片处理装置包括可动工作台和工作台移动机构。可动工作台具有能够输送用处理液浸湿了的基片的输送机构。工作台移动机构能够使可动工作台至少在上下方向移动。

公开(公告)号：CN110610853A

公开(公告)日：2019-12-24

申请号：CN201910509871.9

申请日：2019-06-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐田彻也 ,  永田广 ,  麻生丰

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种能够提高显影的均匀性的技术。实施方式的基片处理装置包括输送机构、显影液槽和供给嘴。输送机构平流地输送在表面形成有被曝光了的光致抗蚀剂膜的基片。显影液槽将由输送机构输送的基片浸渍在显影液中。供给嘴将显影液供给到被从显影液槽内的显影液中输送至外部的基片。

公开(公告)号：CN102074456B

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201010516316.8

申请日：2010-10-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田文彦 ,  三根阳介 ,  大西辰己 ,  永田广

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/38

Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，通过滚轮搬送高效、安全且顺畅地进行基板的搬入、搬出，在减压干燥处理中通过任意粗度的销对基板进行支承，并尽可能抑制在基板上的涂敷膜附着基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(12)将进行被处理基板(G)的平流搬送的滚轮搬送路径(38B)引入到腔室(40)内，利用基板升降机构(60)在腔室(40)内使基板(G)通过升降销(62)进行上下。而且，在比升降销(62)的销前部稍低(通常10mm以下)的位置上水平设置有遮蔽板(100)，能够通过遮蔽板升降机构(102)使该遮蔽板(100)的高度位置可变。

公开(公告)号：CN113741156A

公开(公告)日：2021-12-03

申请号：CN202110539078.0

申请日：2021-05-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐田彻也 ,  永田广 ,  麻生丰 ,  藤原真树

IPC: G03F7/30

Abstract: 本发明提供能够抑制基片的产品缺陷的显影处理装置和显影处理方法。实施方式的显影处理装置包括运送机构、送入部、显影部和气体供给部。运送机构平流地运送抗蚀剂膜的一部分被曝光了的基片。送入部能够供基片送入。显影部具有显影液供给嘴，该显影液供给嘴对由运送机构从送入部运送的基片的表面供给显影液。气体供给部设置在送入部，向显影液供给嘴倾斜地供给气体。

公开(公告)号：CN102074456A

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：CN201010516316.8

申请日：2010-10-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田文彦 ,  三根阳介 ,  大西辰己 ,  永田广

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/38

Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，通过滚轮搬送高效、安全且顺畅地进行基板的搬入、搬出，在减压干燥处理中通过任意粗度的销对基板进行支承，并尽可能抑制在基板上的涂敷膜附着基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(12)将进行被处理基板(G)的平流搬送的滚轮搬送路径(38B)引入到腔室(40)内，利用基板升降机构(60)在腔室(40)内使基板(G)通过升降销(62)进行上下。而且，在比升降销(62)的销前部稍低(通常10mm以下)的位置上水平设置有遮蔽板(100)，能够通过遮蔽板升降机构(102)使该遮蔽板(100)的高度位置可变。