公开(公告)号：CN101128918A

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：CN200680005872.0

申请日：2006-02-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山崎刚 ,  境昌孝

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  B65G49/06

CPC classification number: H01L21/67178 ,  B65G49/065 ,  B65G49/067 ,  B65G49/068 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/04 ,  B65G2249/045 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/6838

Abstract: 本发明提供一种工作台装置，具有在上方进行基板的输送的工作台、以及、使基板在该工作台上上浮的上浮机构，工作台具有用来喷射使基板(G)上浮的气体的多个气体喷射口(16a)、以及、对从气体喷射口(16a)喷射的气体进行吸引的多个吸气口(16b)，多个气体喷射口(16a)和多个吸气口(16b)各自设置成，在沿着基板输送方向的既定距离内不沿着平行于基板输送方向的直线排列。

公开(公告)号：CN100557769C

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：CN200680005872.0

申请日：2006-02-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山崎刚 ,  境昌孝

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  B65G49/06

CPC classification number: H01L21/67178 ,  B65G49/065 ,  B65G49/067 ,  B65G49/068 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/04 ,  B65G2249/045 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/6838

Abstract: 本发明提供一种工作台装置，具有在上方进行基板的输送的工作台、以及、使基板在该工作台上上浮的上浮机构，工作台具有用来喷射使基板(G)上浮的气体的多个气体喷射口(16a)、以及、对从气体喷射口(16a)喷射的气体进行吸引的多个吸气口(16b)，多个气体喷射口(16a)和多个吸气口(16b)各自设置成，在沿着基板输送方向的既定距离内不沿着平行于基板输送方向的直线排列。

公开(公告)号：CN308920145S

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202330783752.X

申请日：2023-11-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 福冈哲夫 ,  境昌孝 ,  山崎刚 ,  道中悟志

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：处理用载体基板。
2.本外观设计产品的用途：本产品是用于承载例如多个芯片、半导体晶圆、玻璃基板等的载体。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
5.其他需要说明的情形其他说明：如参考图中A所示的位于产品底面的圆形部位均为贯通孔。

公开(公告)号：CN309218158S

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202430460051.7

申请日：2024-07-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 境昌孝 ,  三根阳介

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：处理用载体基板。
2.本外观设计产品的用途：本产品是用于承载例如多个芯片、半导体晶圆、玻璃基板等的载体。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
5.其他需要说明的情形其他说明：参考图3以及A部放大参考图中斜线所表示的部分是透明的。