光电转换装置的制造方法
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    发明公开

    公开(公告)号:CN101355116A

    公开(公告)日:2009-01-28

    申请号:CN200810130072.2

    申请日:2008-07-24

    IPC分类号: H01L31/18

    摘要: 本发明的目的在于在不降低堆积速度的同时在大面积衬底上生产率高地形成以500℃以下直接形成的优质的微晶半导体层,而提供一种将该结晶半导体层用作光电转换层的光电转换装置。对由并列设置的多个波导管、以及墙面包围的处理室供应包含氦的反应气体,在将所述处理室内的压力保持为大气压或准大气压的同时,对由并列设置的波导管夹住的空间供应微波来产生等离子体,来在装载于处理室内的衬底上堆积由微晶半导体构成的光电转换层。在并列设置的多个波导管的相对表面设置槽缝,通过该槽缝将微波供应到处理室内产生等离子体,来谋求实现等离子体的高密度化。将当产生该等离子体时的压力设定为大气压或者准大气压。

    玻璃的二氧化硅膜织构化

    公开(公告)号:CN1325550A

    公开(公告)日:2001-12-05

    申请号:CN99813034.6

    申请日:1999-11-08

    发明人: 季静佳 施正荣

    摘要: 一种薄膜硅太阳能电池被形成在涂敷有织构化层(32)的玻璃基底(11)上,该层包括混合有织构颗粒(34)的SiO2膜(33),织构颗粒的直径约为1-2μm,由此形成织构表面(39)。SiO2膜比织构颗粒的平均直径薄,使得石英穿过甩涂玻璃突出出来。此时电介质层提供势垒层功能,然而,可以选择采用具有与织构化表面(39)共形的上表面(35)的独立的抗反射膜(38)。如图所示,然后在抗反射膜(38)的织构化表面(35)上面形成硅膜(15)。该硅膜的厚度最好是0.5-2μm(也就是,厚度类似于SiO2层表面上提供的织构零件的尺寸)。尽管用这种方法制作的硅膜松散地与其下方的织构化表面共形,但该膜的相反表面至少在小尺度上基本上不平行,使得光通常以一定角度穿过硅膜到硅表面。更重要的是,光将时常以与表面(36)法线成较大角度,撞击硅膜的后表面(图中是上表面),使得对于大量的入射光,会发生内部全反射。表面(36)也可以用反射材料(40)(比如后部接触)来涂敷,以协助内部反射到达这个表面的光。