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公开(公告)号:CN1111216A
公开(公告)日:1995-11-08
申请号:CN94113361.3
申请日:1994-12-28
Applicant: 日本板硝子株式会社
IPC: C03C17/25
CPC classification number: C03C17/25 , C03C2217/217 , C03C2217/23 , C03C2218/112
Abstract: 本发明公开了一种热射线反射玻璃,它含有玻璃基底,在基底的表面上有含氧化钴和氧化镍的镀膜,所述镀膜的表面电阻率不小于104Ω/方,厚度不小于10nm,按每单位面积总金属含量重量计镀膜中的钴含量为60~90%,镍含量为10~40%。还可以含有1~30%选自钛、钒、铬、锰、铜和锆的至少一种金属氧化物,或1.0~4.5%的铁。其反射色调是绿色的。
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公开(公告)号:CN1809898A
公开(公告)日:2006-07-26
申请号:CN200480017096.7
申请日:2004-06-16
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: H01L31/022466 , C03C17/23 , C03C2217/211 , C03C2217/241 , H01L31/03921 , H01L31/1884 , H01L51/442 , H01L51/5206 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10T428/24942
Abstract: 本发明提供一种透明导电性基板,包括透明的基底、和在该基底上形成的导电性的金属氧化物膜,该金属氧化物膜含有锡和氟,在采用SIMS对该金属氧化物膜测定的深度方向分布图中,从氟的灵敏度相对于锡的灵敏度的比的最大值Imax中减去最小值Imin后得到的值为0.15以上,Imax比1大,Imin比1小,且显示Imax的位置比显示Imin的位置更靠近金属氧化物膜的表面。由此,本发明提供一种以良好的平衡性改善透光性和导电性的透明导电性基板。
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公开(公告)号:CN1101354C
公开(公告)日:2003-02-12
申请号:CN94113361.3
申请日:1994-12-28
Applicant: 日本板硝子株式会社
IPC: C03C17/25
CPC classification number: C03C17/25 , C03C2217/217 , C03C2217/23 , C03C2218/112
Abstract: 本发明公开了一种热射线反射玻璃,它含有玻璃基底,在基底的表面上有含氧化钴和氧化镍的镀膜,所述镀膜的表面电阻率不小于104Ω/方,厚度不小于10nm,按每单位面积总金属含量重量计镀膜中的钴含量为60~90%,镍含量为10~40%。还可以含有1~30%选自钛、钒、铬、锰、铜和锆的至少一种金属氧化物,或1.0~4.5%的铁。其反射色调是绿色的。
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公开(公告)号:CN1212671A
公开(公告)日:1999-03-31
申请号:CN97192794.4
申请日:1997-01-09
Applicant: 日本板硝子株式会社
IPC: C03C17/23
CPC classification number: C03C17/23 , C03C2217/211 , C03C2217/212 , C03C2217/23 , C03C2217/244
Abstract: 一种涂膜玻璃(1),它包含底层玻璃(3)和在其至少一侧上涂有一层由锡的氧化物、锑的氧化物和钛的氧化物形成的薄膜(2)。这种玻璃具有特别适用于建筑物的特性。
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公开(公告)号:CN101477846B
公开(公告)日:2011-01-12
申请号:CN200910006139.6
申请日:2004-11-18
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: H01L31/1884 , C03C15/00 , C03C17/22 , C03C2217/77 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y10T428/24975 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种带有透明导电膜的透明基体的制造方法,包括向透明基体上提供含有金属化合物、氧化原料以及氯化氢的原料气体并利用热分解氧化法在透明基体上形成以结晶性金属氧化物为主成分的透明导电膜的工序,上述工序按照顺序包括:在原料气体中氯化氢相对于金属化合物的摩尔比为0.5~5的第1工序;上述摩尔比为2~10且大于第1工序中的上述摩尔比的第2工序。利用本发明,可以提供一种透明导电膜的厚度为300nm~750nm、模糊率(haze ratio)为15%以上的带有透明导电膜的透明基体。由此,本发明提供一种具有即使膜厚度薄也有高的表面凹凸不平的透明导电膜的透明基体。
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公开(公告)号:CN100495588C
公开(公告)日:2009-06-03
申请号:CN200480029503.6
申请日:2004-11-18
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: H01L31/1884 , C03C15/00 , C03C17/22 , C03C2217/77 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y10T428/24975 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种带有透明导电膜的透明基体的制造方法,包括向透明基体上提供含有金属化合物、氧化原料以及氯化氢的原料气体并利用热分解氧化法在透明基体上形成以结晶性金属氧化物为主成分的透明导电膜的工序,上述工序按照顺序包括:在原料气体中氯化氢相对于金属化合物的摩尔比为0.5~5的第1工序;上述摩尔比为2~10且大于第1工序中的上述摩尔比的第2工序。利用本发明,可以提供一种透明导电膜的厚度为300nm~750nm、模糊率(haze ratio)为15%以上的带有透明导电膜的透明基体。由此,本发明提供一种具有即使膜厚度薄也有高的表面凹凸不平的透明导电膜的透明基体。
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公开(公告)号:CN101477846A
公开(公告)日:2009-07-08
申请号:CN200910006139.6
申请日:2004-11-18
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: H01L31/1884 , C03C15/00 , C03C17/22 , C03C2217/77 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y10T428/24975 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种带有透明导电膜的透明基体的制造方法,包括向透明基体上提供含有金属化合物、氧化原料以及氯化氢的原料气体并利用热分解氧化法在透明基体上形成以结晶性金属氧化物为主成分的透明导电膜的工序,上述工序按照顺序包括:在原料气体中氯化氢相对于金属化合物的摩尔比为0.5~5的第1工序;上述摩尔比为2~10且大于第1工序中的上述摩尔比的第2工序。利用本发明,可以提供一种透明导电膜的厚度为300nm~750nm、模糊率(haze ratio)为15%以上的带有透明导电膜的透明基体。由此,本发明提供一种具有即使膜厚度薄也有高的表面凹凸不平的透明导电膜的透明基体。
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公开(公告)号:CN100423136C
公开(公告)日:2008-10-01
申请号:CN200480017096.7
申请日:2004-06-16
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: H01L31/022466 , C03C17/23 , C03C2217/211 , C03C2217/241 , H01L31/03921 , H01L31/1884 , H01L51/442 , H01L51/5206 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10T428/24942
Abstract: 本发明提供一种透明导电性基板,包括透明的基底、和在该基底上形成的导电性的金属氧化物膜,该金属氧化物膜含有锡和氟,在采用SIMS对该金属氧化物膜测定的深度方向分布图中,从氟的灵敏度相对于锡的灵敏度的比的最大值Imax中减去最小值Imin后得到的值为0.15以上,Imax比1大,Imin比1小,且显示Imax的位置比显示Imin的位置更靠近金属氧化物膜的表面。由此,本发明提供一种以良好的平衡性改善透光性和导电性的透明导电性基板。
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公开(公告)号:CN1864235A
公开(公告)日:2006-11-15
申请号:CN200480029503.6
申请日:2004-11-18
Applicant: 日本板硝子株式会社
CPC classification number: H01L31/1884 , C03C15/00 , C03C17/22 , C03C2217/77 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y10T428/24975 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种带有透明导电膜的透明基体的制造方法,包括向透明基体上提供含有金属化合物、氧化原料以及氯化氢的原料气体并利用热分解氧化法在透明基体上形成以结晶性金属氧化物为主成分的透明导电膜的工序,上述工序按照顺序包括:在原料气体中氯化氢相对于金属化合物的摩尔比为0.5~5的第1工序;上述摩尔比为2~10且大于第1工序中的上述摩尔比的第2工序。利用本发明,可以提供一种透明导电膜的厚度为300nm~750nm、模糊率(haze ratio)为15%以上的带有透明导电膜的透明基体。由此,本发明提供一种具有即使膜厚度薄也有高的表面凹凸不平的透明导电膜的透明基体。
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