光电元件及光电元件的形成方法

    公开(公告)号:CN1601758A

    公开(公告)日:2005-03-30

    申请号:CN200410090189.4

    申请日:2004-05-09

    CPC classification number: H01L31/0745 H01L31/0747 H01L31/076 Y02E10/548

    Abstract: 本发明提供光电元件及光电元件的形成方法。该光电元件,具有在基板上串联配置了第一pin结和第二pin结的结构,所述第一pin结的i型半导体层由非晶质硅构成,所述第二pin结的i型半导体层包含晶质硅,该光电元件在上述第一pin结的p/i界面中具有第一中间层,n/i界面中具有第二中间层,在上述第二pin结的p/i界面中具有第三中间层,n/i界面中具有第四中间层,上述第二中间层和第三中间层由非晶质硅构成,且上述第一中间层和第四中间层包含晶质硅,或者,上述第二中间层和第三中间层包含晶质硅,且上述第一中间层和第四中间层由非晶质硅构成。

    形成微晶硅系列薄膜的工艺和适于实施所述工艺的装置

    公开(公告)号:CN1147007C

    公开(公告)日:2004-04-21

    申请号:CN99105944.1

    申请日:1999-03-03

    CPC classification number: C23C16/545 C23C16/24 C23C16/509

    Abstract: 形成微晶硅系列薄膜的工艺包括:在真空室中与电极相对设置长衬底。同时纵向传送长衬底。使用具有50MHz-550MHz范围内的振荡频率的高频功率使电极和长衬底之间辉光放电在长衬底上淀积微晶硅系列薄膜,其中,作为所述电极的多个棒状电极如此设置,即它们垂直于所述长衬底的法线,并且它们与所述长衬底的间隔全部或部分地不同,本发明还公开了适于执行所述工艺的装置。

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