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公开(公告)号：CN1783425A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510103815.3
申请日：2005-07-29
Applicant: 东京応化工业株式会社
Inventor： 中村彰彦
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能与等离子处理装置处理速度匹配，还能提高其它处理装置的处理速度。盖基板处理装置具有一对基板盒(1、1)、输送装置(2)、一对清洗装置(供液装置)(3、3)、操作机械手(4)、冷却装置(5)、一对载置室(6、6)及一对灰化装置(等离子处理装置)(7、7)。冷却装置(5)包括冷却剂循环的冷却板(51)和将基板(W)载置于冷却板(51)上的升降支柱(52)，特别是冷却板(51)是上下两个层的，所述升降支柱(52)插设于各冷却板(51)上的通孔(53)中，而且各升降支柱(52)安装在共同的支撑部件(54)上，驱动气缸使支撑部件(54)升降，由此同时使两个基板(W)升降移动。而且，由罩(31)和夹子(32)构成的清洗装置(3)也可以与冷却装置(5)一样是多层式的。
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公开(公告)号：CN1751272A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200480004780.1
申请日：2004-02-20
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种设置在抗蚀膜上的液浸曝光工序用抗蚀保护膜形成用材料、由上述材料形成的保护膜及具有抗蚀膜的复合膜、及使用上述膜的抗蚀图案形成方法，上述材料具有下述特性：对曝光光线透明，实质上不溶于液浸曝光用的液体，且在上述抗蚀膜之间不发生混合，由此能够同时防止液浸曝光中的抗蚀膜的变质及使用液体的变质，使用液浸曝光形成高清晰度的抗蚀图案。
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公开(公告)号：CN1721990A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200510080926.7
申请日：2005-06-24
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/032
Abstract: 本发明目的是提供一种无机粉末的分散性高、能形成膜厚均匀的涂膜、且能抑制烧结后的收缩的片材形成用组合物、该片材形成用组合物的制造方法、以及显示屏制造用片材状未烧结体。本发明的片材形成用组合物含有(A)粘合剂树脂、(B)无机粉末、和(C)溶剂，所述粘合剂树脂是至少(i)有羟基的聚合性单体、(ii)用CH2＝CR－COOCmH2m+1(R表示氢原子或烷基，m表示6以上的整数)表示的聚合性单体和(iii)用 CH2＝CR－COOCnH2n+1(R表示氢原子或烷基，n表示4以下的整数)表示的聚合性单体的共聚物。
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公开(公告)号：CN1710468A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200510078563.3
申请日：2005-06-17
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G02F1/133 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种能可靠地防止大型玻璃基板的端缘部的挠曲的基板端缘部覆膜的除去装置。使基板保持部(2)的轴(4)伸长来使夹具(3)上升，在该上升位置上接取基板(W)。在该状态下，由于自重，基板(W)的周边部向下方挠曲。接着，收缩轴(4)使夹具下降直到与杆部件(17)的上表面同面。于是，基板(W)的周缘部下表面由杆部件(17)支承，基板(W)保持在水平状态下。此时，在清洗组件(10)的狭缝(11)内，利用表面张力保持着清洗液(溶剂)。从这一状态开始，使左右的清洗组件(10)前进，将基板(W)的端缘部插入到清洗组件(10)的狭缝(11)内。
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公开(公告)号：CN1701860A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510081789.9
申请日：2005-05-20
Applicant: 东京応化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供了一种能有效对加注辊进行粗洗和精洗的狭缝涂布机预备排出装置。附着有涂布液的加注辊向顺时针方向旋转，淋洗嘴向加注辊表面供给循环液，再用涂刷器刮落，潜入储存的洗涤液中，用第二个涂刷器刮落顽固的附着物。最后，用新液淋洗嘴冲洗干净，在新液淋洗嘴的上方，从干燥气体喷嘴中吹出干燥气体，吹开洗涤液，使加注辊的表面干燥。因这时也进行排气，排气也能促进干燥。
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公开(公告)号：CN1690853A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200510071704.9
申请日：2005-04-26
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/027 , Y10S430/106 , Y10S430/114
Abstract: 一种可得到具有平衡的防喷砂性能和显影性能的干膜的光敏性树脂组合物。含有酸值小于10mgKOH/g、每分子含有两个或多个(甲基)丙烯酰基的含有羧基的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，碱性可溶聚合物化合物，光致聚合引发剂和在其结构中包括由式(I)表示的结构单元的可光致聚合化合物(D)的光敏性树脂组合物可得到优良平衡的性能。
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公开(公告)号：CN1683487A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200510051838.4
申请日：2005-01-21
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: C11D7/28 , H01L21/302 , G03F7/42
CPC classification number: C11D7/10 , C11D7/264 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , C23G1/125 , C23G1/22 , G03F7/423 , G03F7/426
Abstract: 提供一种剥离洗涤液，其不会过度腐蚀金属布线图案的侧壁和形成布线上面的金属层，能够良好地剥离布线上面的难剥离性堆积物。该剥离洗涤液的特征在于，至少含有氟化合物、水溶性有机溶剂、水以及相对于总量0.1～20质量％的二齿配体。或者，其特征在于，至少含有碱性水溶液、选自具有羧基的有机化合物及其酸酐中的至少一种、水以及相对于总量0.5～10质量％的二齿配体。
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公开(公告)号：CN1680045A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN200510006324.7
申请日：2005-01-26
Applicant: 新STI科技株式会社 , 东京応化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种单张涂膜形成装置以及单张涂膜形成方法，其不会产生涂膜的膜厚、色度及/或光学浓度的离散，且可以在板状被处理物上形成预定膜厚、色度及/或光学浓度。本发明的单张涂膜形成装置包括：由狭缝喷嘴向板状被处理物的表面供给涂布液的涂布装置、对涂布在前述板状被处理物的表面上的涂布液进行干燥的减压干燥装置、对前述干燥后的涂布液进行加热的加热装置，在单张涂膜形成装置中设置测定装置，对由前述加热装置加热后的前述板状被处理物的膜厚、色度及/或光学浓度进行测定，并将其测定结果转送给前述涂布装置。
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公开(公告)号：CN1672806A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN200510067722.X
申请日：2005-03-24
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 本发明的目的是提供一种狭缝喷嘴调整装置和使用所述调整装置的狭缝喷嘴调整方法，不发生狭缝喷嘴清洗不均匀，而且能够节约清洗液，结构紧凑。开有所定宽度的涂敷液喷出口的狭缝喷嘴前端的调整装置由清洗狭缝喷嘴的浸渍式清洗部、干燥清洗后的喷嘴的干燥部及调整狭缝喷嘴的喷出口的预混合部构成，而且设置在同一装置上。浸渍式清洗部在超过一定时间不使用狭缝喷嘴时兼作干燥防止部，保持浸渍狭缝喷嘴的前端。
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公开(公告)号：CN1389907A
公开(公告)日：2003-01-08
申请号：CN02121528.6
申请日：2002-04-30
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: H01L21/316
CPC classification number: H01L21/31116 , H01L21/316 , H01L21/76802
Abstract: 提供一种在湿剥离光刻胶图案时SiO2涂层(夹层绝缘膜)不易受损伤的涂层处理方法。将在衬底上形成的低介电系数的SiO2类涂层,通过光刻胶图案进行蚀刻处理后,利用由氦气所产生的等离子体来处理上述的经蚀刻处理后的SiO2类涂层。通过这一方法,在后工序进行光刻胶图案的湿剥离处理时,不仅不会损伤到SiO2类涂层,而且可维持较低的介电系数。
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