公开(公告)号：CN1428658A

公开(公告)日：2003-07-09

申请号：CN02160473.8

申请日：2002-12-27

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 中村彰彦 ,  宫成淳

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027

Abstract: 一种可缩短厚膜抗蚀剂的显影时间，而且可对大型被处理物进行显影的紧凑的显影装置及显影方法。本发明的显影装置是通过热交换器一边对从显影液供给罐供给的显影液进行温度调节、一边将其供给到显影槽的显影装置，将被处理物纵向保持在上述显影槽内，进行单张处理，并且，边使经过温度调节的显影液在显影装置内循环、边进行显影处理。

公开(公告)号：CN100433247C

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：CN200510103815.3

申请日：2005-07-29

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 中村彰彦

IPC: H01L21/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能与等离子处理装置处理速度匹配，还能提高其它处理装置的处理速度。盖基板处理装置具有一对基板盒(1、1)、输送装置(2)、一对清洗装置(供液装置)(3、3)、操作机械手(4)、冷却装置(5)、一对载置室(6、6)及一对灰化装置(等离子处理装置)(7、7)。冷却装置(5)包括冷却剂循环的冷却板(51)和将基板(W)载置于冷却板(51)上的升降支柱(52)，特别是冷却板(51)是上下两个层的，所述升降支柱(52)插设于各冷却板(51)上的通孔(53)中，而且各升降支柱(52)安装在共同的支撑部件(54)上，驱动气缸使支撑部件(54)升降，由此同时使两个基板(W)升降移动。而且，由罩(31)和夹子(32)构成的清洗装置(3)也可以与冷却装置(5)一样是多层式的。

公开(公告)号：CN1783425A

公开(公告)日：2006-06-07

申请号：CN200510103815.3

申请日：2005-07-29

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 中村彰彦

IPC: H01L21/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能与等离子处理装置处理速度匹配，还能提高其它处理装置的处理速度。盖基板处理装置具有一对基板盒(1、1)、输送装置(2)、一对清洗装置(供液装置)(3、3)、操作机械手(4)、冷却装置(5)、一对载置室(6、6)及一对灰化装置(等离子处理装置)(7、7)。冷却装置(5)包括冷却剂循环的冷却板(51)和将基板(W)载置于冷却板(51)上的升降支柱(52)，特别是冷却板(51)是上下两个层的，所述升降支柱(52)插设于各冷却板(51)上的通孔(53)中，而且各升降支柱(52)安装在共同的支撑部件(54)上，驱动气缸使支撑部件(54)升降，由此同时使两个基板(W)升降移动。而且，由罩(31)和夹子(32)构成的清洗装置(3)也可以与冷却装置(5)一样是多层式的。

公开(公告)号：CN1262889C

公开(公告)日：2006-07-05

申请号：CN02160473.8

申请日：2002-12-27

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 中村彰彦 ,  宫成淳

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027

Abstract: 一种可缩短厚膜抗蚀剂的显影时间，而且可对大型被处理物进行显影的紧凑的显影装置及显影方法。本发明的显影装置是通过热交换器一边对从显影液供给罐供给的显影液进行温度调节、一边将其供给到显影槽的显影装置，将被处理物纵向保持在上述显影槽内，进行单张处理，并且，边使经过温度调节的显影液在显影装置内循环、边进行显影处理。