一种用于处理基底的设备

    公开(公告)号:CN101631641B

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN200880004568.3

    申请日:2008-01-30

    IPC分类号: H01L21/268 B23K26/00

    CPC分类号: B23K26/0738

    摘要: 一种被配置来处理基底的薄光束结晶系统,包括被配置来产生激光的激光器,所述激光器被配置为具有高能模式和低能模式。所述高能模式被配置来产生足以完全熔融以非晶硅膜包覆的基底的光能,而所述低能模式被配置来产生不足以完全熔融以非晶硅膜包覆的基底的光能。所述系统还包括:光束整形光学系统,所述光束整形光学系统耦合到所述激光器并且被配置来将从所述激光器发出的激光转换为具有短轴和长轴的长而薄的光束;工作台,所述工作台被配置来支撑所述基底和膜;以及耦合到所述工作台的平移器,所述平移器被配置来推进所述基底和膜,从而产生与所述激光器的发射相协同的步长。

    激光退火装置及激光退火方法

    公开(公告)号:CN103021826A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210364083.3

    申请日:2012-09-26

    IPC分类号: H01L21/268 B23K26/06

    摘要: 本发明提供一种激光退火装置及激光退火方法。一般的脉冲波形从振荡开始时刻开始急剧上升,显示出峰值后缓慢降低。在功率显示峰值的时刻,退火对象物的表面被急剧加热而成为高温。由于显示峰值的时间为一瞬间,因此很难对退火对象物的较深区域进行充分的加热。本发明的激光退火装置,当输入脉冲电流时,从激光二极管射出激光脉冲。光学系统将从激光二极管射出的激光束导光至退火对象物。驱动器向激光二极管供给具有顶部平坦的时间波形且脉冲宽度为1μs~100μs的脉冲电流。

    激光退火方法以及装置
    48.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101911256B

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN200880124168.6

    申请日:2008-05-30

    申请人: 株式会社IHI

    IPC分类号: H01L21/268 H01L21/20

    摘要: 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下,一边使长轴用透镜阵列(20a、20b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(X方向)往复移动,一边进行激光照射,由此,入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(长轴用聚光透镜22)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化,所以,纵向条纹被大幅度降低。另外,一边使短轴用透镜阵列(26a、26b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(Y方向)往复移动,一边进行激光照射,由此,入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(投影透镜30)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化,所以,横向条纹被大幅度降低。