公开(公告)号：CN101911256A

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200880124168.6

申请日：2008-05-30

申请人： 株式会社IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M·正木 ,  森田胜

IPC分类号： H01L21/268 ,  H01L21/20

CPC分类号： B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

摘要： 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列(20a、20b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(X方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(长轴用聚光透镜22)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列(26a、26b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(Y方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(投影透镜30)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN102513701B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201210017054.X

申请日：2008-05-30

申请人： 株式会社IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC分类号： H01L21/268

CPC分类号： B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

摘要： 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN104835725A

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201510198987.7

申请日：2008-05-30

申请人： 株式会社IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC分类号： H01L21/268 ,  B23K26/073 ,  B23K26/04

CPC分类号： B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268 ,  B23K26/08

摘要： 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN102513701A

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN201210017054.X

申请日：2008-05-30

申请人： 株式会社IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC分类号： B23K26/073 ,  B23K26/04 ,  H01L21/268

CPC分类号： B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

摘要： 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN102077322A

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：CN200980125234.6

申请日：2009-06-17

申请人： 株式会社IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  伊泽淳 ,  M正木 ,  森田胜

IPC分类号： H01L21/268 ,  H01L21/20

CPC分类号： H01L21/268 ,  B23K26/0853 ,  B23K26/127 ,  B23K26/128 ,  B23K26/147 ,  B23K26/702 ,  B23K2103/56 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02675 ,  H01L21/67115

摘要： 提供一种激光退火装置，能够减少惰性气体的温度的波动引起的激光的折射现象导致的激光的照射不均。激光退火装置（1）具备：气体供给装置（10），至少对被处理体（7）中的激光照射区域供给惰性气体（G）；以及气体温度调整装置（15），调整惰性气体（G）的温度。气体温度调整装置（15）对被供给到激光照射区域的惰性气体（G）的温度进行调整，使得惰性气体（G）的温度与惰性气体供给区域的外侧的包围激光的光路的空间（房间R）的气氛温度的温度差变小。

公开(公告)号：CN102057467B

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN200880129715.X

申请日：2008-06-12

申请人： 株式会社IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜 ,  芳之内淳

IPC分类号： H01L21/268

CPC分类号： B23K26/0732 ,  B23K26/046 ,  B23K26/0665 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0966 ,  G02B27/48 ,  H01L21/02678

摘要： 在使用了固体激光的激光退火中，能够容易地对应于半导体膜的激光照射部分的位置变动，对矩形光束的短轴方向的焦点位置进行补正。使用将入射光在短轴方向聚光的短轴用聚光透镜（29）、和将来自该短轴用聚光透镜（29）的出射光投影到上述半导体膜（3）的表面的投影透镜（30），使激光（1）在半导体膜（3）的表面在矩形光束的短轴方向聚光。以位置变动检测器（31）检测出半导体膜（3）的激光照射部分在该半导体膜的垂直方向的位置变动，基于该检测值使短轴用聚光透镜（29）在光轴方向移动。

公开(公告)号：CN101911256B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200880124168.6

申请日：2008-05-30

申请人： 株式会社IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M·正木 ,  森田胜

IPC分类号： H01L21/268 ,  H01L21/20

CPC分类号： B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

摘要： 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列(20a、20b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(X方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(长轴用聚光透镜22)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列(26a、26b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(Y方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(投影透镜30)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN102077318B

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN200980124021.1

申请日：2009-06-19

申请人： 株式会社IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC分类号： H01L21/20 ,  H01L21/268

CPC分类号： H01L21/02678 ,  B23K26/066 ,  B23K26/0738 ,  C30B1/023 ,  C30B29/06

摘要： 本发明提供一种在激光的长轴方向的接缝部不会损害结晶性的均匀性，能够在基板整个面形成不能以目视确认接缝部的程度的良好的、均匀性高的结晶性半导体薄膜的激光退火方法及装置。在线状光束的照射中，通过配置在激光（2）的光路上的遮挡体（10），遮蔽与线状光束的端部对应的部分，以遮蔽量周期地增减的方式使遮挡体（10）工作。

公开(公告)号：CN101356624A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200680050867.1

申请日：2006-11-07

申请人： 株式会社IHI

发明人： 西田健一郎 ,  川上隆介 ,  河口纪仁 ,  正木深雪

IPC分类号： H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

CPC分类号： B23K26/0738 ,  B23K26/0608 ,  B23K26/067 ,  B23K26/0732 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1285

摘要： 本发明涉及激光退火方法以及激光退火装置。在本发明中，使照射到非晶半导体膜(非晶硅等)上的矩形光束短轴方向的能量分布均匀。利用柱面透镜阵列(26)或波导(36)以及聚光光学系统(28，44)、或者利用包含衍射光学元件的光学系统，能够使矩形光束短轴方向的能量分布均匀。根据本发明，被照射到非晶半导体薄膜上的有效能量范围变宽，并且能够加速基板(3)的搬送速度，从而提高激光退火处理能力。

公开(公告)号：CN104882371A

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201510199238.6

申请日：2008-05-30

申请人： 株式会社IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC分类号： H01L21/268 ,  B23K26/073 ,  B23K26/04

CPC分类号： B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

摘要： 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。