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公开(公告)号：CN113677825B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202080027992.0
申请日：2020-02-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的实施方式总体涉及在沉积、蚀刻和/或固化工艺期间利用掩模来处理含有基板的工件，以在工件上具有局部的沉积。将掩模放置在工件的第一层上，所述掩模保护复数个沟槽免受第二层的沉积的影响。在一些实施方式中，在第二层的沉积之前放置掩模。在其他实施方式中，在沉积掩模之前使第二层固化。在其他实施方式中，在沉积掩模之后蚀刻第二层。本文中所公开的方法允许在工件中所存在的沟槽中的一些中沉积第二层，而同时至少部分地防止在工件中所存在的其他沟槽中沉积第二层。
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公开(公告)号：CN111480262B
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN201880081384.0
申请日：2018-11-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 韦恩·麦克米兰 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 罗伯特·简·维瑟
Abstract: 本文所描述的实施方式涉及用于制造波导组合器的方法。所述方法提供波导组合器，所述波导组合器具有限定精细光栅的由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域。在一个实施方式中，由压印印模形成波导结构，所述压印印模在设置在基板的表面上的抗蚀剂上具有正波导图案以形成负波导结构。将所述无机或混合材料沉积在所述基板上并然后移除所述抗蚀剂以形成具有与由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域中的至少一个相对应的区域的波导结构。
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公开(公告)号：CN112041710B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN201980028904.6
申请日：2019-02-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塔帕什里·罗伊 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 罗伯特·简·维瑟
Abstract: 本文描述的实施方式涉及具有亚波长尺寸的纳米结构的透反射滤光器。在一个实施方式中，所述透反射滤光器包括膜堆叠，所述膜堆叠透射一波长范围内的过滤光，并反射不在第一波长范围内的光。所述膜堆叠包括：第一金属膜，设置在基板上，具有第一厚度；第一介电膜，设置在所述第一金属膜上，具有第二厚度；第二金属膜，设置在所述第一介电膜上，具有第三厚度；和第二介电膜，设置在所述第二金属膜上，具有第四厚度。
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公开(公告)号：CN113677952A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027552.5
申请日：2020-04-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 傅晋欣 , 王诣斐 , 伊恩·马修·麦克马金 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φmax将具有波长λlaser的光束投射到第一基板的第一区域；获得位移角Δθ；确定目标最大光束角θt‑max，其中θt‑max＝θ0+Δθ，并通过经修改的光栅间距公式Pt‑grating＝λlaser/(sinθt‑max+sinθ0)确定测试光栅间距Pt‑grating。该测量系统和方法允许测量光学元件的区域的非均匀特性，例如光栅间距和光栅取向。
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公开(公告)号：CN113227859A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980083890.8
申请日：2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
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公开(公告)号：CN112368639A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980040608.8
申请日：2019-06-27
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卢多维克·戈代 , 韦恩·麦克米兰 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G03F7/00 , G03F7/20 , G03F1/80 , H01L21/033 , H01L21/02 , H01L21/306
Abstract: 本文讨论的系统与方法用于衍射光栅(诸如在波导组合器中使用的那些光栅)的制造。本文讨论的波导组合器是使用高折射率与低折射率材料的纳米压印光刻(NIL)结合高折射率与低折射率材料的定向蚀刻来制造的。波导组合器可额外地或替代地通过定向蚀刻透明基板来形成。包括本文讨论的衍射光栅的波导组合器可直接地形成在永久透明基板上。在其他示例中，衍射光栅可形成在临时基板上并转移至永久、透明基板。
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公开(公告)号：CN112020770A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201980028149.1
申请日：2019-02-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/768 , H01L21/027 , H01L21/52 , H01L33/00 , H01L27/146 , G03F7/00
Abstract: 此处系统及方法相关于使用硅晶圆、玻璃、或如基板的装置来形成光学装置，所述光学装置包含堆叠的光学元件层。可在暂时或永久基板上制造此处所讨论的光学元件。在一些范例中，制造光学装置以包含透明基板或装置，所述装置包含电荷耦合装置(CCD)、或互补式金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器、发光二极管(LED)、微LED(uLED)显示器、有机发光二极管(OLED)或垂直腔表面发光激光器(VCSEL)。光学元件可在光学元件层之间形成夹层，夹层的厚度范围可为1nm至3mm。
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公开(公告)号：CN111480262A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201880081384.0
申请日：2018-11-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 韦恩·麦克米兰 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 罗伯特·简·维瑟
Abstract: 本文所描述的实施方式涉及用于制造波导组合器的方法。所述方法提供波导组合器，所述波导组合器具有限定精细光栅的由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域。在一个实施方式中，由压印印模形成波导结构，所述压印印模在设置在基板的表面上的抗蚀剂上具有正波导图案以形成负波导结构。将所述无机或混合材料沉积在所述基板上并然后移除所述抗蚀剂以形成具有与由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域中的至少一个相对应的区域的波导结构。
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公开(公告)号：CN117387912B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202311318201.1
申请日：2020-04-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 傅晋欣 , 王诣斐 , 伊恩·马修·麦克马金 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φmax将具有波长λlaser的光束投射到第一基板的第一区域；获得位移角Δθ；确定目标最大光束角θt‑max，其中θt‑max＝θ0+Δθ，并通过经修改的光栅间距公式Pt‑grating＝λlaser/(sinθt‑max+sinθ0)确定测试光栅间距Pt‑grating。该测量系统和方法允许测量光学元件的区域的非均匀特性，例如光栅间距和光栅取向。
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公开(公告)号：CN118891548A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202380027999.6
申请日：2023-03-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 唐浩 , 罗康 , 徐永安 , 安德鲁·塞巴洛斯 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B5/18
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及使用离散光栅组件和光学互连的方法的光学装置制造。在分离的供体基板上形成对应于光学装置的输入耦合光栅、中间光栅或输出耦合光栅的其中一者的离散光栅。供体基板被切割成单独的光栅并附着到光学装置基板。喷墨材料设置在光栅之间以光学地互连光学装置的部分。
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