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公开(公告)号：CN113906350A
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202080040885.1
申请日：2020-05-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 赛捷·托克·加勒特·多莎 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 陈建安 , 平克什·罗希特·沙阿
IPC: G03F7/42
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及制造光学装置的方法。此方法的一个实施方式包括在基板的表面上设置结构材料层和在结构材料层上方设置图案化光刻胶。图案化光刻胶具有至少一个装置部分与至少一个辅助部分。各装置部分与各辅助部分暴露结构材料层的未掩蔽部分。对应于各装置部分与各辅助部分的结构材料层的未掩蔽部分被蚀刻。蚀刻未掩蔽部分形成具有装置结构与至少一个辅助区的至少一个光学装置，该装置结构对应于至少一个装置部分的未掩蔽部分，该至少一个辅助区具有对应于至少一个辅助部分的未掩蔽部分的辅助结构。
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公开(公告)号：CN113677825A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027992.0
申请日：2020-02-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的实施方式总体涉及在沉积、蚀刻和/或固化工艺期间利用掩模来处理含有基板的工件，以在工件上具有局部的沉积。将掩模放置在工件的第一层上，所述掩模保护复数个沟槽免受第二层的沉积的影响。在一些实施方式中，在第二层的沉积之前放置掩模。在其他实施方式中，在沉积掩模之前使第二层固化。在其他实施方式中，在沉积掩模之后蚀刻第二层。本文中所公开的方法允许在工件中所存在的沟槽中的一些中沉积第二层，而同时至少部分地防止在工件中所存在的其他沟槽中沉积第二层。
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公开(公告)号：CN113574421A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202080020654.4
申请日：2020-04-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卢多维克·戈代 , 陈建安 , 布莱恩·亚历山大·科恩 , 韦恩·麦克米兰 , 伊恩·马修·麦克马金
Abstract: 提供制造光学装置的多深度层的图案化的方法。在一个实施方式中，提供一种方法，包括在装置层之上设置抗蚀剂层，装置层设置于基板的顶表面之上，装置层具有第一部分和第二部分；图案化抗蚀剂层，以形成具有多个第一开口的第一抗蚀剂层图案和具有多个第二开口的第二抗蚀剂层图案；和蚀刻由多个第一开口和多个第二开口限定的装置层的暴露部分，其中多个第一开口被配置成在光学装置内形成多个第一结构的至少一部分，且多个第二开口被配置成在光学装置内形成多个第二结构的至少一部分。
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公开(公告)号：CN117413208A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202280019598.1
申请日：2022-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: G02B1/12
Abstract: 本文所述的实施方式涉及具有涂覆层的平面光学装置，所述涂覆层包括单层，所述单层选自由以下项组成的组：二硫化钼(MoS2)、二硫化钨(WS2)、二硒化钨(WSe2)、二硒化钼(MoSe2)、二碲化钼(MoTe2)、二硫化钛(TiS2)、二硫化锆(ZrS2)、二硒化锆(ZrSe2)、二硫化铪(HfS2)、二硫化铂(PtS2)、二硫化锡(SnS2)或它们的组合。所述涂覆层设置在所述光学装置的多个光学装置结构之上。所述单层可在材料之间交替以形成所述涂覆层或可以是单一材料的均匀涂覆层。所述涂覆层设置在所述多个光学装置结构中的每个光学装置结构之上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113677825B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202080027992.0
申请日：2020-02-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的实施方式总体涉及在沉积、蚀刻和/或固化工艺期间利用掩模来处理含有基板的工件，以在工件上具有局部的沉积。将掩模放置在工件的第一层上，所述掩模保护复数个沟槽免受第二层的沉积的影响。在一些实施方式中，在第二层的沉积之前放置掩模。在其他实施方式中，在沉积掩模之前使第二层固化。在其他实施方式中，在沉积掩模之后蚀刻第二层。本文中所公开的方法允许在工件中所存在的沟槽中的一些中沉积第二层，而同时至少部分地防止在工件中所存在的其他沟槽中沉积第二层。
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公开(公告)号：CN113227859A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980083890.8
申请日：2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
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公开(公告)号：CN113227859B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN201980083890.8
申请日：2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
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公开(公告)号：CN115176205A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202180016687.6
申请日：2021-01-22
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/20 , G03F7/09 , H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/308
Abstract: 本公开内容的多个方面一般涉及处理诸如玻璃基板等透明基板的方法和设备。在一个实施方式中，用于光学组件的膜堆叠物包括玻璃基板，玻璃基板包括第一表面和第二表面。膜堆叠物包括：形成于第一表面上的组件功能层；形成于组件功能层上的硬模层；和形成于硬模层上的基板识别层。硬模层包括铬、钌或氮化钛中的一种或多种。膜堆叠物包括：形成于第二表面上的背侧层。形成于第二表面上的背侧层包括导电层或氧化物层中的一个或多个。
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