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公开(公告)号：CN118891548A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202380027999.6
申请日：2023-03-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 唐浩 , 罗康 , 徐永安 , 安德鲁·塞巴洛斯 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B5/18
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及使用离散光栅组件和光学互连的方法的光学装置制造。在分离的供体基板上形成对应于光学装置的输入耦合光栅、中间光栅或输出耦合光栅的其中一者的离散光栅。供体基板被切割成单独的光栅并附着到光学装置基板。喷墨材料设置在光栅之间以光学地互连光学装置的部分。
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公开(公告)号：CN115516374A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202180029852.1
申请日：2021-02-23
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/00 , C23C16/04 , C23C16/40 , C23C16/455
Abstract: 本公开内容的多个实施方式一般涉及致密纳米压印膜和用于制作这些致密纳米压印膜的工艺，和含有致密纳米压印膜的光学装置。在一个或多个实施方式中，致密纳米压印膜含有基底纳米压印膜和设置在基底纳米压印膜上和纳米颗粒之间的金属氧化物。基底纳米压印膜含有纳米颗粒，其中纳米颗粒含有氧化钛、氧化锆、氧化铌、氧化钽、氧化铪、氧化铬、铟锡氧化物、氮化硅或它们的任何组合。金属氧化物含有氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化铌、氧化钽、氧化铟、铟锡氧化物、氧化铪、氧化铬、氧化钪、氧化锡、氧化锌、氧化钇、氧化镨、氧化镁、氧化硅、氮化硅、氧氮化硅或它们的任何组合。
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公开(公告)号：CN115698369A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180039600.7
申请日：2021-06-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 安德鲁·塞巴洛斯 , 卢多维克·戈代 , 卡尔·J·阿姆斯特朗 , 拉米·胡拉尼
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及用于光学器件制造的方法及材料。更具体而言，本文描述的实施方式提供了光学膜沉积方法及材料，其经由通过在沉积期间抑制光学材料的晶体生长来掺入掺杂原子，从而扩大非晶光学膜沉积的处理窗口。通过使非晶膜能够在更高温度下沉积，能够实现显著的成本节省及产量增加。
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公开(公告)号：CN115485619A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202180029867.8
申请日：2021-02-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/00 , C23C16/04 , C23C16/40 , C23C16/455
Abstract: 本公开内容的多个实施方式一般涉及光学致密的纳米压印膜和用于制作这些光学致密的纳米压印膜的工艺，以及含有光学致密的纳米压印膜的光学装置。在一个或多个实施方式中，一种形成纳米压印膜的方法包括将含有多孔纳米压印膜的基板定位在处理腔室内，其中多孔纳米压印膜含有纳米颗粒和在纳米颗粒之间的孔洞，且多孔纳米压印膜具有小于2的折射率。该方法亦包括在原子层沉积(ALD)工艺期间将金属氧化物沉积在多孔纳米压印膜上和孔洞的至少一部分内以产生光学致密的纳米压印膜。
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公开(公告)号：CN117413208A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202280019598.1
申请日：2022-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: G02B1/12
Abstract: 本文所述的实施方式涉及具有涂覆层的平面光学装置，所述涂覆层包括单层，所述单层选自由以下项组成的组：二硫化钼(MoS2)、二硫化钨(WS2)、二硒化钨(WSe2)、二硒化钼(MoSe2)、二碲化钼(MoTe2)、二硫化钛(TiS2)、二硫化锆(ZrS2)、二硒化锆(ZrSe2)、二硫化铪(HfS2)、二硫化铂(PtS2)、二硫化锡(SnS2)或它们的组合。所述涂覆层设置在所述光学装置的多个光学装置结构之上。所述单层可在材料之间交替以形成所述涂覆层或可以是单一材料的均匀涂覆层。所述涂覆层设置在所述多个光学装置结构中的每个光学装置结构之上。
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公开(公告)号：CN116157547A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202180059409.9
申请日：2021-07-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 安德鲁·塞巴洛斯 , 卢多维克·戈代 , 卡尔·J·阿姆斯特朗 , 拉米·胡拉尼
IPC: C23C14/34
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及光学装置膜和形成光学装置膜的方法。具体地，本文所描述的实施方式提供了一种具有恒定氧浓度、第一材料的第一浓度分布和第二材料的第二浓度分布的光学装置膜。本文所描述和提及的第一材料的第一折射率为约2.0或更大，并且第二材料的第二折射率为小于2.0。
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