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公开(公告)号：CN117387912A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311318201.1
申请日：2020-04-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 傅晋欣 , 王诣斐 , 伊恩·马修·麦克马金 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φmax将具有波长λlaser的光束投射到第一基板的第一区域；获得位移角Δθ；确定目标最大光束角θt‑max，其中θt‑max＝θ0+Δθ，并通过经修改的光栅间距公式Pt‑grating＝λlaser/(sinθt‑max+sinθ0)确定测试光栅间距Pt‑grating。该测量系统和方法允许测量光学元件的区域的非均匀特性，例如光栅间距和光栅取向。
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公开(公告)号：CN113169116A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980078544.0
申请日：2019-09-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 奥姆卡尔姆·纳兰姆苏 , 卢多维克·戈代 , 王诣斐 , 傅晋欣
IPC: H01L21/768 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/306
Abstract: 本公开内容提供图案化装置(例如，半导体装置)的金属层的方法，以在互连层中形成特征，此方法作为用于制造装置的互连结构的处理的一部分。所披露的方法说明具有改善选择性的图案化钼层的处理。例如，本公开内容提供藉由退火或蚀刻改性和移除钼层的区域的方法，而不损坏其他装置结构或材料。
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公开(公告)号：CN113677952A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027552.5
申请日：2020-04-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 傅晋欣 , 王诣斐 , 伊恩·马修·麦克马金 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φmax将具有波长λlaser的光束投射到第一基板的第一区域；获得位移角Δθ；确定目标最大光束角θt‑max，其中θt‑max＝θ0+Δθ，并通过经修改的光栅间距公式Pt‑grating＝λlaser/(sinθt‑max+sinθ0)确定测试光栅间距Pt‑grating。该测量系统和方法允许测量光学元件的区域的非均匀特性，例如光栅间距和光栅取向。
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公开(公告)号：CN114556409A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080071132.7
申请日：2020-09-14
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容之实施方式包括裸片系统与比较对准向量的方法。该裸片系统包括以期望图案排列的多个裸片。能够从该裸片的边缘特征确定对准向量，诸如裸片向量。这些对准向量能够与相同系统中的其他裸片或裸片图案比较。一种比较裸片与裸片图案的方法包括：比较裸片向量和/或图案向量。对准向量之间的比较允许为下一轮的处理固定裸片图案。所提供的方法允许刚沉积的边缘特征之间的准确比较，使得能够实现准确的裸片拼接。
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公开(公告)号：CN117387912B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202311318201.1
申请日：2020-04-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 傅晋欣 , 王诣斐 , 伊恩·马修·麦克马金 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φmax将具有波长λlaser的光束投射到第一基板的第一区域；获得位移角Δθ；确定目标最大光束角θt‑max，其中θt‑max＝θ0+Δθ，并通过经修改的光栅间距公式Pt‑grating＝λlaser/(sinθt‑max+sinθ0)确定测试光栅间距Pt‑grating。该测量系统和方法允许测量光学元件的区域的非均匀特性，例如光栅间距和光栅取向。
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公开(公告)号：CN114364948B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202080064098.0
申请日：2020-08-25
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的实施方式包括测量系统和光栅图案阵列。测量系统包括多个子系统，用于产生基板上的光栅区域的衍射图案或放大现实图像。测量系统配置为反射和透射光，且经反射和经透射的光束产生衍射图案和放大的图像。衍射图案和图像提供有关光栅区域的光栅间距和角度的信息。设置在基板上的光栅图案阵列包括主要区域和参考区域。参考区域用于定位对应的主要区域。测量系统不包括旋转台，且因此不需要精确控制台的旋转。
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公开(公告)号：CN114364948A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202080064098.0
申请日：2020-08-25
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的实施方式包括测量系统和光栅图案阵列。测量系统包括多个子系统，用于产生基板上的光栅区域的衍射图案或放大现实图像。测量系统配置为反射和透射光，且经反射和经透射的光束产生衍射图案和放大的图像。衍射图案和图像提供有关光栅区域的光栅间距和角度的信息。设置在基板上的光栅图案阵列包括主要区域和参考区域。参考区域用于定位对应的主要区域。测量系统不包括旋转台，且因此不需要精确控制台的旋转。
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