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公开(公告)号：CN107024790B
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201710059370.6
申请日：2017-01-24
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , H01L21/67 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供能够抑制污渍的产生的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备：处理室(10)，具有作为顶棚起作用的顶棚罩(11)；以及槽(12)，设置在该处理室(10)内，承接从顶棚罩(11)落下的液滴。顶棚罩(11)形成为具有山部和谷部的形状，顶棚罩(11)的谷部沿着一个方向延伸，槽(12)被设置为沿着谷部的延伸方向延伸。
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公开(公告)号：CN110620062A
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201910514154.5
申请日：2019-06-14
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 提供一种能够使基板品质提高的基板检测装置及基板处理装置。有关实施方式的基板检测装置(40)具备：基部(41)；摆动部件(42)，以摆动支点轴(42a)为中心摆动自如地安装于基部(41)；检测辊(43)，设置在摆动部件(42)的一端部，与被输送来的基板碰抵而被推下；以及检测传感器(45)，如果检测辊(43)碰抵在基板上而被推下、并以摆动支点轴(42a)为中心移动，则输出表示检测到基板的检测信号；摆动支点轴(42a)与基板输送方向(A1)平行。
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公开(公告)号：CN110391132A
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201910293044.0
申请日：2019-04-12
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机膜形成装置，其对涂布有含有有机材料和溶剂的溶液的基板进行热损失较少且蓄热效率较高的加热，能够形成有机膜。具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；排气部，可对所述腔的内部进行排气；第1加热部，设置在所述腔的内部，具有第1加热器；第2加热部，具有第2加热器；第1均热板；第2均热板；溶液，含有涂布于所述基板的上面的有机材料和溶剂；处理区域，支撑有工件；及第1反射板，设置在所述腔的内部，所述第1均热板及所述第2均热板向所述处理区域侧放射从所述第1加热器及所述第2加热器射入的热，所述第1反射板向所述处理区域侧反射从所述第1加热器及所述第2加热器射入的热。
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公开(公告)号：CN105103268B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201480019122.3
申请日：2014-03-25
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/027 , G02F1/13 , G02F1/1333 , H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/10 , H01L21/02057 , H01L21/30604 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/67253 , H01L21/68714 , H01L22/12
Abstract: 实施方式的基板处理装置(1)具备：支承部(4)，在平面内支承基板(W)；旋转机构(5)，以与通过此支承部(4)支承的基板(W)的表面相交的轴作为旋转轴，使支承部(4)旋转；多个喷嘴(6a，6b和6c)，设置为从通过支承部(4)支承的基板(W)的中心向周缘排列，将处理液分别排出至通过旋转机构(5)而旋转的支承部(4)上的基板(W)的表面；控制部(9)，根据形成于通过旋转机构(5)而旋转的支承部(4)上的基板(W)的表面的处理液的液膜厚度，使多根喷嘴(6a，6b和6c)分别以不同的定时排出处理液。
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公开(公告)号：CN104898324B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201510097408.X
申请日：2015-03-05
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1337
Abstract: 提供接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法，能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性、并且能够形成均匀的液晶取向膜。有关实施方式的接液处理装置对由输送辊(1)输送的基板(W)从第1喷嘴(N1)供给乳酸乙酯液而形成液膜，对形成了该液膜的状态的基板从位于第1喷嘴(N1)的基板(W)输送方向下游侧的第2喷嘴(N2)供给乳酸乙酯液。第1喷嘴(N1)在喷嘴内包含将气泡除去的机构，第2喷嘴(N2)例如使用喷淋喷嘴等喷嘴。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103943539B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201410185437.7
申请日：2010-02-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
CPC classification number: H01L21/67051 , G02F1/1303 , G03F7/30 , H01L21/67017
Abstract: 具备：处理部(2)，被供给要通过处理液处理的基板；储液箱(1)，存储有处理液；供液管(3)以及回收管(28)，将储液箱的处理液供给到处理部而处理基板之后返回储液箱；以及除气装置(12)，设于供液管，将处理液中包含的气体除去。
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公开(公告)号：CN107024790A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710059370.6
申请日：2017-01-24
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , H01L21/67 , H01L21/02
CPC classification number: G02F1/1333 , H01L21/02041 , H01L21/02082 , H01L21/67017 , H01L21/6704 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供能够抑制污渍的产生的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备：处理室(10)，具有作为顶棚起作用的顶棚罩(11)；以及槽(12)，设置在该处理室(10)内，承接从顶棚罩(11)落下的液滴。顶棚罩(11)形成为具有山部和谷部的形状，顶棚罩(11)的谷部沿着一个方向延伸，槽(12)被设置为沿着谷部的延伸方向延伸。
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公开(公告)号：CN106997860A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201710047899.6
申请日：2017-01-20
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
CPC classification number: H01L21/6719 , B08B3/022 , H01L21/6704 , H01L21/67051
Abstract: 本发明提供能够抑制污点的产生的基板处理装置。实施方式所涉及的基板处理装置具备具有多个顶板(11a)的处理室(10)。各顶板(11a)设置为，层叠成瓦状并倾斜，在倾斜方向上邻接的两个顶板(11a)中的、高位置的顶板(11a)的低侧的端部(B1)覆盖低位置的顶板(11a)的高侧的端部(B2)，在低侧的端部(B1)与高侧的端部(B2)之间产生间隙。
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公开(公告)号：CN105826168A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201610046871.6
申请日：2016-01-25
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
CPC classification number: H01L21/02 , B08B3/02 , H01L21/67 , H01L21/67011
Abstract: 一种基板处理装置，能够抑制基板的抖动以及输送偏移。基板处理装置(1)具备：在处理室(2)内以夹着输送路(H)的方式在输送路的上下分别设置，分别朝输送路吹送气体的第1吹拂器(4a)以及第2吹拂器(4b)；以及设置在处理室内并对气体的流动进行整流的整流板(5)。第1吹拂器以及第2吹拂器设置成分别具有长条状的吹出口(13)，吹出口的长度方向在水平面内相对于基板(W)的输送方向(Ha)朝相同的方向倾斜，吹出口朝基板的输送方向的上游侧吹出气体。整流板设置成具有第1面(5a)以及其相反面即第2面(5b)，位于输送路的下方且朝基板的输送方向的下游侧倾倒，将气体的流动分成沿着第1面的流动和沿着第2面的流动。
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公开(公告)号：CN105785605A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201510810502.5
申请日：2015-11-20
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1303
Abstract: 提供一种基板处理装置，能够防止气泡的影响并且通过处理液良好地进行处理。实施方式的基板清洗装置(100)(基板处理装置的一个例子)从喷淋喷嘴(11)对由搬送机构(13)搬送的基板(W)供给清洗液(L)并进行清洗处理。第一回收配管(14)从清洗槽(10)的底部将在清洗处理使用后的清洗液(L)回收到罐(T)。第二回收配管(15)将在清洗工序中产生的气泡回收到罐(T)。在第二回收配管(15)具备强制地回收气泡的吸气器(16)。
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