公开(公告)号：CN104668217B

公开(公告)日：2017-07-28

申请号：CN201410679982.1

申请日：2014-11-24

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 手岛理惠 ,  矶明典 ,  滨田崇广 ,  坂下健司 ,  西部幸伸 ,  高原龙平

IPC: B08B1/00 ,  B08B11/00 ,  H01L21/67

Abstract: 提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。实施方式的基板处理装置，具备：与基板(W)上的防静电膜(Wa)的表面接触而相对移动、对该防静电膜(Wa)的表面进行擦拭的擦拭部件(11)。该擦拭部件(11)具备：作为基体的弹性体(11a)；和在该弹性体(11a)的表面上设置、与相对移动的防静电膜(Wa)的表面接触的布(11b)。

公开(公告)号：CN104668217A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201410679982.1

申请日：2014-11-24

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 手岛理惠 ,  矶明典 ,  滨田崇广 ,  坂下健司 ,  西部幸伸 ,  高原龙平

IPC: B08B1/00 ,  B08B11/00 ,  H01L21/67

CPC classification number: B08B1/006 ,  B08B1/02 ,  B08B3/022 ,  H01L21/67046

Abstract: 提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。实施方式的基板处理装置，具备：与基板(W)上的防静电膜(Wa)的表面接触而相对移动、对该防静电膜(Wa)的表面进行擦拭的擦拭部件(11)。该擦拭部件(11)具备：作为基体的弹性体(11a)；和在该弹性体(11a)的表面上设置、与相对移动的防静电膜(Wa)的表面接触的布(11b)。

公开(公告)号：CN105826168A

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201610046871.6

申请日：2016-01-25

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 高原龙平 ,  西部幸伸 ,  矶明典 ,  坂下健司 ,  松田大辉

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  B08B3/02

CPC classification number: H01L21/02 ,  B08B3/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/67011

Abstract: 一种基板处理装置，能够抑制基板的抖动以及输送偏移。基板处理装置(1)具备：在处理室(2)内以夹着输送路(H)的方式在输送路的上下分别设置，分别朝输送路吹送气体的第1吹拂器(4a)以及第2吹拂器(4b)；以及设置在处理室内并对气体的流动进行整流的整流板(5)。第1吹拂器以及第2吹拂器设置成分别具有长条状的吹出口(13)，吹出口的长度方向在水平面内相对于基板(W)的输送方向(Ha)朝相同的方向倾斜，吹出口朝基板的输送方向的上游侧吹出气体。整流板设置成具有第1面(5a)以及其相反面即第2面(5b)，位于输送路的下方且朝基板的输送方向的下游侧倾倒，将气体的流动分成沿着第1面的流动和沿着第2面的流动。

公开(公告)号：CN101315874B

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN200810099863.3

申请日：2008-05-30

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 和歌月尊彦 ,  牧野勉 ,  布施阳一 ,  西部幸伸 ,  高原龙平

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/683 ,  B08B3/02

Abstract: 提供一种基板的保持装置及基板的处理方法，无需真空吸附基板、处理液不回入到基板下面侧地进行处理。基板保持装置具备：形成为与基板大致相同大小的底座板(2)；环状地设置在底座板上面的侧壁体(3)；形成于侧壁体的上面并且支持基板下面的外周缘的径向内侧部分的支持面(24)、以及在支持面的外侧比支持面低地形成并且隔着规定的间隙(G)非接触地与基板的由支持面支持的部分的径向外侧的部分的下面相对置的非接触面(25)；在非接触面上开口形成、当由处理液处理基板的上面时向间隙供给气体并利用其压力阻止处理液侵入间隙的供气管(14)；以及形成于非接触面的供气管的外侧、当由洗净液对基板的上面进行洗净处理时向间隙供给洗净液并利用该洗净液防止残留于侧壁体的上面的处理液侵入间隙的供液管(18)。

公开(公告)号：CN105826168B

公开(公告)日：2018-10-26

申请号：CN201610046871.6

申请日：2016-01-25

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 高原龙平 ,  西部幸伸 ,  矶明典 ,  坂下健司 ,  松田大辉

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  B08B3/02

Abstract: 一种基板处理装置，能够抑制基板的抖动以及输送偏移。基板处理装置(1)具备：在处理室(2)内以夹着输送路(H)的方式在输送路的上下分别设置，分别朝输送路吹送气体的第1吹拂器(4a)以及第2吹拂器(4b)；以及设置在处理室内并对气体的流动进行整流的整流板(5)。第1吹拂器以及第2吹拂器设置成分别具有长条状的吹出口(13)，吹出口的长度方向在水平面内相对于基板(W)的输送方向(Ha)朝相同的方向倾斜，吹出口朝基板的输送方向的上游侧吹出气体。整流板设置成具有第1面(5a)以及其相反面即第2面(5b)，位于输送路的下方且朝基板的输送方向的下游侧倾倒，将气体的流动分成沿着第1面的流动和沿着第2面的流动。

公开(公告)号：CN101295089A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200810095710.1

申请日：2008-04-24

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 今冈裕一 ,  西部幸伸 ,  高原龙平

IPC: G02F1/1333 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明提供一种使基板沿宽度方向倾斜而传送，并且能够将其上表面整体通过处理液均匀地处理的基板处理装置。该基板处理装置通过从处理液供给装置(31)供给的处理液对以规定的角度倾斜并沿与该倾斜方向交叉的方向传送的基板的上表面进行处理，处理液供给装置具备：容器主体(32)，沿着基板的倾斜方向配置，将处理液供给储存在内部中；喷嘴孔(40)，开口形成在容器主体的下面，使供给储存到内部中的处理液沿着与基板的传送方向交叉的方向以直线状流出；导引部件(42)，设在容器主体的下面侧，具有朝向基板的传送方向下游侧、较低地倾斜的倾斜面(45)，并且倾斜面的下端缘(45a)倾斜地形成，以使其与被传送的基板的倾斜的上表面平行地离开对置，通过倾斜面承接从喷嘴孔流出的处理液，从倾斜面的下端缘供给到基板的上表面。

公开(公告)号：CN101315874A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200810099863.3

申请日：2008-05-30

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 和歌月尊彦 ,  牧野勉 ,  布施阳一 ,  西部幸伸 ,  高原龙平

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/683 ,  B08B3/02

Abstract: 提供一种基板的保持装置及基板的处理方法，无需真空吸附基板、处理液不回入到基板下面侧地进行处理。基板保持装置具备：形成为与基板大致相同大小的底座板(2)；环状地设置在底座板上面的侧壁体(3)；形成于侧壁体的上面并且支持基板下面的外周缘的径向内侧部分的支持面(24)、以及在支持面的外侧比支持面低地形成并且隔着规定的间隙(G)非接触地与基板的由支持面支持的部分的径向外侧的部分的下面相对置的非接触面(25)；在非接触面上开口形成、当由处理液处理基板的上面时向间隙供给气体并利用其压力阻止处理液侵入间隙的供气管(14)；以及形成于非接触面的供气管的外侧、当由洗净液对基板的上面进行洗净处理时向间隙供给洗净液并利用该洗净液防止残留于侧壁体的上面的处理液侵入间隙的供液管(18)。