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公开(公告)号：CN119733723A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411331064.X
申请日：2024-09-24
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种晶片收纳容器清洗装置，能有效率地清洗及干燥晶片收纳容器。晶片收纳容器清洗装置具有清洗槽，清洗槽具有：槽，收容晶片收纳容器的主体并通过经由铰链的开闭盖能够开闭；门保持部，设置于开闭盖且保持晶片收纳容器的门；清洗喷嘴，向主体与门供给清洗液；旋转机构，使主体与门旋转；圆形框，包围门的外侧且具有在开闭盖为关闭状态时覆盖门的厚度的一部分的高度；以及倾斜罩，设置于在开闭盖为关闭状态时开闭盖的隔着圆形框与铰链为相反侧的位置，以朝向圆形框变高的方式倾斜地设置，对向门供给并飞散的清洗液进行引导，倾斜罩的设置有铰链的一侧的端部设置于在开闭盖从关闭状态转移至打开状态时将清洗液引导至圆形框的侧面的位置。
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公开(公告)号：CN119733722A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411328988.4
申请日：2024-09-24
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种晶片收纳容器清洗装置，能够效率良好地进行晶片收纳容器的清洗。实施方式的晶片收纳容器清洗装置包括：清洗槽，对晶片收纳容器进行清洗，晶片收纳容器包括在一个面具有开口部且在与具有开口部的面交叉的另一个面具有被把持部的容器主体、及相对于开口部能够装卸的门部；以及搬送机器人，包括个别地把持容器主体与门部的把持机构，相对于清洗槽个别地搬入/搬出容器主体及门部。把持机构包括：主体把持部，具有能够沿着第一直线进行接近/分开运动的一对第一把持爪；以及门把持部，具有能够沿着俯视时与第一直线交叉的第二直线进行接近/分开运动的一对第二把持爪。清洗槽在开口部朝下的状态下，对容器主体进行清洗。
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公开(公告)号：CN102646616A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201210041193.6
申请日：2012-02-21
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 夏普株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , B08B3/08 , B08B13/00 , G02F1/1333
Abstract: 提供一种能够防止在清洗基板的旋转刷上静电吸附污染粒子的基板清洗装置、基板清洗方法、显示装置的制造装置和显示装置的制造方法。实施方式涉及的基板清洗装置(1)具备：输送机构(2)，输送基板(9)；旋转刷(3)，由通过与基板(9)摩擦而带负电的材料形成，通过与基板(9)接触并进行旋转来除去基板(9)上附着的污染粒子；和第一清洗液供给部(6)，向旋转刷(3)供给含有带负电的微小气泡的清洗液。
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公开(公告)号：CN101290418B
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN200810093061.1
申请日：2008-04-16
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种不引起装置的大型化和复杂化、而可以使基板的提供位置与搬出位置相同的基板处理装置。该基板处理装置具有：辊式输送机(8)，将基板相对于水平方向直线地进行往返搬送；装载部(2)，配置于辊式输送机的一端侧，且提供未处理的基板；清洗处理部(11)，利用处理液对从装载部提供并由辊式输送机搬送的未处理的基板进行清洗处理；液刀(21)，在将未处理的基板提供给清洗处理部之前，利用处理液将该基板湿润；气刀(22)，在由辊式输送机将在清洗处理部处理的基板返回给装载部侧而搬出时，向该基板喷射气体来进行干燥处理；以及卸载部(3)，配置于辊式输送机的另一端侧，且储存由气刀处理的基板。
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公开(公告)号：CN101315874A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200810099863.3
申请日：2008-05-30
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/683 , B08B3/02
Abstract: 提供一种基板的保持装置及基板的处理方法，无需真空吸附基板、处理液不回入到基板下面侧地进行处理。基板保持装置具备：形成为与基板大致相同大小的底座板(2)；环状地设置在底座板上面的侧壁体(3)；形成于侧壁体的上面并且支持基板下面的外周缘的径向内侧部分的支持面(24)、以及在支持面的外侧比支持面低地形成并且隔着规定的间隙(G)非接触地与基板的由支持面支持的部分的径向外侧的部分的下面相对置的非接触面(25)；在非接触面上开口形成、当由处理液处理基板的上面时向间隙供给气体并利用其压力阻止处理液侵入间隙的供气管(14)；以及形成于非接触面的供气管的外侧、当由洗净液对基板的上面进行洗净处理时向间隙供给洗净液并利用该洗净液防止残留于侧壁体的上面的处理液侵入间隙的供液管(18)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105785605B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201510810502.5
申请日：2015-11-20
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/13
Abstract: 提供一种基板处理装置，能够防止气泡的影响并且通过处理液良好地进行处理。实施方式的基板清洗装置(100)(基板处理装置的一个例子)从喷淋喷嘴(11)对由搬送机构(13)搬送的基板(W)供给清洗液(L)并进行清洗处理。第一回收配管(14)从清洗槽(10)的底部将在清洗处理使用后的清洗液(L)回收到罐(T)。第二回收配管(15)将在清洗工序中产生的气泡回收到罐(T)。在第二回收配管(15)具备强制地回收气泡的吸气器(16)。
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公开(公告)号：CN104668217B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201410679982.1
申请日：2014-11-24
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。实施方式的基板处理装置，具备：与基板(W)上的防静电膜(Wa)的表面接触而相对移动、对该防静电膜(Wa)的表面进行擦拭的擦拭部件(11)。该擦拭部件(11)具备：作为基体的弹性体(11a)；和在该弹性体(11a)的表面上设置、与相对移动的防静电膜(Wa)的表面接触的布(11b)。
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公开(公告)号：CN103943539A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410185437.7
申请日：2010-02-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
CPC classification number: H01L21/67051 , G02F1/1303 , G03F7/30 , H01L21/67017
Abstract: 本发明具备：处理部(2)，被供给要通过处理液处理的基板；储液箱(1)，存储有处理液；供液管(3)以及回收管(28)，将储液箱的处理液供给到处理部而处理基板之后返回储液箱；以及除气装置(12)，设于供液管，将处理液中包含的气体除去。
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公开(公告)号：CN102326234B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201080008906.8
申请日：2010-02-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/304 , G02F1/13 , G02F1/1333 , G03F7/30
CPC classification number: H01L21/67051 , G02F1/1303 , G03F7/30 , H01L21/67017
Abstract: 本发明具备：处理部(2)，被供给要通过处理液处理的基板；储液箱(1)，存储有处理液；供液管(3)以及回收管(28)，将储液箱的处理液供给到处理部而处理基板之后返回储液箱；以及除气装置(12)，设于供液管，将处理液中包含的气体除去。
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公开(公告)号：CN1814523B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200510121666.3
申请日：2005-12-22
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使加长弯曲量也小的、用于传送基板的传送用轴。本发明的传送用轴，用于传送利用处理液进行处理的基板，该传送用轴包括：轴部(12)，具有由碳纤维形成的芯部件(13)和由对上述处理液有抗腐蚀性的合成树脂形成、包覆芯部件的外周面的外皮部件(14)；以及支承辊(6)，以预定间隔设置在该轴部的轴方向上，支承上述基板。
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