公开(公告)号：CN103943539B

公开(公告)日：2017-09-19

申请号：CN201410185437.7

申请日：2010-02-19

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 西部幸伸 ,  矶明典 ,  高野有美 ,  牧野勉

IPC: H01L21/67 ,  G02F1/13 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G02F1/1303 ,  G03F7/30 ,  H01L21/67017

Abstract: 具备：处理部(2)，被供给要通过处理液处理的基板；储液箱(1)，存储有处理液；供液管(3)以及回收管(28)，将储液箱的处理液供给到处理部而处理基板之后返回储液箱；以及除气装置(12)，设于供液管，将处理液中包含的气体除去。

公开(公告)号：CN102326234A

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：CN201080008906.8

申请日：2010-02-19

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 西部幸伸 ,  矶明典 ,  高野有美 ,  牧野勉

IPC: H01L21/304 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G02F1/1303 ,  G03F7/30 ,  H01L21/67017

Abstract: 具备：处理部(2)，被供给要通过处理液处理的基板；储液箱(1)，存储有处理液；供液管(3)以及回收管(28)，将储液箱的处理液供给到处理部而处理基板之后返回储液箱；以及除气装置(12)，设于供液管，将处理液中包含的气体除去。

公开(公告)号：CN103943539A

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：CN201410185437.7

申请日：2010-02-19

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 西部幸伸 ,  矶明典 ,  高野有美 ,  牧野勉

IPC: H01L21/67 ,  G02F1/13 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G02F1/1303 ,  G03F7/30 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明具备：处理部(2)，被供给要通过处理液处理的基板；储液箱(1)，存储有处理液；供液管(3)以及回收管(28)，将储液箱的处理液供给到处理部而处理基板之后返回储液箱；以及除气装置(12)，设于供液管，将处理液中包含的气体除去。

公开(公告)号：CN102326234B

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201080008906.8

申请日：2010-02-19

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 西部幸伸 ,  矶明典 ,  高野有美 ,  牧野勉

IPC: H01L21/304 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G02F1/1303 ,  G03F7/30 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明具备：处理部(2)，被供给要通过处理液处理的基板；储液箱(1)，存储有处理液；供液管(3)以及回收管(28)，将储液箱的处理液供给到处理部而处理基板之后返回储液箱；以及除气装置(12)，设于供液管，将处理液中包含的气体除去。