-
公开(公告)号：CN108249159B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201711444785.1
申请日：2017-12-27
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: B65G49/06
Abstract: 本发明提供能够防止基板弯曲地搬运的浮起搬运装置以及基板处理装置。本发明的浮起搬运装置使基板浮起而进行搬运，其特征在于，夹着基板的搬运路径而具有下侧浮起装置以及上侧浮起装置，构成下侧浮起装置以及上侧浮起装置中的至少任一方的多个浮起块设置间隙地配置，构成另一方的浮起块以与上述间隙对置的方式配置。
-
公开(公告)号：CN100553801C
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200510105729.6
申请日：2005-09-27
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种相对于多个设置在处理室内的二流体喷射喷嘴，供给处理液和气体的配管简化的处理装置。具备供给气体并与基板的搬运方向交叉的方向配置在处理室(1)内沿的气体用配管(41)；供给液体并与气体用配管一体化后配置在处理室内的液体用配管(31)；具有液体供给口体、气体供给口体以及喷射孔，将液体供给口体连接到液体用配管上，并将气体供给口体连接到气体用的配管上，在这些配管的长度方向上以规定间隔进行配置，将从液体用配管通过上述液体供给口体供给的液体由从气体用配管通过气体供给口体供给的气体加压后，从上述喷射孔喷射的多个二流体喷射喷嘴(44)。
-
公开(公告)号：CN110323161B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201910248408.3
申请日：2019-03-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机膜形成装置以及有机膜制造方法，其能够缩短形成有有机膜的基板的冷却时间，而且能够维持有机膜的品质。实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；排气部，可对所述腔的内部进行排气；第1加热部，设置在所述腔的内部，具有至少1个第1加热器；第2加热部，具有至少1个第2加热器，设置成与所述第1加热部相对；处理区域，位于所述第1加热部与所述第2加热部之间，支撑具有基板与含有涂布于所述基板的上面的有机材料和溶剂的溶液的工件；及冷却部，向所述第1加热部、所述第2加热部中的至少任意一个的内部供给冷却气体或冷却介质。
-
公开(公告)号：CN114054316B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202110844416.1
申请日：2021-07-26
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种可缩短形成有机膜后的工件的冷却时间，且可维持有机膜的质量的有机膜形成装置。具体而言，实施方式所涉及的有机膜形成装置可在减压到低于大气压的气氛下对工件进行加热，所述工件具有基板、涂布在所述基板的上面上的包含有机材料和溶剂的溶液。有机膜形成装置具备：腔室，可维持所述减压到低于大气压的气氛；排气部，可对所述腔室的内部进行排气；至少1个温度控制部，具有外管和发热部，所述外管呈筒状，从所述腔室的外侧延伸到所述腔室的内侧，并以气密的方式穿通于所述腔室，所述发热部被设置在所述外管的内部空间中并沿着所述外管而延伸；及冷却部，可将流体供给到所述外管的内部空间中。
-
公开(公告)号：CN106997860B
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201710047899.6
申请日：2017-01-20
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供能够抑制污点的产生的基板处理装置。实施方式所涉及的基板处理装置具备具有多个顶板(11a)的处理室(10)。各顶板(11a)设置为，层叠成瓦状并倾斜，在倾斜方向上邻接的两个顶板(11a)中的、高位置的顶板(11a)的低侧的端部(B1)覆盖低位置的顶板(11a)的高侧的端部(B2)，在低侧的端部(B1)与高侧的端部(B2)之间产生间隙。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111566428A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201880080915.4
申请日：2018-12-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；至少1个处理室，设置在所述腔的内部且被罩围住；及排气部，可对所述腔的内部进行排气。所述处理室中设置有：上部加热部，具有至少1个第1加热器；下部加热部，具有至少1个第2加热器且与所述上部加热部对峙；及工件支撑部，在所述上部加热部与所述下部加热部之间，可支撑具有基板和涂布于所述基板的上面的含有有机材料、溶剂的溶液的工件。所述处理室具有连通于所述腔的空间。所述排气部对所述腔的内部的压力进行减压，同时对所述腔的内壁与所述罩之间的空间的压力进行减压。
-
公开(公告)号：CN108249159A
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201711444785.1
申请日：2017-12-27
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: B65G49/06
Abstract: 本发明提供能够防止基板弯曲地搬运的浮起搬运装置以及基板处理装置。本发明的浮起搬运装置使基板浮起而进行搬运，其特征在于，夹着基板的搬运路径而具有下侧浮起装置以及上侧浮起装置，构成下侧浮起装置以及上侧浮起装置中的至少任一方的多个浮起块设置间隙地配置，构成另一方的浮起块以与上述间隙对置的方式配置。
-
公开(公告)号：CN105103268A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480019122.3
申请日：2014-03-25
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/027 , G02F1/13 , G02F1/1333 , H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/10 , H01L21/02057 , H01L21/30604 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/67253 , H01L21/68714 , H01L22/12
Abstract: 实施方式的基板处理装置(1)具备：支承部(4)，在平面内支承基板(W)；旋转机构(5)，以与通过此支承部(4)支承的基板(W)的表面相交的轴作为旋转轴，使支承部(4)旋转；多个喷嘴(6a，6b和6c)，设置为从通过支承部(4)支承的基板(W)的中心向周缘排列，将处理液分别排出至通过旋转机构(5)而旋转的支承部(4)上的基板(W)的表面；控制部(9)，根据形成于通过旋转机构(5)而旋转的支承部(4)上的基板(W)的表面的处理液的液膜厚度，使多根喷嘴(6a，6b和6c)分别以不同的定时排出处理液。
-
公开(公告)号：CN104898324A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201510097408.X
申请日：2015-03-05
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/13378
Abstract: 提供接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法，能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性、并且能够形成均匀的液晶取向膜。有关实施方式的接液处理装置对由输送辊(1)输送的基板(W)从第1喷嘴(N1)供给乳酸乙酯液而形成液膜，对形成了该液膜的状态的基板从位于第1喷嘴(N1)的基板(W)输送方向下游侧的第2喷嘴(N2)供给乳酸乙酯液。第1喷嘴(N1)在喷嘴内包含将气泡除去的机构，第2喷嘴(N2)例如使用喷淋喷嘴等喷嘴。
-
公开(公告)号：CN104668217A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201410679982.1
申请日：2014-11-24
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
CPC classification number: B08B1/006 , B08B1/02 , B08B3/022 , H01L21/67046
Abstract: 提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。实施方式的基板处理装置，具备：与基板(W)上的防静电膜(Wa)的表面接触而相对移动、对该防静电膜(Wa)的表面进行擦拭的擦拭部件(11)。该擦拭部件(11)具备：作为基体的弹性体(11a)；和在该弹性体(11a)的表面上设置、与相对移动的防静电膜(Wa)的表面接触的布(11b)。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
64
records
(took 0.032 seconds)
