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公开(公告)号：CN102001834B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201010270671.1
申请日：2010-09-01
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供一种在将基板的板面通过由喷嘴体喷射供给的处理液处理时，能够将整个面均匀地处理的基板的处理装置。具备：将基板沿规定方向输送的输送辊(5)、对基板的与输送方向交叉的宽度方向两端部以不会产生间隙的紧密的状态均匀地喷射供给处理液的第1喷嘴体(23)、以及对基板的除了由第1喷嘴体供给了处理液的宽度方向两端部以外的部分，以相对于基板的输送方向及与输送方向交叉的方向产生间隙的稀松的状态喷射供给处理液的第2喷嘴体(24)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111566428B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN201880080915.4
申请日：2018-12-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；至少1个处理室，设置在所述腔的内部且被罩围住；及排气部，可对所述腔的内部进行排气。所述处理室中设置有：上部加热部，具有至少1个第1加热器；下部加热部，具有至少1个第2加热器且与所述上部加热部对峙；及工件支撑部，在所述上部加热部与所述下部加热部之间，可支撑具有基板和涂布于所述基板的上面的含有有机材料、溶剂的溶液的工件。所述处理室具有连通于所述腔的空间。所述排气部对所述腔的内部的压力进行减压，同时对所述腔的内壁与所述罩之间的空间的压力进行减压。
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公开(公告)号：CN111755366B
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202010081318.2
申请日：2020-02-06
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 大森圭悟
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够在不对基板造成损伤的情况下提高基板的检测精度的基板处理装置。实施方式的基板处理装置(10)具有：沿着搬送路径(A1)搬送基板(W)的搬送部(30)；利用处理液对由搬送部(30)搬送的基板(W)进行处理的处理部下表面侧喷出流体的喷嘴(53a)和检测来自喷嘴(53a)的处理液已到达摆动部(51)的传感器部(52)；以及控制部(60)，基于从基板检测部(50)输出的检测信号检测基板(W)。(40)；基板检测部(50)，具有从搬送的基板(W)的
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公开(公告)号：CN111566428A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201880080915.4
申请日：2018-12-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；至少1个处理室，设置在所述腔的内部且被罩围住；及排气部，可对所述腔的内部进行排气。所述处理室中设置有：上部加热部，具有至少1个第1加热器；下部加热部，具有至少1个第2加热器且与所述上部加热部对峙；及工件支撑部，在所述上部加热部与所述下部加热部之间，可支撑具有基板和涂布于所述基板的上面的含有有机材料、溶剂的溶液的工件。所述处理室具有连通于所述腔的空间。所述排气部对所述腔的内部的压力进行减压，同时对所述腔的内壁与所述罩之间的空间的压力进行减压。
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公开(公告)号：CN102001834A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010270671.1
申请日：2010-09-01
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供一种在将基板的板面通过由喷嘴体喷射供给的处理液处理时，能够将整个面均匀地处理的基板的处理装置。具备：将基板沿规定方向输送的输送辊(5)、对基板的与输送方向交叉的宽度方向两端部以不会产生间隙的紧密的状态均匀地喷射供给处理液的第1喷嘴体(23)、以及对基板的除了由第1喷嘴体供给了处理液的宽度方向两端部以外的部分，以相对于基板的输送方向及与输送方向交叉的方向产生间隙的稀松的状态喷射供给处理液的第2喷嘴体(24)。
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公开(公告)号：CN111755366A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN202010081318.2
申请日：2020-02-06
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 大森圭悟
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够在不对基板造成损伤的情况下提高基板的检测精度的基板处理装置。实施方式的基板处理装置(10)具有：沿着搬送路径(A1)搬送基板(W)的搬送部(30)；利用处理液对由搬送部(30)搬送的基板(W)进行处理的处理部(40)；基板检测部(50)，具有从搬送的基板(W)的下表面侧喷出流体的喷嘴(53a)和检测来自喷嘴(53a)的处理液已到达摆动部(51)的传感器部(52)；以及控制部(60)，基于从基板检测部(50)输出的检测信号检测基板(W)。
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