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公开(公告)号：CN1737672A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510089059.3
申请日：2005-08-03
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1341
Abstract: 本发明提供一种可以不损伤两个基板且均匀加压、贴合两个基板的基板贴合方法。所述基板贴合方法具备在减压的气体环境下分别保持两个基板，使得相对在上下方向接近的基板隔着所述流体接触的工序；沿水平方向相对驱动隔着流体接触的两个基板进行对位的工序；解除对位后的两个基板中位于上方的基板的保持状态的工序；解除了一个基板的保持状态后，隔着上述流体向接触状态下的两个基板加压，从而通过密封剂进行贴合的工序。
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公开(公告)号：CN110323161B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201910248408.3
申请日：2019-03-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机膜形成装置以及有机膜制造方法，其能够缩短形成有有机膜的基板的冷却时间，而且能够维持有机膜的品质。实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；排气部，可对所述腔的内部进行排气；第1加热部，设置在所述腔的内部，具有至少1个第1加热器；第2加热部，具有至少1个第2加热器，设置成与所述第1加热部相对；处理区域，位于所述第1加热部与所述第2加热部之间，支撑具有基板与含有涂布于所述基板的上面的有机材料和溶剂的溶液的工件；及冷却部，向所述第1加热部、所述第2加热部中的至少任意一个的内部供给冷却气体或冷却介质。
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公开(公告)号：CN111566428A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201880080915.4
申请日：2018-12-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；至少1个处理室，设置在所述腔的内部且被罩围住；及排气部，可对所述腔的内部进行排气。所述处理室中设置有：上部加热部，具有至少1个第1加热器；下部加热部，具有至少1个第2加热器且与所述上部加热部对峙；及工件支撑部，在所述上部加热部与所述下部加热部之间，可支撑具有基板和涂布于所述基板的上面的含有有机材料、溶剂的溶液的工件。所述处理室具有连通于所述腔的空间。所述排气部对所述腔的内部的压力进行减压，同时对所述腔的内壁与所述罩之间的空间的压力进行减压。
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公开(公告)号：CN101900912B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201010227528.4
申请日：2005-08-03
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1341
Abstract: 本发明提供一种可以不损伤两个基板且均匀加压、贴合两个基板的基板贴合方法。所述基板贴合方法具备在减压的气体环境下分别保持两个基板，使得相对在上下方向接近的基板隔着所述流体接触的工序；沿水平方向相对驱动隔着流体接触的两个基板进行对位的工序；解除对位后的两个基板中位于上方的基板的保持状态的工序；解除了一个基板的保持状态后，隔着上述流体向接触状态下的两个基板加压，从而通过密封剂进行贴合的工序。
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公开(公告)号：CN110323161A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910248408.3
申请日：2019-03-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机膜形成装置以及有机膜制造方法，其能够缩短形成有有机膜的基板的冷却时间，而且能够维持有机膜的品质。实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；排气部，可对所述腔的内部进行排气；第1加热部，设置在所述腔的内部，具有至少1个第1加热器；第2加热部，具有至少1个第2加热器，设置成与所述第1加热部相对；处理区域，位于所述第1加热部与所述第2加热部之间，支撑具有基板与含有涂布于所述基板的上面的有机材料和溶剂的溶液的工件；及冷却部，向所述第1加热部、所述第2加热部中的至少任意一个的内部供给冷却气体或冷却介质。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111566428B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN201880080915.4
申请日：2018-12-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；至少1个处理室，设置在所述腔的内部且被罩围住；及排气部，可对所述腔的内部进行排气。所述处理室中设置有：上部加热部，具有至少1个第1加热器；下部加热部，具有至少1个第2加热器且与所述上部加热部对峙；及工件支撑部，在所述上部加热部与所述下部加热部之间，可支撑具有基板和涂布于所述基板的上面的含有有机材料、溶剂的溶液的工件。所述处理室具有连通于所述腔的空间。所述排气部对所述腔的内部的压力进行减压，同时对所述腔的内壁与所述罩之间的空间的压力进行减压。
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公开(公告)号：CN110391132A
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201910293044.0
申请日：2019-04-12
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机膜形成装置，其对涂布有含有有机材料和溶剂的溶液的基板进行热损失较少且蓄热效率较高的加热，能够形成有机膜。具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；排气部，可对所述腔的内部进行排气；第1加热部，设置在所述腔的内部，具有第1加热器；第2加热部，具有第2加热器；第1均热板；第2均热板；溶液，含有涂布于所述基板的上面的有机材料和溶剂；处理区域，支撑有工件；及第1反射板，设置在所述腔的内部，所述第1均热板及所述第2均热板向所述处理区域侧放射从所述第1加热器及所述第2加热器射入的热，所述第1反射板向所述处理区域侧反射从所述第1加热器及所述第2加热器射入的热。
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公开(公告)号：CN1737672B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200510089059.3
申请日：2005-08-03
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1341
Abstract: 本发明提供一种可以不损伤两个基板且均匀加压、贴合两个基板的基板贴合方法。所述基板贴合方法具备在减压的气体环境下分别保持两个基板，使得相对在上下方向接近的基板隔着所述流体接触的工序；沿水平方向相对驱动隔着流体接触的两个基板进行对位的工序；解除对位后的两个基板中位于上方的基板的保持状态的工序；解除了一个基板的保持状态后，隔着上述流体向接触状态下的两个基板加压，从而通过密封剂进行贴合的工序。
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公开(公告)号：CN110391132B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201910293044.0
申请日：2019-04-12
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机膜形成装置，其对涂布有含有有机材料和溶剂的溶液的基板进行热损失较少且蓄热效率较高的加热，能够形成有机膜。具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；排气部，可对所述腔的内部进行排气；第1加热部，设置在所述腔的内部，具有第1加热器；第2加热部，具有第2加热器；第1均热板；第2均热板；溶液，含有涂布于所述基板的上面的有机材料和溶剂；处理区域，支撑有工件；及第1反射板，设置在所述腔的内部，所述第1均热板及所述第2均热板向所述处理区域侧放射从所述第1加热器及所述第2加热器射入的热，所述第1反射板向所述处理区域侧反射从所述第1加热器及所述第2加热器射入的热。
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公开(公告)号：CN101900912A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010227528.4
申请日：2005-08-03
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1341
Abstract: 本发明提供一种可以不损伤两个基板且均匀加压、贴合两个基板的基板贴合方法。所述基板贴合方法具备在减压的气体环境下分别保持两个基板，使得相对在上下方向接近的基板隔着所述流体接触的工序；沿水平方向相对驱动隔着流体接触的两个基板进行对位的工序；解除对位后的两个基板中位于上方的基板的保持状态的工序；解除了一个基板的保持状态后，隔着上述流体向接触状态下的两个基板加压，从而通过密封剂进行贴合的工序。
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