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公开(公告)号：CN101871721A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010170141.X
申请日：2010-04-21
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: F26B13/20
Abstract: 本发明提供一种基板的处理装置，具有：上部吹拂器(7)，以预定的角度对该基板的上面喷射气体，并且在长度方向中途部设置有上部钩(31)；下部吹拂器(8)，以预定的角度对该基板的下面喷射气体，并且在长度方向中途部设置有下部钩(35)；上部支撑部件(25)以及下部支撑部件(26)，平行地设置在上述上部吹拂器的上方和上述下部吹拂器的下方；悬挂部件(27)，可沿垂直方向定位地设置在上述上部支撑部件的长度方向中途部，具有上述上部钩可摆动地卡合在下端的上部卡止部的(29)；以及提升部件(32)，可沿垂直方向定位地设置在上述下部支撑部件的长度方向中途部，具有上述下部钩可摆动地卡合在上端的下部卡止部(34)。
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公开(公告)号：CN119725186A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411338166.4
申请日：2024-09-25
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/673
Abstract: 本发明提供一种晶片收纳容器处理装置，有效率地进行收纳空间内的气体的置换。实施方式的晶片收纳容器处理装置对晶片收纳容器进行处理，所述晶片收纳容器具有：主体，具有收纳半导体晶片且与开口部连通的收纳空间；以及门，相对于所述开口部能够装卸，所述晶片收纳容器处理装置包括：载置台，具有：载置所述晶片收纳容器的载置面；以及气体供给部，对载置于所述载置台的所述晶片收纳容器进行惰性气体的供给，其中，所述载置台以在装设有所述门及所述主体的状态下所述门载置于所述载置面的方式，而载置所述晶片收纳容器，所述气体供给部进行如下处理：经由所述主体的与具有所述开口部的面交叉的交叉面上所设置的气体供给口，而供给所述惰性气体。
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公开(公告)号：CN1912697B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200610101932.0
申请日：2006-07-11
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , H01L21/00
Abstract: 本发明的旋转处理装置，具备：回转工作台，设于外杯状体内，在上表面保持基板的状态下被控制马达回转驱动；内杯状体，设于外杯状体内，被设置为在上端比回转工作台的上表面低的下降位置和上端比保持在回转工作台上的上述基板高的上升位置之间，可被上下驱动机构上下驱动；第1反射板，设于外杯状体的内周部，在内杯状体处于下降位置的状态下使基板回转并用第2处理液进行处理时，使从基板的周边部分飞散的第2处理液向下方反射；以及第2反射板，设置在内杯状体的内周部，在内杯状体处于上升位置的状态下使基板回转并用第1处理液进行处理时，使从基板的周边部分飞散的第1处理液向下方反射。
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公开(公告)号：CN101871721B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201010170141.X
申请日：2010-04-21
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: F26B13/20
Abstract: 本发明提供一种基板的处理装置，具有：上部吹拂器(7)，以预定的角度对该基板的上面喷射气体，并且在长度方向中途部设置有上部钩(31)；下部吹拂器(8)，以预定的角度对该基板的下面喷射气体，并且在长度方向中途部设置有下部钩(35)；上部支撑部件(25)以及下部支撑部件(26)，平行地设置在上述上部吹拂器的上方和上述下部吹拂器的下方；悬挂部件(27)，可沿垂直方向定位地设置在上述上部支撑部件的长度方向中途部，具有上述上部钩可摆动地卡合在下端的上部卡止部的(29)；以及提升部件(32)，可沿垂直方向定位地设置在上述下部支撑部件的长度方向中途部，具有上述下部钩可摆动地卡合在上端的下部卡止部(34)。
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公开(公告)号：CN101840848A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010143066.8
申请日：2010-03-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其处理槽(1)由以下部分构成：矩形下部框体(2)，具有在上表面上形成了第1基准面(18)的多个连接构件(9)，并以预定的间隔架设这些连接构件；支柱部件(4)，下端被连接、立设在下部框体的4个拐角部；上部框体(3)，4个拐角部被连接、设置在支柱部件上端部上；侧壁部件(11)，设置在以与支柱部件的高度尺寸相对应的间隔沿上下方向分离的下部框体和上部框体所构成的4个侧面上，在位于预定方向上的一对侧面中的一方形成有基板的送入口，在另一方上形成有上述基板的送出口；输送单元(29)，以第1基准面为基准而被安装，向着送出口输送从送入口送入到内部的基板；底部件(21a、21b)，堵塞下部框体的开口部分；顶板部件(25)，堵塞上部框体的开口部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1912697A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200610101932.0
申请日：2006-07-11
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , H01L21/00
Abstract: 本发明的旋转处理装置，具备：回转工作台，设于外杯状体内，在上表面保持基板的状态下被控制马达回转驱动；内杯状体，设于外杯状体内，被设置为在上端比回转工作台的上表面低的下降位置和上端比保持在回转工作台上的上述基板高的上升位置之间，可被上下驱动机构上下驱动；第1反射板，设于外杯状体的内周部，在内杯状体处于下降位置的状态下使基板回转并用第2处理液进行处理时，使从基板的周边部分飞散的第2处理液向下方反射；以及第2反射板，设置在内杯状体的内周部，在内杯状体处于上升位置的状态下使基板回转并用第1处理液进行处理时，使从基板的周边部分飞散的第1处理液向下方反射。
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公开(公告)号：CN119733723A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411331064.X
申请日：2024-09-24
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种晶片收纳容器清洗装置，能有效率地清洗及干燥晶片收纳容器。晶片收纳容器清洗装置具有清洗槽，清洗槽具有：槽，收容晶片收纳容器的主体并通过经由铰链的开闭盖能够开闭；门保持部，设置于开闭盖且保持晶片收纳容器的门；清洗喷嘴，向主体与门供给清洗液；旋转机构，使主体与门旋转；圆形框，包围门的外侧且具有在开闭盖为关闭状态时覆盖门的厚度的一部分的高度；以及倾斜罩，设置于在开闭盖为关闭状态时开闭盖的隔着圆形框与铰链为相反侧的位置，以朝向圆形框变高的方式倾斜地设置，对向门供给并飞散的清洗液进行引导，倾斜罩的设置有铰链的一侧的端部设置于在开闭盖从关闭状态转移至打开状态时将清洗液引导至圆形框的侧面的位置。
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公开(公告)号：CN119733722A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411328988.4
申请日：2024-09-24
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种晶片收纳容器清洗装置，能够效率良好地进行晶片收纳容器的清洗。实施方式的晶片收纳容器清洗装置包括：清洗槽，对晶片收纳容器进行清洗，晶片收纳容器包括在一个面具有开口部且在与具有开口部的面交叉的另一个面具有被把持部的容器主体、及相对于开口部能够装卸的门部；以及搬送机器人，包括个别地把持容器主体与门部的把持机构，相对于清洗槽个别地搬入/搬出容器主体及门部。把持机构包括：主体把持部，具有能够沿着第一直线进行接近/分开运动的一对第一把持爪；以及门把持部，具有能够沿着俯视时与第一直线交叉的第二直线进行接近/分开运动的一对第二把持爪。清洗槽在开口部朝下的状态下，对容器主体进行清洗。
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公开(公告)号：CN103633000B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201310364328.7
申请日：2013-08-20
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/66 , H01L21/67 , H01L21/68
Abstract: 提供一种基板处理装置，缩短摆动部件的摆动运动的收敛，防止基板的通过的错误检测，并且缩短基板传送间隔来提高基板的传送效率，从而能够实现基板的处理效率的提高。基板处理装置(1)的基板检测装置(2)具备：摆动部件(5)的一端部的检测辊(6)；摆动部件(5)的另一端部的配重(5C)及磁铁(7)；检测传感器(8)，若摆动部件(5)从基板(B)与检测辊(6)相碰前的摆动部件的初始位置(P1)向旋转方向(R)旋转，则检测出磁铁(7)所产生的磁场的变化并发送检测信号(DS)；以及摆动制动器(11)，在摆动部件(5)的初始位置(P1)，将摆动部件(5)保持为相对于垂直线(Z1)倾斜。
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公开(公告)号：CN103633000A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310364328.7
申请日：2013-08-20
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/66 , H01L21/67 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67706 , H01L22/10
Abstract: 提供一种基板处理装置，缩短摆动部件的摆动运动的收敛，防止基板的通过的错误检测，并且缩短基板传送间隔来提高基板的传送效率，从而能够实现基板的处理效率的提高。基板处理装置(1)的基板检测装置(2)具备：摆动部件(5)的一端部的检测辊(6)；摆动部件(5)的另一端部的配重(5C)及磁铁(7)；检测传感器(8)，若摆动部件(5)从基板(B)与检测辊(6)相碰前的摆动部件的初始位置(P1)向旋转方向(R)旋转，则检测出磁铁(7)所产生的磁场的变化并发送检测信号(DS)；以及摆动制动器(11)，在摆动部件(5)的初始位置(P1)，将摆动部件(5)保持为相对于垂直线(Z1)倾斜。
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