公开(公告)号：CN112805613B

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN201980064955.4

申请日：2019-10-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卢多维克·戈代 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B30/00

Abstract: 本文描述的实施方式涉及形成光学装置结构的方法。方法的一个实施方式包括以下步骤：相对于基板的表面的表面法线以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的初始深度。图案化掩模设置在基板上方，并且包括两个或更多个凸起，两个或更多个凸起限定基板或设置在基板上的装置层的暴露部分。每个凸起具有在与装置层接触的底表面处的后尾边缘，在每个凸起的顶表面处的前导边缘和从顶表面到装置层的高度。重复以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的至少一个后续深度。

公开(公告)号：CN116075766A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202180047524.4

申请日：2021-06-22

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 赛捷·托克·加勒特·多莎 ,  大野贤一 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 ,  卢瑟·振毅·泰欧 ,  郭津睿

IPC: G02B27/01

Abstract: 本文描述的实施方式涉及封装的光学装置及形成具有可控气隙封装的光学装置的方法。在一个实施方式中，围绕多个光学装置结构在支撑层中形成有多个开口，以在光学装置结构、支撑层、及开口之间产生高折射率对比。在另一实施方式中，牺牲材料设置在光学装置结构之间并且随后封装层设置在光学装置结构上。牺牲材料被移除，从而形成由封装层、基板、及每个光学装置结构限定的空间。在又一实施方式中，封装层设置在光学装置结构上方，从而形成由封装层、基板、及每个光学装置结构限定的空间。

公开(公告)号：CN115280192A

公开(公告)日：2022-11-01

申请号：CN202180020367.8

申请日：2021-02-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 彼得·库伦齐 ,  约瑟夫·奥尔森 ,  摩根·埃文斯 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B5/18 ,  G02B27/01

Abstract: 公开了一种用于形成器件结构的方法。该形成器件结构的方法包括使用激光烧蚀在器件材料层中形成深度可变结构。在深度可变结构中形成多个器件结构以在其中限定倾斜的器件结构。使用蚀刻处理形成深度可变结构和倾斜的器件结构。

公开(公告)号：CN113196123A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201980083749.8

申请日：2019-12-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卡提克·雷马斯瓦米 ,  杨扬 ,  曼尼瓦南·托塔德里 ,  陈建安 ,  卢多维克·戈代 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B6/122

Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。

公开(公告)号：CN113195151A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201980082330.0

申请日：2019-12-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 ,  摩根·埃文斯 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: B23K26/364 ,  B23P15/12

Abstract: 本文中所述的实施方式涉及方法及装置，这些方法及装置用于使用成角度蚀刻系统和/或光学设备来在基板上形成具有带有不同斜角的多个鳍片的光栅以及在相继的基板上形成带有不同斜角的鳍片。这些方法包括以下步骤：将保持在工作台上的基板的那些部分定位在离子束的路径中。这些基板具有设置在这些基板上的光栅材料。该离子束被配置为相对于这些基板的表面法线以离子束角Q接触该光栅材料并且在该光栅材料中形成光栅。

公开(公告)号：CN113166943A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980079525.X

申请日：2019-10-25

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 赛捷·托克·加勒特·多莎 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 ,  卢多维克·戈代 ,  朱明伟 ,  拿玛·阿加曼 ,  韦恩·麦克米兰 ,  西达斯·克里希南

IPC: C23C16/56 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  C23C14/54 ,  C23C16/34

Abstract: 本文描述的实施方式涉及半导体处理。更具体地，本文描述的实施方式涉及透明基板的处理。膜沉积在透明基板的背侧上。确定膜的厚度，以使所述膜反射特定波长的光并且大体上防止基板弯曲。膜提供对特定波长的光的相长干涉。

公开(公告)号：CN113196123B

公开(公告)日：2025-04-15

申请号：CN201980083749.8

申请日：2019-12-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卡提克·雷马斯瓦米 ,  杨扬 ,  曼尼瓦南·托塔德里 ,  陈建安 ,  卢多维克·戈代 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B6/122

Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。

公开(公告)号：CN114930253B

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202080090426.4

申请日：2020-12-08

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 徐永安 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 ,  郭津睿 ,  卢多维克·戈代

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 提供了一种在基板上形成图案化特征的方法。该方法包括以下步骤：将布置在掩模布局中的多个掩模定位在基板上方。基板定位在第一平面中，且多个掩模定位在第二平面中，掩模布局中的多个掩模具有多个边缘，多个边缘各自平行于第一平面且平行或垂直于基板上的对准特征延伸，基板包括多个分区，多个分区被配置为被引导通过布置在掩模布局中的掩模的能量图案化。该方法进一步包括以下步骤：通过基板上方的掩模布局中布置的多个掩模向多个分区引导能量，以在多个分区的各者中形成多个图案化特征。

公开(公告)号：CN118732110A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410879867.2

申请日：2019-06-27

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卢多维克·戈代 ,  韦恩·麦克米兰 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B5/18 ,  G03F1/80 ,  G02B27/09 ,  G02B6/124 ,  G02B6/136 ,  G03F7/00

Abstract: 本文讨论的系统与方法用于衍射光栅(诸如在波导组合器中使用的那些光栅)的制造。本文讨论的波导组合器是使用高折射率与低折射率材料的纳米压印光刻(NIL)结合高折射率与低折射率材料的定向蚀刻来制造的。波导组合器可额外地或替代地通过定向蚀刻透明基板来形成。包括本文讨论的衍射光栅的波导组合器可直接地形成在永久透明基板上。在其他示例中，衍射光栅可形成在临时基板上并转移至永久、透明基板。

公开(公告)号：CN118541641A

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202280088713.0

申请日：2022-12-06

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 ,  陈冠楠

IPC: G03F7/00 ,  G02B6/34

Abstract: 提供了一种具有折射率大于或等于2.0的多深度光学装置结构的光学器件和一种形成该光学器件的方法。该光学器件和方法包括形成第一矩阵堆叠结构和第二矩阵堆叠结构。相邻的第一矩阵堆叠结构形成具有第一深度的第一通孔，并且相邻的第二矩阵堆叠结构形成具有第二深度的第二通孔。当用器件材料回填通孔时，第一通孔的第一深度不同于第二通孔的第二深度提供了亚微米、多深度光学器件结构的形成。