公开(公告)号：CN118875961A

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202411174086.X

申请日：2021-06-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·库玛 ,  陈辉 ,  卓志忠 ,  张寿松

IPC: B24B37/015 ,  B24B55/02 ,  B24B37/30 ,  H01L21/67 ,  B24B57/02

Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：工作台，用于支撑具有抛光表面的抛光垫；以及垫冷却组件。垫冷却组件具有：在工作台上延伸的臂；由臂悬挂并耦合至冷却剂流体源的喷嘴，所述喷嘴定位成将冷却剂流体从源喷射到抛光垫的抛光表面上；以及在臂中的与喷嘴相邻的开口，以及在臂中的从开口延伸的通道，开口定位成足够靠近喷嘴，使得来自喷嘴的冷却剂流体流从开口夹带空气。

公开(公告)号：CN115175786B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202180015826.3

申请日：2021-06-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·库玛 ,  陈辉 ,  卓志忠 ,  张寿松

IPC: B24B37/015 ,  B24B55/02 ,  B24B37/30 ,  H01L21/67

Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：工作台，用于支撑具有抛光表面的抛光垫；以及垫冷却组件。垫冷却组件具有：在工作台上延伸的臂；由臂悬挂并耦合至冷却剂流体源的喷嘴，所述喷嘴定位成将冷却剂流体从源喷射到抛光垫的抛光表面上；以及在臂中的与喷嘴相邻的开口，以及在臂中的从开口延伸的通道，开口定位成足够靠近喷嘴，使得来自喷嘴的冷却剂流体流从开口夹带空气。

公开(公告)号：CN114206552B

公开(公告)日：2024-07-23

申请号：CN202080056668.1

申请日：2020-08-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 吴昊晟 ,  H·桑达拉拉贾恩 ,  唐建设 ,  张寿松 ,  B·J·布朗 ,  Y-C·杨 ,  Y·王 ,  R·巴贾杰

IPC: B24B37/015 ,  B24B49/14 ,  B24B57/02

Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：平台，所述平台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；加热流体的源；储藏室，所述储藏室用于保持抛光液体；以及配给器，所述配给器具有悬吊在平台之上的一个或多个孔，以将抛光液体引导至抛光表面上，其中加热流体的源耦合至配给器，并且配置成在抛光液体离开储藏室之后并且在抛光液体被配给至抛光表面上之前将加热流体传输至抛光液体中以加热抛光液体。

公开(公告)号：CN117615879A

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202280048497.7

申请日：2022-06-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： N·A·威斯韦尔 ,  E·S·鲁杜姆 ,  B·切里安 ,  S·布尔曼德 ,  T·H·奥斯特海德 ,  J·古鲁萨米 ,  张寿松

IPC: B24B49/12 ,  B24D11/02 ,  B24B47/12 ,  B24B37/005

Abstract: 一种化学机械抛光装置包括：用于支撑抛光垫的平台、用于保持基板的表面抵靠抛光垫的承载头、用于在平台与承载头之间产生相对运动以便抛光基板上的上覆层的电机、包括具有顶表面以接触基板的声学窗口的原位声学监测系统，以及被配置为基于来自原位声学监测系统的已接收到的声学信号来检测抛光终点的控制器。

公开(公告)号：CN117295585A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202280032057.2

申请日：2022-05-02

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 吴昊晟 ,  张寿松 ,  唐建设 ,  B·J·布朗 ,  A·J·菲舍 ,  H·桑达拉拉贾恩 ,  M·F·山村

IPC: B24B57/02

Abstract: 一种处理基板的方法包括：在逐个管芯的基础上选择性地将处理流体分配到基板上，以及在分配处理流体之后对基板进行化学机械抛光。与未施加处理流体的一个或多个剩余管芯相比，处理流体改变施加处理流体的一个或多个选定管芯处的化学机械抛光的抛光速率。

公开(公告)号：CN117157170A

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202280026870.9

申请日：2022-02-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： C·波拉德 ,  H·桑达拉拉贾恩 ,  P·D·巴特菲尔德 ,  张寿松 ,  吴昊晟 ,  C·李 ,  B·C·加嘎纳坦

IPC: B24B37/04

Abstract: 一种抛光组件包括化学机械抛光系统、流体源、以及将流体从流体源承载至化学机械抛光系统中的流体传输导管。化学机械抛光系统包括：用于支撑抛光垫的平台，用于支撑基板并使基板与抛光垫接触的承载头，以及用于导致平台与承载头之间的相对运动的电机。流体传输导管包括：电气绝缘管，从管的第一端至管的第二端围绕管的外部直径缠绕的导电缠绕件，以及附接至导电缠绕件第一端的导电线。导电缠绕件被配置成传导静电放电，并且导电线被配置成使静电放电从导电缠绕件传导至接地源。

公开(公告)号：CN115175786A

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN202180015826.3

申请日：2021-06-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·库玛 ,  陈辉 ,  卓志忠 ,  张寿松

IPC: B24B37/015 ,  B24B55/02 ,  B24B37/30 ,  H01L21/67

Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：工作台，用于支撑具有抛光表面的抛光垫；以及垫冷却组件。垫冷却组件具有：在工作台上延伸的臂；由臂悬挂并耦合至冷却剂流体源的喷嘴，所述喷嘴定位成将冷却剂流体从源喷射到抛光垫的抛光表面上；以及在臂中的与喷嘴相邻的开口，以及在臂中的从开口延伸的通道，开口定位成足够靠近喷嘴，使得来自喷嘴的冷却剂流体流从开口夹带空气。

公开(公告)号：CN114206552A

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN202080056668.1

申请日：2020-08-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 吴昊晟 ,  H·桑达拉拉贾恩 ,  唐建设 ,  张寿松 ,  B·J·布朗 ,  Y-C·杨 ,  Y·王 ,  R·巴贾杰

IPC: B24B37/015 ,  B24B49/14 ,  B24B57/02

Abstract: 一种化学机械抛光系统包括：平台，所述平台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；加热流体的源；储藏室，所述储藏室用于保持抛光液体；以及配给器，所述配给器具有悬吊在平台之上的一个或多个孔，以将抛光液体引导至抛光表面上，其中加热流体的源耦合至配给器，并且配置成在抛光液体离开储藏室之后并且在抛光液体被配给至抛光表面上之前将加热流体传输至抛光液体中以加热抛光液体。

公开(公告)号：CN113874164A

公开(公告)日：2021-12-31

申请号：CN202080038936.7

申请日：2020-05-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 吴昊晟 ,  唐建设 ,  H·桑达拉拉贾恩 ,  张寿松 ,  陈辉 ,  卓志忠 ,  A·J·菲舍 ,  P·D·巴特菲尔德

IPC: B24B37/005 ,  B24B37/34 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

Abstract: 一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。

公开(公告)号：CN105659362A

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201480057444.7

申请日：2014-09-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈志宏 ,  P·D·巴特菲尔德 ,  张寿松

IPC: H01L21/304

Abstract: 一种抛光模块，所述抛光模块包含：卡盘，所述卡盘具有基板接收表面和周界；以及一个或更多个抛光垫，所述一个或更多个抛光垫绕所述卡盘的所述周界定位，其中所述一个或更多个抛光垫的每一个邻近所述卡盘的所述基板接收表面、以挥扫图案是可以动的，并且所述抛光垫在径向移动上被限制为约小于从所述卡盘的所述周界测量的所述卡盘的半径的二分之一。