面向微加工的竖直稳定加载对称型微悬臂设计及应用方法

    公开(公告)号:CN110110399B

    公开(公告)日:2020-12-25

    申请号:CN201910316977.7

    申请日:2019-04-19

    Abstract: 本发明公开了面向微加工的竖直稳定加载对称型微悬臂设计及应用方法,主要包括以下步骤:设计满足竖直加载要求的微悬臂方案;测量传统矩形微悬臂的尺寸,根据测量数据进行对称型悬臂尺寸设计,并以截面惯性矩、悬臂长度为变量,以弹性系数及应力值为结果,利用有限元仿真分析,建立尺寸数据库;基于检测仪器精度、实验台空间、材料应力极限、悬臂使用频率等条件选择数据库中满足要求的尺寸;采用本发明提出的方法设计、加工出的悬臂,能实现微悬臂的竖直加载,消除水平滑移,提高了采用微悬臂结构的扫描探针加工技术的测量与加工精度,为微纳加工产品质量提供了技术支持。

    一种内应力可调控微夹具装置

    公开(公告)号:CN111326383A

    公开(公告)日:2020-06-23

    申请号:CN202010151424.3

    申请日:2020-03-06

    Abstract: 本发明公开了一种内应力可调控微夹具装置,包括夹具座、滑动块和螺旋测微头,滑动块和螺旋测微头均活动设置在夹具座上,夹具座两侧设置有挡板一和挡板二,夹具座上设置有梯形滑槽,梯形滑槽一侧设置有销钉孔,挡板一上镜像分布有两个三角形凹槽,挡板二上设置有螺纹孔,螺旋测微头可带动滑动块滑动;滑动块包括上挡板和下滑块,上挡板设置有反向三角形凹槽,下滑块一端侧壁上设置有与销钉相匹配的固定槽;夹具座和滑动块之间相对应的三角形凹槽中设置有弹簧片。本发明结构简单,使用便捷,在尺寸和重量受限的情况下,实现样品弯曲程度的可调控,从而实现样品实时弯曲和对应内应力状态的精准调控,获取更准确的实验数据。

    一种源于石墨烯边缘的微纳结构扫描探针加工方法

    公开(公告)号:CN111060720A

    公开(公告)日:2020-04-24

    申请号:CN201911364182.X

    申请日:2019-12-26

    Abstract: 本发明公开一种源于石墨烯边缘的微纳结构扫描探针加工方法,应用于石墨烯微纳加工领域,针对现有技术不能完全满足对未来柔性器件的高可靠,高稳定和低成本的极限加工要求;本发明选用具有较强表面化学活性的探针作为加工工具,按照设定加工轨迹从石墨烯边缘向内部进行刻划加工,利用刻划加工过程中探针与石墨烯边缘碳原子之间的摩擦化学反应,在低于石墨烯机械破坏强度的低接触压力下去除接触区域碳原子,采用本发明方法加工的微纳结构的机械和电学性能与石墨烯基体一致。

    一种基于原子力显微镜的旋转样品台装置

    公开(公告)号:CN109917156A

    公开(公告)日:2019-06-21

    申请号:CN201910257419.8

    申请日:2019-04-01

    Abstract: 本发明公开一种基于原子力显微镜的旋转样品台装置,其包括:顶盖、薄环体、底座、销钉和弹簧片,底座固定于原子力显微镜置物台,多片薄环体与底座固定连接,顶盖与薄环体、底座形状配合,通过转动顶盖带动样品自由旋转,弹簧片依次拨过不同的凸齿,实现精确的小角度的转动,销钉、弹簧提供定位的辅助功能;该装置能够适用于原子力显微镜狭小低矮的样品放置空间,在尺寸、重量严格受限的情况下,给样品提供一个额外的旋转角度标尺,并具有自锁功能,在不影响显微镜正常工作的前提下,增添原子力显微镜的功能,拓展它的运用场合与研究范围。

    基于微悬臂投影的光电式气敏传感器

    公开(公告)号:CN105973952B

    公开(公告)日:2018-10-19

    申请号:CN201610392191.X

    申请日:2016-06-01

    Abstract: 一种基于微悬臂投影的光电式气敏传感器,包括不透明的矩形壳体(9)、封装在矩形壳体(9)底部的芯片和矩形壳体(9)侧壁上部固定的光源(8);其中,所述的芯片依次由基底(1)、下绝缘材料层(2)、光敏材料层(3)、微悬臂结构层(5)组成;其特征在于:所述的微悬臂结构层(5)的中部和上绝缘材料层(4)的中部为贯通的矩形空腔;矩形空腔内的矩形质量块(7a)通过条状的微悬梁(7b)连接在微悬臂结构层(5)靠近光源(8)一侧的空腔壁上,构成异形微悬臂;且矩形质量块(7a)的表面沉积了一层气敏材料层(7c)。该种光电式气敏传感器灵敏度高、分辨率好、响应快、成本低、且使用寿命长。

    一种基于导电性变化的单晶硅表面机械损伤的检测方法

    公开(公告)号:CN108333390A

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:CN201810076164.0

    申请日:2018-01-26

    Abstract: 本发明公开了一种基于导电性变化的单晶硅表面机械损伤的检测方法,包括以下步骤:首先将清洁、干燥的待检测的单晶硅片放入导电原子力显微镜样品腔内,并对待检测的损伤区域进行扫描,获得表面形貌图和电流分布图;再对比分析扫描结果,并寻找单晶硅表面机械损伤位置,得出检测结果。本发明所提供的一种基于导电性变化的单晶硅表面机械损伤的检测方法中,采用原子力显微镜的微针尖进行扫描检测,接触压力远小于单晶硅的屈服时的临界接触压力,不会对样品造成损坏。本发明适用于检测单晶硅表面在切削、研磨、抛光等机械加工过程中所产生的机械损伤。

    一种可应用于酸碱环境中的原子力显微镜液下针尖支架

    公开(公告)号:CN103529245A

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201310486043.0

    申请日:2013-10-16

    Abstract: 一种可应用于酸碱环境中的原子力显微镜液下针尖支架,其探针固定盘上表面的槽为矩形槽,探针固定线为耐腐蚀和透明片均为耐腐蚀材料制成;探针固定盘下表面安装有横跨凸台的弹性的探针固定线,其具体结构是:探针固定线的前端插入探针固定盘的前通孔,前通孔的外端插入的销钉与探针固定线的端部紧配合;探针固定线的后端依次穿入探针固定盘后通孔的内端、弹簧和活动销的内腔,活动销的内腔外端插入的销钉与探针固定线的端部紧配合。使用该支架可使原子力显微镜在酸碱环境下对样品进行纳米尺度的形貌检测和相关加工实验;且探针固定线可拆卸更换,显微镜的使用维护成本低;透明片在使用过程中不会发生偏移,保证显微观察、分析和加工的结果正确。

    一种改性聚α-烯烃、制备方法及应用

    公开(公告)号:CN119192701A

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202411542943.7

    申请日:2024-10-31

    Abstract: 本发明公开了一种改性聚α‑烯烃、制备方法及应用,涉及有机高分子化合物和化工技术领域,本发明通过在聚α‑烯烃中添加改性羧基化纤维素纳米纤维颗粒和聚四氟乙烯纳米颗粒进行改性,有效提升了聚α‑烯烃在多孔聚酰亚胺材料中的保油率,特别是针对于轴承的高速运转条件下,同时改性后的润滑油可以有效减少接触界面的摩擦磨损,提升多孔聚酰亚胺材料的摩擦性能。在高速运转(≥6000rpm)条件下保油率提升105‑125%,相同滑动摩擦实验条件下,界面摩擦系数降低10%‑25%,多孔聚酰亚胺材料磨损量减少55%‑68%,对磨副钢球磨损量减少52%‑70%,同时多孔聚酰亚胺界面摩擦发黑现象得到有效抑制。

    一种实现异质结构表面硅材料高效选择性去除的抛光液

    公开(公告)号:CN118165652A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202410291536.7

    申请日:2024-03-14

    Abstract: 本发明公开了一种实现异质结构表面硅材料高效选择性去除的抛光液,包括0~40wt%的研磨颗粒、0.01~15wt%的抛光增速剂、0~5wt%的复配选择吸附剂、去离子水和pH值调节剂,pH值调节剂用于调节抛光液的pH值为6~11.5,wt%表示质量百分比。本发明所提供的一种实现异质结构表面硅材料高效选择性去除的抛光液,通过添加一定质量分数的抛光增速剂和对底层材料具有选择吸附性的复配选择吸附剂,使得异质结构表面硅材料获得每分钟超过微米级的材料去除速率和具有亚纳米精度的硅表面,并实现对底层氮化硅/氧化硅/金属铜材料的高去除选择比,有效提升了异质结构表面硅材料的抛光效率、半导体器件的成品率和可靠性,并提供该抛光液的应用方法。

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