自选择存储器件和包括其的存储装置

    公开(公告)号:CN118695600A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202410330568.3

    申请日:2024-03-22

    Abstract: 提供了一种具有极性相关阈值电压偏移特性的自选择存储器件和/或包括该自选择存储器件的存储装置。该存储器件包括第一电极、远离并面对第一电极的第二电极、以及在第一电极和第二电极之间的存储层。存储层具有双向阈值开关特性,并且被配置为使得存储层的阈值电压随着存储层中的活性陷阱的密度改变而改变,阈值电压根据施加到存储层的偏压的极性和强度而改变。此外,元素成分分布被配置为响应于存储层的阈值电压改变而在存储层中保持恒定。

    可变电阻存储器件
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107665947B

    公开(公告)日:2022-06-21

    申请号:CN201710631798.3

    申请日:2017-07-28

    Abstract: 本公开涉及可变电阻存储器件。一种可变电阻存储器件可以包括:第一电极层;在第一电极层上的选择器件层,该选择器件层包括基本上由锗(Ge)、硒(Se)和锑(Sb)组成的硫属元素化物开关材料,其中基于原子百分比,Ge的含量小于Se的含量;在选择器件层上的第二电极层;在第二电极层上的可变电阻层,可变电阻层包括硫属元素化物材料;以及在可变电阻层上的第三电极层。

    半导体装置
    23.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN114566591A

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN202110935795.5

    申请日:2021-08-16

    Abstract: 提供了一种包括多个半导体单元器件的半导体装置。每个半导体单元器件可以布置于在垂直于衬底的方向上彼此分开的第一绝缘层和第二绝缘层之间。每个半导体单元器件可以包括在平行于衬底的方向上并排延伸的选择器件层和相变材料层。相变材料层可以具有类超晶格结构。相变材料层可以沿着由第一绝缘层、第二绝缘层和选择器件层形成的凹陷部分布置。

    可变电阻存储器件
    25.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107123734B

    公开(公告)日:2022-05-10

    申请号:CN201710089322.1

    申请日:2017-02-20

    Abstract: 一种可变电阻存储器件包括:选择图案;中间电极,接触选择图案的第一表面;可变电阻图案,相对于选择图案在中间电极的相反侧;以及第一电极,接触选择图案的第二表面并包括n型半导体材料,选择图案的第二表面与其第一表面相反。

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