存储器装置
    2.
    发明公开
    存储器装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115707257A

    公开(公告)日:2023-02-17

    申请号:CN202210876277.5

    申请日:2022-07-25

    Abstract: 提供了一种存储器装置,所述存储器装置包括位于基底上并且在第一方向上延伸的多条第一导线、位于多条第一导线上并且在与第一方向交叉的第二方向上延伸的多条第二导线以及分别位于多条第一导线与多条第二导线之间的多个存储器单元。多个存储器单元中的每个包括开关元件和可变电阻材料层。开关元件包括具有[GeXPYSeZ](1‑W)[O]W的组成的材料,其中0.15≤X≤0.50,0.15≤Y≤0.50,0.35≤Z≤0.70,并且0.01≤W≤0.10。

    非易失性存储器件
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109698214A

    公开(公告)日:2019-04-30

    申请号:CN201811240519.1

    申请日:2018-10-23

    Abstract: 一种非易失性存储器件,包括:衬底、所述衬底上的第一电极、所述衬底上的第二电极、所述第一电极与所述第二电极之间的选择元件层、以及接触所述第一电极和所述第二电极中的任何一个电极的存储层。所述第一电极在第一方向上具有第一宽度。所述第二电极在垂直于所述第一方向的第二方向上与所述第一电极间隔开。所述第二电极在所述第一方向上具有第二宽度。所述选择元件层包括接触所述第一电极的第一掺杂层。所述第一掺杂层包括第一浓度的杂质。所述选择元件层包括接触所述第二电极的第二掺杂层。所述第二掺杂层包括低于所述第一浓度的第二浓度的所述杂质。

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