自选择存储器件和包括其的存储装置

    公开(公告)号:CN118695600A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202410330568.3

    申请日:2024-03-22

    IPC分类号: H10B41/35 H10B43/35

    摘要: 提供了一种具有极性相关阈值电压偏移特性的自选择存储器件和/或包括该自选择存储器件的存储装置。该存储器件包括第一电极、远离并面对第一电极的第二电极、以及在第一电极和第二电极之间的存储层。存储层具有双向阈值开关特性,并且被配置为使得存储层的阈值电压随着存储层中的活性陷阱的密度改变而改变,阈值电压根据施加到存储层的偏压的极性和强度而改变。此外,元素成分分布被配置为响应于存储层的阈值电压改变而在存储层中保持恒定。

    图像传感器、制造其的方法和包括其的成像装置

    公开(公告)号:CN110349992B

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN201811086256.3

    申请日:2018-09-18

    IPC分类号: H10K39/32 H01L27/146

    摘要: 提供了图像传感器、制造其的方法和包括其的成像装置。图像传感器可以包括:多个光检测元件,布置为与多个像素区域对应;滤色器层,在所述多个光检测元件上并且包括布置为与所述多个光检测元件对应的多个滤色器;以及光电二极管器件部分,在滤色器层上。光电二极管器件部分可以具有弯曲结构。光电二极管器件部分可以包括基于有机材料的光电二极管层、在光电二极管层与滤色器层之间的第一电极、以及在光电二极管层上的第二电极。光电二极管器件部分可以具有分别对应于所述多个滤色器的弯曲凸起结构。

    防止莫尔可见性的图案结构和使用该图案结构的显示装置

    公开(公告)号:CN109524436B

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN201811091535.9

    申请日:2018-09-18

    IPC分类号: H10K59/10

    摘要: 提供了一种用于防止莫尔图案变得可见的图案结构,以及使用该图案结构的显示装置。图案结构包括:第一元件图案,包括以第一间距规则排列的多个第一元件;第二元件图案,包括以第二间距规则排列的多个第二元件,第二元件图案设置在第一元件图案上;以及填充层,被配置为填充多个第二元件中的相邻第二元件之间的间隙。第二元件的透射率和填充层的透射率之间的差异为约5%或更小,因此,可以防止由于第一元件图案与第二元件图案的交叠而产生的莫尔图案变得可见。