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公开(公告)号：CN113818007A
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202110191386.9
申请日：2021-02-19
Applicant: 三星电子株式会社 , 仁川大学教产学协力团
IPC: C23C16/455 , C23C16/40
Abstract: 提供了使用原子层沉积填充间隙的方法和设备。该方法包括通过将反应抑制剂吸附到间隙的侧壁上而形成第一反应抑制层、通过将第一反应物吸附到间隙的底部和间隙的在间隙的底部周围的侧壁上而形成第一前体层、以及在间隙的底部和间隙的在间隙的底部周围的侧壁上形成第一原子层。反应抑制剂包括不与第二反应物反应的前体材料。第一反应抑制层具有其中反应抑制剂的密度朝向间隙的底部减小的密度梯度。形成第一原子层包括将第二反应物吸附到第一前体层上。
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公开(公告)号：CN101144977B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN200710096093.2
申请日：2007-04-13
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B29C59/022 , B29C33/424 , B29C33/56 , B29C35/0888 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 提供了一种纳米压印模子及其制造方法，其能够用于将纳米级结构复制到聚合物薄膜。所述纳米压印模子包括：基板，由能够穿过紫外线的材料制成；形成在所述基板上的含有凸凹图案的图案部分，该图案部分由紫外线固化聚合物制成；在所述图案部分的表面上的硬化层，所述硬化层由具有比所述图案部分更高的硬度的材料形成；以及形成在所述硬化层的表面上的分离层，该分离层有助于将聚合物薄膜与其分离。在本发明的纳米压印模子中，甚至可以将原始图案均匀复制在具有不规则表面的基板上。此外，能够防止图案被压力所损坏以及被合成树脂所污染，导致了更高的精度和图案的耐久性。
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公开(公告)号：CN101174416A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200710140113.1
申请日：2007-08-02
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B6/125 , B82Y10/00 , G02B6/305 , G11B5/314 , G11B7/124 , G11B7/1387 , G11B11/10532 , G11B2005/0005 , G11B2005/0021
Abstract: 提供一种弯曲波导管，其包括：核，具有输入端和输出端，其中，输出端具有近场增强孔结构；金属包层，包围所述核。所述核被弯曲为曲形，所述曲形的曲率半径是透射光的强度相对于入射光的波长为最大时的谐振半径。因此，可将入射光的方向改变预定角度，同时保持传统近场增强孔的场增强特性，而不需要另外的光学元件。
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公开(公告)号：CN101136207A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710005836.0
申请日：2007-02-25
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G11B5/314 , G11B2005/0021 , Y10T29/49812 , Y10T428/12361
Abstract: 本发明涉及具有孔洞的金属层及其形成方法、包括该具有孔洞的金属层的光传送模块、以及包括该模块的热辅助磁记录头。该金属层的孔洞具有不同大小的入口和出口，且还具有弯曲的侧表面。另外，该光传送模块在其输出端包括该金属层，且该热辅助磁记录头包括作为光学加热单元的该光传送模块。
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公开(公告)号：CN1551159A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410045118.2
申请日：2004-05-09
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G11B7/1353 , G11B7/123 , G11B7/22
Abstract: 提供一种集成光学拾取器及其制造方法，以及包括该光学拾取器的光学信息存储系统。集成光学拾取器包括：光源；主光探测器，用于接收由光源发射以及从信息存储介质反射的光；聚光和光路分离元件，用于将由光源发射的光聚焦在光学存储介质上并将入射在光学信息存储介质上的光的光路和由光学信息存储介质反射的光的光路分离；和光具座，其联结至聚光和光路分离元件，光路形成于光源和主光探测器、和聚光和光路分离元件之间，且光具座和聚光和光路分离元件分别形成于晶片上接着通过分离成多个组件获得。超小集成光学拾取器和包括光学拾取器的光学信息存储系统可以低成本批量地制造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1499235A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN03147635.X
申请日：2003-07-15
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B3/08 , G02B5/1814 , G02B27/4238 , G11B7/1367 , G11B7/1374
Abstract: 本发明公开了一种具有高数值孔径的混合透镜，该混合透镜包括使入射光折射的折射表面和使出射透镜的光衍射的衍射表面，上述衍射表面具有满足下式的弛垂度(sag)：其中fD是从混合透镜的中心最高点到焦点间的距离；r是从混合透镜的中轴到每个最高点的高度；n是混合透镜的折射率；λ是入射光的波长；而m是一整数。该混合透镜尺寸小、重量轻，且能够消除色差。
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公开(公告)号：CN105590665A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201510770231.5
申请日：2015-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01B1/22 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C23F1/32 , D06M15/564 , D06M23/005 , D06M2101/00 , G06F3/041 , G06F3/0412 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , H01L29/0673 , H01L29/413 , H01L31/022491 , H01L33/42 , H01B5/14 , H01B13/00
Abstract: 实例实施方式涉及纳米结构体、其制备方法及包括该纳米结构体的面板单元，所述纳米结构体包括导电区和非导电区，其中所述导电区包括至少一根第一纳米线，和所述非导电区包括至少一根至少部分地截断的第二纳米线。
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公开(公告)号：CN101377618B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN200810130342.X
申请日：2008-07-11
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供一种双面压印光刻系统，该双面压印光刻系统包括：介质支撑单元，支撑介质，其中，所述介质的两个表面涂覆有紫外(UV)硬化树脂；第一模具支撑单元和第二模具支撑单元，分别支撑第一模具和第二模具，并分别设置在介质支撑单元之上和之下；竖直运动装置，使介质支撑单元、第一模具支撑单元和第二模具支撑单元中的至少一个竖直地运动；第一UV照射装置，安装在第一模具支撑单元之上，以照射UV光线；第二UV照射装置，安装在第二模具支撑单元之下，以照射UV光线。
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公开(公告)号：CN101201538A
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200710194762.X
申请日：2007-12-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F1/14 , G03F1/00 , G03F7/00 , G03F9/00 , H01L23/544
CPC classification number: G03F9/7084 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7076 , G03F9/708 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供了一种图案模板及其制造方法，该图案模板包括柔性基底、形成在柔性基底上并包括图案的模板模子和对准标记，对准标记的折射率大于模板模子的折射率。通过提供包括图案区的主模板、在图案区涂覆用于模子的树脂、通过在用于模子的树脂上安装柔性板并通过照射UV射线固化用于模子的树脂来形成模板模子、将模板模子与主模板分离、在模板模子上涂覆薄的金属膜并在模板模子的两侧均形成对准标记，来制造该图案模板。
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