图像传感器的制造方法以及在该方法中使用的层叠型耐热性保护带

    公开(公告)号:CN103779370A

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201310498801.0

    申请日:2013-10-22

    Abstract: 本发明涉及图像传感器的制造方法以及在该方法中使用的层叠型耐热性保护带,所述制造方法可以实现优异的生产效率。本发明的制造方法包括:[工序A],在玻璃板的一个面上贴附具备第1基材层和在其一个面上层叠的第1粘合剂层的耐热性保护带,使得该第1粘合剂层位于该玻璃板侧;[工序B],将该玻璃板切割成规定的尺寸,得到贴附有该耐热性保护带的玻璃盖片;以及[工序C],在收纳有固态摄像元件的封装体的光接收面上设置该玻璃盖片,使得贴附有该耐热性保护带的一侧的面成为外侧。

    半导体装置的制造方法、工件一体化装置、薄膜层叠体和半导体装置

    公开(公告)号:CN115719727A

    公开(公告)日:2023-02-28

    申请号:CN202210963971.0

    申请日:2022-08-11

    Abstract: 本发明提供半导体装置的制造方法、工件一体化装置、薄膜层叠体和半导体装置,在将半导体元件安装于基板来制造半导体装置时能在避免基板损伤的同时防止基板产生翘曲并能提高半导体装置的制造效率。具有安装于工件的半导体元件(7)被密封材料(9)密封的构造的半导体装置(11)的制造方法具备:工件载置过程,在该过程中,将工件载置于在承载件(1)上层叠用于保持工件的保持薄膜而成的薄膜层叠体的保持薄膜侧;元件安装过程,在该过程中,在被载置于薄膜层叠体的工件上安装半导体元件;密封过程,在该过程中,利用密封材料将安装于工件的半导体元件密封;以及脱离过程,在该过程中,使工件和被密封材料密封的半导体元件脱离薄膜层叠体。

Patent Agency Ranking