粘合片粘贴方法、粘合片粘贴装置和半导体产品的制造方法

    公开(公告)号:CN113782478A

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202110597940.3

    申请日:2021-05-31

    Abstract: 本发明提供能够相对于形成有环状凸部的半导体晶圆的环状凸部形成面精度良好地粘贴粘合片并能更可靠地避免在该半导体晶圆产生损伤的粘合片粘贴方法、粘合片粘贴装置和半导体产品的制造方法。该粘合片粘贴方法具备粘贴过程,在该粘贴过程中,通过对在一个面的外周具有环状凸部(Ka)的晶圆(W)的环状凸部形成面附着有粘合片(DT)而构成的片复合体(M)施加比大气压高的压力,从而将粘合片(DT)粘贴于晶圆(W)的环状凸部形成面。在粘贴过程中,能够对粘合片(DT)施加足够大的按压力(V1),因此能够大大提高粘合片(DT)与晶圆(W)的密合力。因此,即使在经过了时间的情况下也能够避免粘合片(DT)从晶圆(W)剥离。

    粘合带粘贴装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117995741A

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202311210398.7

    申请日:2023-09-19

    Abstract: 本发明提供一种能够对工件更加精度良好地粘贴粘合带的粘合带粘贴装置。对于对工件(W)粘贴粘合带(PT)的粘合带粘贴装置(1),具备:保持台(13),其保持工件(W)的被保持面(Wb);腔室(29),其收纳保持台(13),通过利用上外壳(29B)和下外壳(29A)夹入输送用片(T)而将该腔室(29)划分成上空间(H2)和下空间(H1);以及粘贴单元(9),其在上空间(H2)与下空间(H1)之间产生压差(Gs),利用该压差(Gs)将粘合带(PT)粘贴于工件(W),保持台(13)具备:工件支承部(39),其由刚体构成,支承工件(W);和凹部(41),其防止工件(W)以倾斜着的状态被保持。

    工件处理方法和工件处理装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117542782A

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202310831242.4

    申请日:2023-07-07

    Abstract: 本发明提供在以利用支承体支承工件的状态进行各种处理的结构中能够防止工件产生不良且使工件容易地脱离支承体的工件处理方法和工件处理装置。工件处理方法具备:将由保持工件(W)的保持薄膜(3)层叠在承载件(1)之上而成的薄膜层叠体(5)载置于支承台的过程;将工件(W)载置于薄膜层叠体(5)中的保持薄膜(3)侧而使工件(W)保持于保持薄膜(3)的过程;对工件(W)进行预定处理的过程;以及使工件(W)脱离薄膜层叠体(5)的过程,保持薄膜(3)由包含有机硅化合物、氟化合物或聚酰亚胺的多孔体构成。

    粘合片粘贴方法、粘合片粘贴装置和半导体产品的制造方法

    公开(公告)号:CN113782477A

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202110584797.4

    申请日:2021-05-27

    Abstract: 本发明提供能够相对于形成有环状凸部的半导体晶圆的环状凸部形成面精度良好地粘贴粘合片并能更可靠地避免在半导体晶圆产生损伤的粘合片粘贴方法、粘合片粘贴装置和半导体产品的制造方法。该粘合片粘贴方法具备:第1粘贴过程,在该第1粘贴过程中,将粘合带(DT)和在一个面的外周具有环状凸部(Ka)的晶圆(W)收纳于腔室(29),在将腔室(29)的内部空间减压了的状态下使粘合带(DT)接触于晶圆(W)的环状凸部形成面,由此利用粘合带(DT)覆盖该环状凸部形成面;以及第2粘贴过程,该第2粘贴过程是在该第1粘贴过程之后,通过提高腔室(29)的内部空间的压力,从而将粘合带(DT)粘贴于晶圆(W)的环状凸部形成面。

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