公开(公告)号：CN118805246A

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202380025270.5

申请日：2023-03-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 王颖 ,  戴寻东 ,  徐源辉 ,  王瑞萍 ,  M·R·赖斯 ,  H·K·博尼坎帝 ,  N·迈蒂

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 用于延长通过保存等离子体活化的混合接合的基板队列时间的装置。在一些实施例中，装置可包括：环境可控空间，具有用于固持管芯或基板的支撑件；使一种或多种气体横跨支撑件再循环的气体速度加速器；过滤器；流体地连接至环境可控空间的加湿器装置，其中加湿器装置实现环境可控空间内的可控湿度水平；在输出上流体地连接至加湿器装置并且在输入上流体地连接至至少一个气体供应器的加压装置；定位在环境可控空间内的相对湿度(RH)传感器；以及至少与加湿器装置和RH传感器通信的环境控制器，其中环境控制器被配置为维持大约80％至大约95％的RH水平。

公开(公告)号：CN113508191B

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN202080017675.0

申请日：2020-02-27

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·阿加瓦尔 ,  S·巴录佳 ,  C·彼德森 ,  M·R·赖斯

IPC: C23C16/455

Abstract: 一种用于处理腔室的喷淋头组件的气体分布板可包括至少第一板及第二板。该第一板可包括第一多个孔洞，该第一多个孔洞各自具有至少大约100um的直径。该第二板可包括第二多个孔洞，该第二多个孔洞各自具有至少大约100um的直径。进一步，该第一多个孔洞中的每一个与该第二多个孔洞中的相应孔洞对准而形成多个互连孔洞。该多个互连孔洞中的每一个与每一个其他互连孔洞隔离。

公开(公告)号：CN117026202A

公开(公告)日：2023-11-10

申请号：CN202311076661.8

申请日：2019-07-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 邬笑炜 ,  J·Y·孙 ,  M·R·赖斯

IPC: C23C16/30 ,  C23C16/455

Abstract: 本公开的实施例涉及制品、被涂覆的制品以及用含稀土金属的氟化物涂层来涂覆这类制品的方法。所述涂层可至少包含已经被共沉积至所述制品的表面上的第一金属(例如，稀土金属、钽、锆等)和第二金属。所述涂层可包括第一金属和第二金属的均匀混合物，且不包含涂层中的层之间的机械分离。

公开(公告)号：CN110735128B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN201910653590.0

申请日：2019-07-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 邬笑炜 ,  J·Y·孙 ,  M·R·赖斯

IPC: C23C16/30 ,  C23C16/455

Abstract: 本公开的实施例涉及制品、被涂覆的制品以及用含稀土金属的氟化物涂层来涂覆这类制品的方法。所述涂层可至少包含已经被共沉积至所述制品的表面上的第一金属(例如，稀土金属、钽、锆等)和第二金属。所述涂层可包括第一金属和第二金属的均匀混合物，且不包含涂层中的层之间的机械分离。

公开(公告)号：CN110735129A

公开(公告)日：2020-01-31

申请号：CN201910663555.7

申请日：2019-07-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 邬笑炜 ,  J·Y·孙 ,  M·R·赖斯

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455

Abstract: 本公开的实施例涉及制品、被涂覆的制品以及用含稀土金属的氧化物涂层来涂覆这类制品的方法。所述涂层可至少包含已经被共沉积至所述制品的表面上的第一金属(例如，稀土金属、钽、锆等)和第二金属。所述涂层可包括第一金属和第二金属的均匀混合物，且不包含涂层中的层之间的机械分离。

公开(公告)号：CN108369922A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680067775.8

申请日：2016-12-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·R·赖斯 ,  Y·萨罗德维舍瓦纳斯 ,  S·斯里尼瓦杉 ,  R·丁德萨 ,  S·E·巴巴扬 ,  O·卢艾莱 ,  D·M·库萨 ,  I·尤瑟夫

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68735 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/68742

Abstract: 在本文中描述了包括可调整高度的边缘环的装置及用于使用该装置的方法。在一个示例中，基板支撑组件包括可调整高度的边缘环，且基板支撑组件定位在处理腔室内。基板支撑组件包括静电夹盘、定位在该静电夹盘的一部分上的边缘环以及用以透过一或更多个推动销调整边缘环的高度的一或更多个致动器。可调整高度的边缘环可用以补偿边缘环随时间的腐蚀。此外，可在不将处理腔室排气及不开启处理腔室的情况下透过狭缝阀开口从处理腔室移除可调整高度的边缘环。可通过该一或更多个致动器来倾斜可调整高度的边缘环，以改良基板边缘处的方位均匀性。

公开(公告)号：CN114921770A

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN202210350903.7

申请日：2019-04-04

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 邬笑炜 ,  J·Y·孙 ,  M·R·赖斯

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455

Abstract: 本文公开一种在制品的表面上的具有一个或多个中断层以控制晶体生长的稀土氧化物涂层及其形成方法。所述涂层可以通过原子层沉积和/或通过化学气相沉积来沉积。本文公开的所述涂层中的稀土氧化物可以具有与所述一个或多个中断层的原子晶相或非晶相不同的原子晶相。

公开(公告)号：CN110344024B

公开(公告)日：2022-04-08

申请号：CN201910274732.2

申请日：2019-04-04

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 邬笑炜 ,  J·Y·孙 ,  M·R·赖斯

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455

Abstract: 本文公开一种在制品的表面上的具有一个或多个中断层以控制晶体生长的稀土氧化物涂层及其形成方法。所述涂层可以通过原子层沉积和/或通过化学气相沉积来沉积。本文公开的所述涂层中的稀土氧化物可以具有与所述一个或多个中断层的原子晶相或非晶相不同的原子晶相。

公开(公告)号：CN113508191A

公开(公告)日：2021-10-15

申请号：CN202080017675.0

申请日：2020-02-27

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·阿加瓦尔 ,  S·巴录佳 ,  C·彼德森 ,  M·R·赖斯

IPC: C23C16/455

Abstract: 一种用于处理腔室的喷淋头组件的气体分布板可包括至少第一板及第二板。该第一板可包括第一多个孔洞，该第一多个孔洞各自具有至少大约100um的直径。该第二板可包括第二多个孔洞，该第二多个孔洞各自具有至少大约100um的直径。进一步，该第一多个孔洞中的每一个与该第二多个孔洞中的相应孔洞对准而形成多个互连孔洞。该多个互连孔洞中的每一个与每一个其他互连孔洞隔离。

公开(公告)号：CN111293023A

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201911094493.9

申请日：2019-11-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·R·赖斯 ,  V·D·帕科

IPC: H01J37/32

Abstract: 本文公开了一种衬底支撑组件，所述衬底支撑组件具有沿着所述衬底支撑组件的侧表面设置在所述衬底支撑组件中的接地电极网。所述衬底支撑组件具有主体。所述主体具有外顶表面、外侧表面和外底表面，所述外顶表面、所述外侧表面和所述外底表面包围所述主体的内部。所述主体具有接地电极网，所述接地电极网设置在所述主体的所述内部中并邻近所述外侧表面，其中所述接地电极不延伸通过到所述外侧顶表面或所述外侧表面。